本發(fā)明涉及真空蒸發(fā)鍍膜領(lǐng)域，尤其涉及一種蒸鍍源、蒸鍍裝置及蒸鍍方法。

背景技術(shù)：

真空蒸發(fā)鍍膜是指在真空環(huán)境中，將待成膜物質(zhì)加熱蒸發(fā)或升華后，使其在低溫工件或基片表面凝結(jié)或沉積，以形成鍍層的工藝。待成膜物質(zhì)在蒸鍍坩堝內(nèi)部加熱蒸發(fā)或升華后，上升并通過蒸鍍坩堝上方的蒸鍍出口發(fā)出，待蒸鍍基板靜止固定于蒸鍍出口位置處或勻速通過蒸鍍出口，蒸發(fā)出的待成膜物質(zhì)離開蒸鍍坩堝的加熱后逐漸降溫，蒸發(fā)運動的速度也逐漸降低，最終在待蒸鍍基板的表面沉積形成膜層。

對于有機顯示器件，例如有機電致發(fā)光顯示器件(organiclight-emittingdiode，oled)，其多層的有機薄膜疊層通常就是使用上述真空蒸發(fā)鍍膜的方式進行蒸鍍成膜的。

待成膜的蒸鍍材料的氣化蒸發(fā)速率與蒸鍍坩堝內(nèi)部的加熱溫度成正比例關(guān)系，蒸鍍坩堝內(nèi)部的加熱溫度越高，熱量傳遞的速度越快，則蒸鍍材料氣化蒸發(fā)的速率越高。在蒸鍍坩堝內(nèi)部的蒸鍍材料開始氣化蒸發(fā)后，固體狀態(tài)的蒸鍍材料逐漸減少，使得蒸鍍坩堝的內(nèi)部空間增大，蒸鍍坩堝內(nèi)部的蒸汽壓會隨著蒸鍍坩堝內(nèi)部的擴散空間的增大而降低，從而使得蒸鍍材料氣化蒸發(fā)的速率下降。為了使蒸鍍材料的氣化蒸發(fā)始終保持固定的速率，就需要隨著蒸鍍材料的蒸發(fā)時間而不斷的提高蒸鍍坩堝內(nèi)部的加熱溫度。但是，對于有機蒸鍍材料來說，加熱溫度過高，會增加材料分解變質(zhì)的幾率，待成膜的有機蒸鍍材料一旦分解變質(zhì)，變質(zhì)的材料蒸發(fā)后在待蒸鍍基板上形成的膜層通常難以達到預(yù)期的光電特性，甚至可能導致無法在待蒸鍍基板上沉積成膜，使得整個oled器件失效。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明實施例提供一種蒸鍍源、蒸鍍裝置及蒸鍍方法，能夠解決現(xiàn)有的蒸鍍坩堝在蒸鍍材料氣化蒸發(fā)使得內(nèi)部擴散空間增大進而導致蒸發(fā)速率下降而影響蒸鍍效果的問題。

為達到上述目的，本發(fā)明的實施例采用如下技術(shù)方案：

本發(fā)明實施例的一方面，提供一種蒸鍍源，包括：蒸鍍坩堝；活動臺，設(shè)置在蒸鍍坩堝內(nèi)，活動臺至少包括底板，用于放置蒸鍍材料，活動臺與蒸鍍坩堝的側(cè)面以及上表面包圍形成蒸發(fā)空腔；移動機構(gòu)，與活動臺相連接，并可帶動活動臺在蒸鍍坩堝內(nèi)沿垂直于底板的方向移動。其中，在蒸鍍坩堝的上表面設(shè)置有蒸鍍材料出口。

進一步的，移動機構(gòu)包括伸縮部件，伸縮部件的伸縮端與活動臺相連接、固定端與蒸鍍坩堝相連接。

優(yōu)選的，移動機構(gòu)包括彈性元件，彈性元件的一端與活動臺相連接、另一端與蒸鍍坩堝相連接。

優(yōu)選的，移動機構(gòu)與蒸鍍坩堝相連接的一端，連接在蒸鍍坩堝的上表面或下表面。

進一步的，活動臺的周邊還包括有與底板固定連接的側(cè)板，其中，側(cè)板包括有多個時，相鄰的兩個側(cè)板之間相互連接。

優(yōu)選的，活動臺的材料包括磁性材料。

優(yōu)選的，移動機構(gòu)包括吸磁部件，吸磁部件設(shè)置在蒸鍍坩堝外部，通過磁力移動活動臺。

優(yōu)選的，吸磁部件包括電磁鐵或者永磁體。

本發(fā)明實施例的另一方面，提供一種蒸鍍裝置，包括至少一個上述的蒸鍍源。

本發(fā)明實施例的再一方面，提供一種蒸鍍方法，包括，加熱蒸鍍源的蒸鍍坩堝，使蒸鍍坩堝內(nèi)的蒸鍍材料受熱氣化。移動機構(gòu)帶動活動臺在蒸鍍坩堝內(nèi)沿垂直于底板的方向移動，以調(diào)節(jié)活動臺與蒸鍍坩堝的側(cè)面以及上表面共同形成的蒸發(fā)空腔的空間大小。

本發(fā)明實施例提供一種蒸鍍源、蒸鍍裝置及蒸鍍方法，包括：蒸鍍坩堝；活動臺，設(shè)置在蒸鍍坩堝內(nèi)，活動臺至少包括底板，用于放置蒸鍍材料，活動臺與蒸鍍坩堝的側(cè)面以及上表面包圍形成蒸發(fā)空腔；移動機構(gòu)，帶動活動臺在蒸鍍坩堝內(nèi)沿垂直于底板的方向移動。其中，在蒸鍍坩堝的上表面設(shè)置有蒸鍍材料出口。通過在蒸鍍坩堝內(nèi)設(shè)置可由移動機構(gòu)控制沿垂直于底板的方向移動的活動臺，活動臺與蒸鍍坩堝的側(cè)面以及上表面之間包圍形成蒸發(fā)空腔，放置在活動臺底板上的蒸鍍材料在蒸鍍坩堝加熱向上蒸發(fā)的過程中，蒸發(fā)為氣態(tài)的蒸鍍材料在蒸發(fā)空腔內(nèi)達到一定的蒸汽壓并由蒸鍍材料出口向外蒸出。通過移動機構(gòu)能夠帶動活動臺向上移動以減小蒸發(fā)空腔的空間，對蒸鍍材料蒸發(fā)減少導致的蒸發(fā)空腔的空間增大進行補償，保證蒸鍍材料的蒸發(fā)空腔空間大小不變，從而提高蒸鍍材料沉積速率的穩(wěn)定性，避免通過對蒸鍍坩堝的持續(xù)升溫來保持蒸發(fā)空腔內(nèi)的蒸汽壓時，過高的加熱溫度可能導致蒸鍍材料分解變質(zhì)的問題，提高了蒸鍍膜層的蒸鍍效果。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發(fā)明實施例提供的一種蒸鍍源的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明實施例提供的一種蒸鍍源中移動機構(gòu)包括伸縮部件的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本發(fā)明實施例提供的一種蒸鍍源中移動機構(gòu)包括彈性元件的結(jié)構(gòu)示意圖之一；

圖4為本發(fā)明實施例提供的一種蒸鍍源中移動機構(gòu)包括彈性元件的結(jié)構(gòu)示意圖之二；

圖5為本發(fā)明實施例提供的一種蒸鍍源中活動臺的周邊還包括有與底板連接的側(cè)板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖6為本發(fā)明實施例提供的一種蒸鍍源中移動機構(gòu)包括吸磁部件的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖7為本發(fā)明實施例提供的一種蒸鍍源中吸磁部件為電磁鐵或永磁體的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖8為本發(fā)明實施例提供的一種蒸鍍裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖9為本發(fā)明實施例提供的一種蒸鍍方法的流程圖。

附圖標記：

01-蒸鍍源；10-蒸鍍坩堝；20-活動臺；21-底板；22-側(cè)板；30-蒸鍍材料；40-移動機構(gòu)；41-伸縮部件；411-伸縮部件的伸縮端；412-伸縮部件的固定端；42-彈性元件；43-吸磁部件；x-蒸發(fā)空腔；a-蒸鍍材料出口。

具體實施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒景l(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。

本發(fā)明實施例提供一種蒸鍍源，如圖1所示，包括：蒸鍍坩堝10；活動臺20，設(shè)置在蒸鍍坩堝10內(nèi)，活動臺20至少包括底板21，用于放置蒸鍍材料30，活動臺20與蒸鍍坩堝10的側(cè)面以及上表面包圍形成蒸發(fā)空腔x；移動機構(gòu)40，與活動臺20相連接，并可帶動活動臺20在蒸鍍坩堝10內(nèi)沿垂直于底板21的方向移動。其中，在蒸鍍坩堝10的上表面設(shè)置有蒸鍍材料出口a。

需要說明的是，第一，如圖1所示，活動臺20至少包括有底板21，在底板21上放置蒸鍍材料30，當活動臺20僅包括底板21時，如圖1中的虛線框所示，底板21以及蒸鍍坩堝10的側(cè)面和上表面共同包圍的區(qū)域形成蒸發(fā)空腔x。對蒸鍍坩堝10進行加熱后，受熱的蒸鍍材料30升華蒸發(fā)為氣態(tài)，氣態(tài)的蒸鍍材料30即在蒸發(fā)空腔x的內(nèi)部進行擴散。在氣態(tài)蒸鍍材料30不斷升華蒸發(fā)的過程中，底板21上的蒸鍍材料30逐漸減少，這樣一來，在活動臺20位置固定的情況下，蒸發(fā)空腔x內(nèi)的蒸鍍材料30的擴散空間即逐漸增大，在逐漸增大的擴散空間內(nèi)，保持固定的加熱溫度的蒸鍍坩堝10內(nèi)的蒸鍍材料30的蒸汽壓以及蒸發(fā)速度就會逐漸下降，在此情況下，通過移動活動臺20能夠改變蒸發(fā)空腔x的空間大小，也就能夠依照蒸鍍材料30的減少速度對應(yīng)控制活動臺20的移動，以實現(xiàn)始終保持蒸發(fā)空腔x的空間大小不變以保持蒸鍍源的蒸發(fā)速率穩(wěn)定的目的。

第二，本發(fā)明實施例的蒸鍍源對于活動臺20的具體結(jié)構(gòu)不做限定，只要保證至少包括有底板21即可，且由于底板21以及蒸鍍坩堝10的側(cè)面和上表面共同包圍形成的蒸發(fā)空腔x即為氣態(tài)蒸鍍材料30的擴散空間，因此，本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該知曉，底板21的形狀需要與蒸鍍坩堝10的橫截面形狀相同，保證蒸發(fā)空腔x內(nèi)除了蒸鍍材料出口a以外，其他位置均為封閉狀態(tài)，以形成氣態(tài)蒸鍍材料30的擴散空間，避免氣態(tài)的蒸鍍材料30由除蒸鍍材料出口a以外的位置溢出。

第三，通過移動機構(gòu)40的移動或形態(tài)變化，可帶動與移動機構(gòu)40相連接的活動臺20在蒸鍍坩堝10內(nèi)移動，移動的方向為垂直于底板21的方向，如圖1所示，即為沿圖1中雙向箭頭所示的方向上、下方向移動。在移動機構(gòu)40帶動活動臺20移動時，蒸發(fā)空腔x的空間大小會隨之改變。例如，當移動機構(gòu)40帶動活動臺20向上移動時，底板21與蒸鍍坩堝10上表面之間的距離縮短，底板21以及蒸鍍坩堝10的側(cè)面和上表面共同包圍的區(qū)域形成的蒸發(fā)空腔x的內(nèi)部空間會縮小。這樣一來，氣態(tài)的蒸鍍材料30的擴散空間也能夠隨之進行調(diào)整，增大或縮小。

第四，本發(fā)明實施例的蒸鍍源對于移動機構(gòu)40的結(jié)構(gòu)和材料不做具體限定，只要與活動臺20相連接并能夠帶動活動臺20在如圖1中所示的上、下方向移動，以使得蒸鍍空間x的內(nèi)部空間發(fā)小發(fā)生相應(yīng)的改變即可。

第五，本發(fā)明實施例的蒸鍍源對于移動機構(gòu)40在蒸鍍坩堝10內(nèi)的設(shè)置位置也不做具體限定，可以將移動機構(gòu)40設(shè)置在蒸鍍坩堝10的上表面、下表面或側(cè)壁均可。例如，將移動機構(gòu)40設(shè)置在蒸鍍坩堝10位于活動臺20以上部分的側(cè)壁上，并與活動臺20的上表面相連接，通過移動機構(gòu)40帶動活動臺20移動，這種情況下，移動機構(gòu)40對活動臺20的帶動作用力的方向并不一定是沿垂直于底板21的方向，即，移動機構(gòu)40的作用力方向與活動臺20的移動方向不相同，活動臺20是在移動機構(gòu)40的作用力以及活動臺20與蒸鍍坩堝10側(cè)壁之間的摩擦力的合力作用下沿垂直于底板21的方向移動的。又例如，如圖1所示，將移動機構(gòu)40設(shè)置在蒸鍍坩堝10的下表面，并與活動臺20的下表面相連接，通過移動機構(gòu)40帶動活動臺20移動。

第六，本發(fā)明實施例的蒸鍍源對于移動機構(gòu)40的設(shè)置數(shù)量也不做具體限定，例如，當移動機構(gòu)40設(shè)置在如圖1所示的蒸鍍坩堝10的下表面時，可以在位于底板21的中心位置處只設(shè)置一個，通過對與底板21的連接位置處提供作用力以帶動底板21移動，或者，也可以在底板21上均布設(shè)置多個，同時提供作用力，以提高帶動底板21移動時的穩(wěn)定性，又或者進行其他方式的聯(lián)動設(shè)計均可，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)蒸鍍工藝中的實際需要進行適應(yīng)性調(diào)整。

第七，在蒸鍍坩堝10的上表面設(shè)置有蒸鍍材料出口a，本發(fā)明實施例中對于蒸鍍源的蒸鍍方式不做具體限定，點蒸鍍源、線蒸鍍源或面蒸鍍源均可。對于點蒸鍍源，如圖1所示，在蒸鍍坩堝10的上表面設(shè)置有一個蒸鍍材料出口a，升華蒸發(fā)的氣態(tài)蒸鍍材料30即由蒸鍍材料出口a向外蒸發(fā)擴散，并沉積于設(shè)置在蒸鍍材料出口a外部的待蒸鍍基板上，從而實現(xiàn)對待蒸鍍基板上相應(yīng)膜層的蒸鍍。例如，當蒸鍍源為線蒸鍍源時，可以為在蒸鍍坩堝10的上表面上設(shè)置有呈線性排列的多個蒸鍍材料出口a，多個蒸鍍材料出口a均與設(shè)置有蒸鍍材料30的蒸發(fā)空腔x貫通，這樣一來，升華蒸發(fā)的氣態(tài)蒸鍍材料30即可通過線性排列的多個蒸鍍材料出口a以線性狀態(tài)向外蒸發(fā)擴散。同理，當蒸鍍源為面蒸鍍源時，在蒸鍍坩堝10的上表面上設(shè)置有呈矩陣形式排列的多個蒸鍍材料出口a，其他設(shè)置關(guān)系以及蒸鍍過程與線蒸鍍源相同，此處不再贅述。

本發(fā)明實施例提供一種蒸鍍源，包括：蒸鍍坩堝；活動臺，設(shè)置在蒸鍍坩堝內(nèi)，活動臺至少包括底板，用于放置蒸鍍材料，活動臺與蒸鍍坩堝的側(cè)面以及上表面包圍形成蒸發(fā)空腔；移動機構(gòu)，帶動活動臺在蒸鍍坩堝內(nèi)沿垂直于底板的方向移動。其中，在蒸鍍坩堝的上表面設(shè)置有蒸鍍材料出口。通過在蒸鍍坩堝內(nèi)設(shè)置可由移動機構(gòu)控制沿豎直方向移動的活動臺，活動臺與蒸鍍坩堝的側(cè)面以及上表面之間包圍形成蒸發(fā)空腔，放置在活動臺底板上的蒸鍍材料在蒸鍍坩堝加熱向上蒸發(fā)的過程中，蒸發(fā)狀態(tài)的蒸鍍材料在蒸發(fā)空腔內(nèi)達到一定的蒸汽壓并由蒸鍍材料出口向外蒸出。通過移動機構(gòu)能夠帶動活動臺向上移動以減小蒸發(fā)空腔的空間，對蒸鍍材料蒸發(fā)減少導致的蒸發(fā)空腔的空間增大進行補償，保證蒸鍍材料的蒸發(fā)空腔空間大小不變，從而避免通過對蒸鍍坩堝的持續(xù)升溫來保持蒸發(fā)空腔內(nèi)的蒸汽壓，降低了過高的加熱溫度可能導致蒸鍍材料分解變質(zhì)的風險，提高了蒸鍍膜層的穩(wěn)定性。

進一步的，如圖2所示，移動機構(gòu)40包括伸縮部件41，伸縮部件41的伸縮端411與活動臺20相連接、固定端412與蒸鍍坩堝10相連接。

如圖2所示，伸縮部件41可以為多節(jié)短桿套接設(shè)置的伸縮桿，多節(jié)短桿的橫截面直徑逐漸增大且依次套設(shè)，伸縮部件41的固定端412固定連接的蒸鍍坩堝10的下表面，伸縮端411，即橫截面直徑最小且套設(shè)在最中心的短桿與活動臺20連接，當需要通過伸縮部件41推動活動臺20向上移動時，控制伸縮部件41的伸縮端411向上逐節(jié)伸出，即可拉長伸縮部件41的整體長度，其中，伸縮端411的高度提升，并能夠同時推動活動臺20向上移動以縮小蒸發(fā)空腔x的空間大小。

此外，為了遵循固態(tài)的蒸鍍材料30蒸發(fā)減少的速度與活動臺20的移動距離之間的對應(yīng)關(guān)系以對活動臺20的移動距離進行精確控制，從而保證蒸發(fā)空腔x在蒸鍍工藝過程中空間大小能夠保持不變，通?？梢栽O(shè)置控制器(圖2中未示出)對伸縮部件41的伸縮過程進行控制，上述固態(tài)的蒸鍍材料30蒸發(fā)減少的速度與活動臺20的移動距離之間的對應(yīng)關(guān)系可以根據(jù)本領(lǐng)域技術(shù)人員在具體工作中的經(jīng)驗數(shù)據(jù)分析得知，也可以通過蒸鍍坩堝10的加熱溫度得知固態(tài)的蒸鍍材料30在單位時間內(nèi)蒸發(fā)減少的量的體積，由于蒸發(fā)空腔x的橫截面積不變，即可計算得到活動臺20需要移動的距離，將上述方式得到的對應(yīng)關(guān)系預(yù)先在控制器中進行設(shè)置，從而就能夠通過控制器準確的控制伸縮部件41的伸縮過程。

優(yōu)選的，如圖3以及圖4所示，移動機構(gòu)40包括彈性元件42，彈性元件42的一端與活動臺20相連接、另一端與蒸鍍坩堝10相連接。

如圖3所示，當移動機構(gòu)40為彈性元件42時，彈性元件42在蒸鍍坩堝10內(nèi)的連接方式可以為，彈性元件42的一端與活動臺20的下表面相連接、另一端與蒸鍍坩堝10的下表面相連接。例如，彈性元件42可以為螺旋彈簧，彈性元件42的彈性模量為彈性元件42在彈性形變的狀態(tài)下，其應(yīng)力和應(yīng)變之間的比例系數(shù)，通過對彈性元件42的強度設(shè)計，在如圖3所示的情況下，彈性元件42處于受壓壓縮的狀態(tài)，在蒸鍍工藝過程中，活動臺20的重量保持不變，固態(tài)的蒸鍍材料30蒸發(fā)升華的重量的減少量與彈性元件42的壓縮形變恢復(fù)力之間呈比例對應(yīng)關(guān)系，固態(tài)的蒸鍍材料30的重量減輕，彈性元件42釋放部分壓縮形變的力即能夠推動活動臺20向上進行相應(yīng)距離的移動，從而實現(xiàn)在整個蒸鍍工藝過程中蒸發(fā)空腔x的空間大小保持不變。通過對彈性元件42自身的彈性模量的具體設(shè)置，能夠直接通過壓力改變后彈性元件42的形變變化對蒸鍍工藝過程中活動臺20的移動距離自動對應(yīng)控制，從而不必另外設(shè)置控制器。

此外，在上述對移動機構(gòu)40的說明中已經(jīng)提到，本發(fā)明實施例對于移動機構(gòu)40的設(shè)置數(shù)量以及在蒸鍍坩堝10內(nèi)的設(shè)置位置不做具體限定，因此，具體舉例如下，當移動機構(gòu)40為彈性元件42時，還可以為如圖4所示，彈性元件42在蒸鍍坩堝10內(nèi)設(shè)置有兩個，且彈性元件42的一端均與蒸鍍坩堝10的上表面固定連接、另一端與活動臺20的上表面固定連接，為了避免對蒸發(fā)升華狀態(tài)的蒸鍍材料30由蒸鍍材料出口a向外蒸出產(chǎn)生影響，如圖4所示，通常設(shè)置在蒸發(fā)空腔x內(nèi)的彈性元件42均設(shè)置在蒸鍍坩堝10的蒸鍍材料出口a以外的位置處。這樣一來，在如圖4所示的情況下，彈性元件42處于受拉力而拉伸的狀態(tài)，當在蒸鍍工藝過程中，活動臺20的重量保持不變，固態(tài)的蒸鍍材料30蒸發(fā)升華的重量的減少量與彈性元件42的壓縮形變恢復(fù)力之間呈比例對應(yīng)關(guān)系，即為彈性模量，調(diào)整彈性元件42的彈性模量，使得固態(tài)的蒸鍍材料30的重量減輕，彈性元件42受到的拉力減小，釋放部分拉伸形變的力即能夠拉動活動臺20向上進行相應(yīng)距離的移動，從而實現(xiàn)在整個蒸鍍工藝過程中蒸發(fā)空腔x的空間大小保持不變。

優(yōu)選的，如圖3和圖4所示，移動機構(gòu)40與蒸鍍坩堝10相連接的一端，連接在蒸鍍坩堝10的上表面或下表面。

如圖3所示，移動機構(gòu)40(在圖3中具體為彈性元件42)與蒸鍍坩堝10相連接的一端連接在蒸鍍坩堝10的下表面，或者，如圖4所示，移動機構(gòu)40(在圖4中具體為彈性元件42)與蒸鍍坩堝10相連接的一端連接在蒸鍍坩堝10的上表面，能夠使得移動機構(gòu)40對活動臺20施加的推力或拉力的施加方向沿活動臺20的移動方向，這樣一來，一方面，能夠減少向其他方向產(chǎn)生的分力導致移動機構(gòu)40的力的損失；另一方面，也降低了推力或拉力中其他方向的分力在活動臺20沿其移動方向移動過程中導致的活動臺20與蒸鍍坩堝10之間的摩擦阻力。

進一步的，如圖5所示，活動臺20的周邊還包括有與底板21固定連接的側(cè)板22，其中，側(cè)板22包括有多個時，相鄰的兩個側(cè)板22之間相互連接。

這樣一來，如圖5所示，當活動臺20還包括與底板21的周邊固定連接的側(cè)板22時，放置在底板21上的蒸鍍材料30能夠受到側(cè)板22的阻擋作用，從而減少蒸鍍材料30在活動臺20沿移動方向移動的過程中沿底板21邊緣的縫隙掉落的可能性，同時也降低了掉落的蒸鍍材料30卡塞在縫隙中導致活動臺20或蒸鍍坩堝10內(nèi)壁產(chǎn)生劃傷的風險。

需要說明的是，第一，為了降低活動臺20在移動過程中側(cè)板22可能與蒸鍍坩堝10內(nèi)壁之間產(chǎn)生的摩擦或劃傷，通常情況下，側(cè)板22與蒸鍍坩堝10的側(cè)壁平行。

第二，本發(fā)明實施例中對側(cè)板22的設(shè)置數(shù)量不做具體限制，考慮到側(cè)板22的設(shè)置目的主要是為了減少蒸鍍材料30由底板21的邊緣掉落或卡塞在底板21邊緣與蒸鍍坩堝10內(nèi)壁之間的縫隙中，因此，當側(cè)板22設(shè)置為一個時，通常側(cè)板22為與蒸鍍坩堝10的內(nèi)壁形狀匹配的首尾相接的環(huán)形側(cè)板33，當側(cè)板22設(shè)置為多個時，相鄰的兩個側(cè)板22之間相互連接，以使得多個側(cè)板22相互連接后組合形成一個環(huán)形狀。

優(yōu)選的，活動臺20的材料包括磁性材料。

當活動臺20的材料包括磁性材料時，還可以通過磁場作用力吸附的方式直接控制活動臺20沿其移動方向進行移動。例如，活動臺20可以為invar合金材料(中文音譯因瓦合金材料)，其含有35.4％鎳的鐵合金，常溫下具有很低的熱膨脹系數(shù)(-20℃～20℃之間，平均值約1.6×10-6/℃)。

此外，當使用上述的伸縮部件41或者彈性元件42作為移動機構(gòu)40以帶動活動臺20移動時，活動臺20的材料還可以為石英、石墨、其他不具有磁性的不銹鋼、陶瓷等。

優(yōu)選的，如圖6所示，活動臺20的材料包括磁性材料，移動機構(gòu)40包括吸磁部件43，吸磁部件43設(shè)置在蒸鍍坩堝10外部，通過磁力移動活動臺20。

例如，如圖6所示，吸磁部件43可以為電磁線圈。電磁線圈饒設(shè)在蒸鍍坩堝10的外部，向電磁線圈通入一定方向和大小的電流，即可由于電磁感應(yīng)現(xiàn)象，使電磁線圈內(nèi)部產(chǎn)生與電流對應(yīng)的勻強磁場，通過調(diào)整通入電磁線圈的電流的大小和方向，能夠調(diào)節(jié)勻強磁場的磁場方向和磁場強度，從而實現(xiàn)通過電磁線圈內(nèi)部的勻強磁場對包括有磁性材料的活動臺20沿其移動方向的移動進行控制。當吸磁部件43為電磁線圈時，通常應(yīng)為如圖6所示的，在整個蒸鍍坩堝10的外側(cè)均繞設(shè)電磁線圈，以使得活動臺20的整個可移動區(qū)域均在電磁線圈能夠產(chǎn)生的勻強磁場的范圍內(nèi)。

優(yōu)選的，如圖7所示，吸磁部件43包括電磁鐵或者永磁體。

吸磁部件43還可以為設(shè)置在蒸鍍坩堝10外側(cè)的電磁鐵，在通電的狀態(tài)下能夠?qū)Υ判圆牧袭a(chǎn)生磁吸力，例如，如圖7所示，將電磁鐵設(shè)置在蒸鍍坩堝10的靠近蒸鍍材料出口a的位置處，通過輸入電流的大小調(diào)整電磁鐵對磁性材料的活動臺20的磁吸力的大小，以控制活動臺20的移動，或者，通過調(diào)整輸入電流的大小，設(shè)定電磁鐵對磁性材料的活動臺20的磁吸力并保持磁吸力的穩(wěn)定，當固態(tài)的蒸鍍材料30蒸發(fā)減少時，磁性材料的活動臺20以及放置在活動臺20上的固態(tài)的蒸鍍材料30的總重量減輕，則電磁鐵對于活動臺20的磁吸力增強，使得活動臺20產(chǎn)生相應(yīng)的移動。又例如，吸磁部件43還可以為設(shè)置在蒸鍍坩堝10外側(cè)的永磁體，永磁體的設(shè)置位置可以與電磁鐵的設(shè)置位置相同，永磁體的磁吸力通常穩(wěn)定不變，以上述保持磁吸力固定，通過固態(tài)的蒸鍍材料30蒸發(fā)減重以使得增強活動臺20受到的磁吸力的方式，使得活動臺20在蒸鍍工藝過程中在永磁體的磁吸力作用下沿其移動方向發(fā)生移動，從而使得蒸發(fā)空腔x的空間大小在蒸鍍過程中基本保持不變。

本發(fā)明實施例的另一方面，提供一種蒸鍍裝置，如圖8所示，包括至少一個上述的蒸鍍源01。

如圖8所示，蒸鍍裝置中包括三個并列設(shè)置的蒸鍍源01，其中每一個蒸鍍源01中的蒸鍍材料30可以相同，共同對待蒸鍍基板進行蒸鍍，此外，也可以每一個蒸鍍源01中的蒸鍍材料30均不相同，在蒸鍍裝置進行蒸鍍工藝操作時，每一個蒸鍍源01均開啟，以對待蒸鍍基板進行摻雜蒸鍍。在上述對蒸鍍源的結(jié)構(gòu)的說明，以及對于蒸鍍工藝過程中蒸鍍源以及其所在的蒸鍍裝置的工作過程進行了詳細的描述，此處不再贅述。

本發(fā)明實施例的再一方面，提供一種蒸鍍方法，如圖9所示，包括，s101、加熱蒸鍍源01的蒸鍍坩堝10，使蒸鍍坩堝10內(nèi)的蒸鍍材料30受熱氣化。s102、移動機構(gòu)40帶動活動臺20在蒸鍍坩堝10內(nèi)沿垂直于底板21的方向移動，以調(diào)節(jié)活動臺20與蒸鍍坩堝10的側(cè)面以及上表面共同形成的蒸發(fā)空腔x的空間大小。

如圖8所示，在對待蒸鍍基板上加熱蒸發(fā)蒸鍍材料30并使氣態(tài)的蒸鍍材料30在待蒸鍍基板上沉積形成膜層的工藝過程中，首先，加熱蒸鍍源01的蒸鍍坩堝10，使得蒸鍍坩堝10內(nèi)的蒸鍍材料30受熱氣化。

在保持一定加熱溫度的蒸鍍坩堝10內(nèi)，固態(tài)的蒸鍍材料30以相對固定的速度持續(xù)升華蒸發(fā)，升華蒸發(fā)的氣態(tài)的蒸鍍材料30在蒸鍍坩堝10內(nèi)的蒸發(fā)空腔x內(nèi)擴散，并通過蒸鍍坩堝10上表面的蒸鍍材料出口a蒸出，蒸出蒸鍍坩堝10的蒸鍍材料逐漸降溫并沉積在設(shè)置在蒸鍍材料出口a外的待蒸鍍基板上，以形成蒸鍍膜層。由于固態(tài)的蒸鍍材料30不斷的受熱氣化并升華蒸發(fā)，使得蒸鍍坩堝10內(nèi)的固態(tài)的蒸鍍材料30不斷減少，這樣一來，就會使得蒸發(fā)空腔x，即氣態(tài)的蒸鍍材料30的擴散空間不斷增大。在加熱溫度不變的情況下，蒸鍍材料30的蒸發(fā)速率基本保持不變，在此基礎(chǔ)上如果蒸發(fā)空腔x增大，就會使得蒸發(fā)空腔x內(nèi)氣態(tài)的蒸鍍材料30的蒸汽壓降低，從而影響待蒸鍍基板上的蒸鍍材料30的沉積速率，如果通過增加蒸鍍坩堝10的加熱溫度以提高蒸鍍材料30的蒸發(fā)速率的方式來補償由于蒸發(fā)空腔x增大而導致的蒸鍍材料30的沉積速率降低，蒸鍍坩堝10中過高的加熱溫度可能會導致蒸鍍材料30的分解變質(zhì)，由發(fā)生了分解變質(zhì)的蒸鍍材料30沉積成膜的器件其光電特性會受到不利的影響，甚至可能導致整個器件失效。

因此，在加熱蒸鍍坩堝10對待蒸鍍基板進行蒸鍍的過程中，隨著固態(tài)的蒸鍍材料30的減少，通過移動機構(gòu)40帶動活動臺20在蒸鍍坩堝10內(nèi)沿垂直于底板21的方向移動，以使得由活動臺20與蒸鍍坩堝10的側(cè)面以及上表面共同形成的蒸發(fā)空腔x在此移動過程中降低高度，即減小了蒸發(fā)空腔x內(nèi)的空間大小，從而補償由于固態(tài)的蒸鍍材料30的減少而導致的蒸發(fā)空腔x空間增大的部分，以使得在整個蒸鍍過程中，用于使其他的蒸鍍材料30蒸發(fā)的擴散空間大小保持基本不變，從而保證蒸鍍過程中蒸鍍材料30在待蒸鍍基板上行的沉積速率，提高待蒸鍍基板的蒸鍍效果。在上述蒸鍍源以及蒸鍍裝置的結(jié)構(gòu)以及工作原理的具體描述中，已經(jīng)對于蒸鍍過程進行了詳細的說明，此處不再贅述。

以上所述，僅為本發(fā)明的具體實施方式，但本發(fā)明的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護范圍為準。