本實用新型涉及拋光技術領域，特別是涉及一種研磨拋光機。

背景技術：

研磨拋光機在晶片加工行業(yè)中應用比較廣泛，主要用于晶片的銅拋光與CMP拋光，屬于高精密加工，產(chǎn)品尺寸的精度要求較高。

目前，研磨機在晶片的研磨拋光等精加工過程中所使用的研磨拋光液，在加工過程中容易流出操作臺，影響研磨機周圍的衛(wèi)生環(huán)境。

技術實現(xiàn)要素：

基于此，有必要針對拋光液在加工過程中容易流出操作臺的技術問題，提供一種研磨拋光機。

一種研磨拋光機，該研磨拋光機包括機架、第一調(diào)節(jié)臂、第二調(diào)節(jié)臂、驅(qū)動機構(gòu)、拋光盤及研磨臺。所述第一調(diào)節(jié)臂與所述機架樞接，所述第二調(diào)節(jié)臂與所述第一調(diào)節(jié)臂鉸接。所述驅(qū)動機構(gòu)包括驅(qū)動電機及伸縮件，所述驅(qū)動電機設置于所述第二調(diào)節(jié)臂上，所述伸縮件設置于所述第二調(diào)節(jié)臂上。所述拋光盤設置于所述伸縮件的末端并通過穿設于所述伸縮件的驅(qū)動軸與所述驅(qū)動電機的轉(zhuǎn)子連接。所述研磨臺包括承載盤和集液板，所述承載盤設置于所述集液板的中部區(qū)域，所述集液板設置于所述機架上，所述集液板具有多個集液槽，多個所述集液槽圍繞所述承載盤分布。

在其中一個實施例中，所述集液板為長方體結(jié)構(gòu)，所述集液板的四個轉(zhuǎn)角通過螺釘固定在所述機架上。

在其中一個實施例中，所述承載盤的表面開設有網(wǎng)格槽，所述網(wǎng)格槽具有若干凹槽，相鄰的兩個所述凹槽連通設置。

在其中一個實施例中，所述承載盤的底部開設有排液口，所述排液口與一所述凹槽連通，且所述排液口還與多個所述集液槽連通設置。

在其中一個實施例中，所述集液板開設有多條引流槽，每一所述引流槽對應于一所述集液槽連通，且多條所述引流槽均與所述排液口連通設置。

在其中一個實施例中，多條所述引流槽從所述集液板的中部區(qū)域朝外部呈放射狀分布。

上述研磨拋光機，通過第二調(diào)節(jié)臂與第一調(diào)節(jié)臂，可以將拋光盤移動到研磨臺的上方位置，待加工部件放置在承載盤后，通過伸縮件調(diào)節(jié)拋光盤與承載盤的距離，并在驅(qū)動電機的驅(qū)動下對放置在承載盤上的待加工部件進行研磨拋光處理，由于集液板具有多個集液槽，且多個集液槽圍繞承載盤分布，使得在研磨拋光過程中加入的拋光液可以匯集在多個集液槽中，待加工操作完成后在進行統(tǒng)一處理，如此解決了拋光液在加工過程中容易流出操作臺的技術問題，并在提高了工作環(huán)境的衛(wèi)生，從而提高了研磨拋光的效率。

附圖說明

圖1為一個實施例中研磨拋光機的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為一個實施例中研磨拋光機的另一視角的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為另一個實施例中研磨拋光機的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為另一個實施例中研磨拋光機的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實施方式

為使本實用新型的上述目的、特征和優(yōu)點能夠更加明顯易懂，下面結(jié)合附圖對本實用新型的具體實施方式做詳細的說明。在下面的描述中闡述了很多具體細節(jié)以便于充分理解本實用新型。但是本實用新型能夠以很多不同于在此描述的其它方式來實施，本領域技術人員可以在不違背本實用新型內(nèi)涵的情況下做類似改進，因此本實用新型不受下面公開的具體實施例的限制。

在本實用新型的描述中，需要理解的是，術語“中心”、“縱向”、“橫向”、“長度”、“寬度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”、“內(nèi)”、“外”、“順時針”、“逆時針”、“軸向”、“徑向”、“周向”等指示的方位或位置關系為基于附圖所示的方位或位置關系，僅是為了便于描述本實用新型和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對本實用新型的限制。

此外，術語“第一”、“第二”僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示相對重要性或者隱含指明所指示的技術特征的數(shù)量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隱含地包括至少一個該特征。在本實用新型的描述中，“多個”的含義是至少兩個，例如兩個，三個等，除非另有明確具體的限定。

在本實用新型中，除非另有明確的規(guī)定和限定，術語“安裝”、“相連”、“連接”、“固定”等術語應做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或成一體；可以是機械連接，也可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，可以是兩個元件內(nèi)部的連通或兩個元件的相互作用關系，除非另有明確的限定。對于本領域的普通技術人員而言，可以根據(jù)具體情況理解上述術語在本實用新型中的具體含義。

在本實用新型中，除非另有明確的規(guī)定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接觸，或第一和第二特征通過中間媒介間接接觸。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或僅僅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或僅僅表示第一特征水平高度小于第二特征。

需要說明的是，當元件被稱為“固定于”或“設置于”另一個元件，它可以直接在另一個元件上或者也可以存在居中的元件。當一個元件被認為是“連接”另一個元件，它可以是直接連接到另一個元件或者可能同時存在居中元件。本文所使用的術語“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及類似的表述只是為了說明的目的，并不表示是唯一的實施方式。

請參閱圖1，其為一個實施例中研磨拋光機10的結(jié)構(gòu)示意圖，例如，一種研磨拋光機10包括：機架110、第一調(diào)節(jié)臂120、第二調(diào)節(jié)臂130、驅(qū)動機構(gòu)140、拋光盤150以及研磨臺160。

例如，第一調(diào)節(jié)臂120與機架110樞接。例如，第一調(diào)節(jié)臂120通過軸承與機架110連接。也就是說，第一調(diào)節(jié)臂120相對機架110可左右轉(zhuǎn)動。例如，第一調(diào)節(jié)臂120相對機架110轉(zhuǎn)動360度、逆時針循環(huán)轉(zhuǎn)動或者順時針循環(huán)轉(zhuǎn)動。這樣可以根據(jù)研磨拋光的需要，調(diào)節(jié)第一調(diào)節(jié)臂120相對機架110的角度。

例如，第二調(diào)節(jié)臂130與第一調(diào)節(jié)臂120鉸接。例如，第一調(diào)節(jié)臂120通過軸承與第一調(diào)節(jié)臂120連接。也就是說，第二調(diào)節(jié)臂130相對第一調(diào)節(jié)臂120可自由轉(zhuǎn)動。由于第一調(diào)節(jié)臂120相對機架110可左右轉(zhuǎn)動。因此，第一調(diào)節(jié)臂120和第二調(diào)節(jié)臂130組合后可以根據(jù)研磨拋光的需要進一步調(diào)節(jié)第二調(diào)節(jié)臂130相對機架110的角度。

例如，研磨拋光機還包括除塵機構(gòu)，除塵機構(gòu)設置于所述機架上，例如，除塵機構(gòu)包括吸塵條和靜電產(chǎn)生器。例如，靜電產(chǎn)生器設置于機架上，吸塵條鄰近所述拋光盤。例如，靜電產(chǎn)生器與吸塵條電性連接，用于使吸塵條帶上靜電。本實施例中，靜電產(chǎn)生器設置在所述機架的邊緣位置并且與吸塵條電性連接。例如，吸塵條圍繞拋光盤設置。本實施例中，吸塵條靠近機架設置，這樣可以有效地吸附從研磨拋光機散出的粉塵。又如，所述吸塵條設置于所述機架上，例如，所述吸塵條通過變速齒輪連接所述轉(zhuǎn)子或所述拋光盤，用于在所述轉(zhuǎn)子帶動所述拋光盤轉(zhuǎn)動時，所述吸塵條相應地慢速轉(zhuǎn)動，以達到自動高效除塵效果。有如，所述吸塵條具有相連接的固定子結(jié)構(gòu)與旋轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)，所述固定子結(jié)構(gòu)與所述靜電產(chǎn)生器電性連接，所述旋轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)設置吸塵套件及環(huán)形連接件，所述環(huán)形連接件與所述變速齒輪連接，用于跟隨所述轉(zhuǎn)子慢速轉(zhuǎn)動，例如所述變速齒輪為1：(50～5000)的降速齒輪組，使得所述環(huán)形連接件較所述轉(zhuǎn)子慢速轉(zhuǎn)動，環(huán)形連接件的速度較低，所述吸塵套件可拆卸地套置于所述環(huán)形連接件，并且所述吸塵套件與所述固定子結(jié)構(gòu)電性連接，所述靜電產(chǎn)生器用于使所述吸塵條的所述吸塵套件帶上靜電，所述吸塵套件用于實現(xiàn)自動吸塵、容易清理的技術效果。例如，所述吸塵套件包括相連接的絕緣塑料套和金屬軟片。

例如，吸塵條包括絕緣塑料套和金屬軟片。例如，絕緣塑料套和金屬軟片相連接，又如，絕緣塑料套和金屬軟片相套接。例如，絕緣塑料套粘貼于機架上，且金屬軟片外露設置。也就是說，金屬軟片嵌入絕緣塑料套中并暴露其中的一個側(cè)面。這樣，絕緣塑料套可以避免靜電產(chǎn)生器在對吸塵條中的金屬軟片進行靜電處理時機架帶電。本實施例中僅要求金屬軟片帶電即可。

例如，金屬軟片具有預設寬度，預設寬度為2～5厘米。預設寬度即指的是金屬軟片在水平方向上的寬度。例如，金屬軟片的預設寬度為2～5厘米；又如，金屬軟片的預設寬度為2厘米；又如，金屬軟片的預設寬度為5厘米；又如，金屬軟片的預設寬度為2.5厘米?？梢岳斫?，具有預設寬度可以使得金屬軟片與空氣接觸較大的面積，從而吸附更多的從機架散出的粉塵。

為了提高粉塵的吸附收集能力，例如，金屬軟片的表面開設有網(wǎng)格集塵槽。例如，網(wǎng)格集塵槽具有預設深度。例如，網(wǎng)格集塵槽具有若干正六邊形凹槽。例如，相鄰的兩個凹槽連通設置。例如，凹槽為正六邊形結(jié)構(gòu)。如此，通過網(wǎng)格集塵槽中的若干凹槽，且相鄰的兩個凹槽連通設置，由于轉(zhuǎn)動機構(gòu)和碾壓機構(gòu)在工作時整個機架將產(chǎn)生振動，使得粉塵只要流入其中的一個凹槽后，在振動的作用下將自然地流入其他的凹槽中，從而實現(xiàn)一次性地收集較多的粉塵。

在研磨拋光的過程中，原料被粉碎后將可能產(chǎn)生細小的粉塵，這些細小的粉塵可能會散發(fā)到外部，上述各實施例，通過設置吸塵條，在靜電產(chǎn)生器工作時吸塵條的表面將產(chǎn)生靜電，由此通過靜電吸附的原理，特別適合干式研磨拋光，可將散出的微小粉塵統(tǒng)一吸附處理，避免粉塵進入工作環(huán)境中，解決了粉碎時粉體揚塵導致塵埃污染物的產(chǎn)生的技術問題，優(yōu)化了衛(wèi)生環(huán)境。

請參閱圖2，其為一個實施例中研磨拋光機的另一視角的結(jié)構(gòu)示意圖，例如，驅(qū)動機構(gòu)140包括驅(qū)動電機141及伸縮件142，驅(qū)動電機141設置于第二調(diào)節(jié)臂130上，伸縮件142設置于第二調(diào)節(jié)臂130上。例如，驅(qū)動電機141為馬達。驅(qū)動電機141通過驅(qū)動軸151連接拋光盤150，驅(qū)動電機141用于在工作時帶動拋光盤150旋轉(zhuǎn)。

例如，拋光盤150設置于伸縮件142的末端并通過穿設于伸縮件142的驅(qū)動軸151與驅(qū)動電機141的轉(zhuǎn)子連接。例如，拋光盤150朝向機架110的平面的側(cè)面設置有植絨砂紙片、水磨片或自粘羊毛球，用于對人造石、家具及木制品、金屬、汽車零部件等物品進行打磨和拋光。

例如，研磨臺160包括承載盤161和集液板162。例如，承載盤161設置于集液板162的中部區(qū)域，集液板162設置于機架110上。例如，集液板162可拆卸地設置于機架110上；又如，集液板162插設于機架110上。結(jié)合圖1和圖2，例如，集液板162具有多個集液槽163，多個集液槽163圍繞承載盤161分布。例如，集液槽163為圓形槽，本實施例中，集液槽163的數(shù)量有六個。

上述研磨拋光機10，通過第二調(diào)節(jié)臂130與第一調(diào)節(jié)臂120，可以將拋光盤150移動到研磨臺160的上方位置，待加工部件放置在承載盤161后，通過伸縮件142調(diào)節(jié)拋光盤150與承載盤161的距離，并在驅(qū)動電機141的驅(qū)動下對放置在承載盤161上的待加工部件進行研磨拋光處理，由于集液板162具有多個集液槽163，且多個集液槽163圍繞承載盤161分布，使得在研磨拋光過程中加入的拋光液可以匯集在多個集液槽163中，待加工操作完成后在進行統(tǒng)一處理，如此解決了拋光液在加工過程中容易流出操作臺的技術問題，并在提高了工作環(huán)境的衛(wèi)生，從而提高了研磨拋光的效率。

例如，集液板162為長方體結(jié)構(gòu)，集液板162的四個轉(zhuǎn)角通過螺釘固定在機架110上。具體的，集液板162的四個轉(zhuǎn)角開設有穿孔，對應機架110的平面也開設有螺紋孔，如此，集液板162的四個轉(zhuǎn)角通過螺釘穿設穿孔后螺入對應的螺紋孔上從而將集液板162固定在機架110上。

為了實現(xiàn)一次性收集較多的拋光液，例如，承載盤的表面開設有網(wǎng)格槽。例如，網(wǎng)格槽具有若干凹槽。例如，相鄰的兩個凹槽連通設置。例如，凹槽為正六邊形結(jié)構(gòu)。如此，通過網(wǎng)格槽中的若干凹槽，且相鄰的兩個凹槽連通設置，使得拋光液只要流入其中的一個凹槽后自然地流入其他的凹槽中，從而實現(xiàn)一次性地收集較多的拋光液。

進一步的，承載盤的底部開設有排液口，排液口與一凹槽連通，且排液口還與多個集液槽連通設置。例如，集液板開設有多條引流槽，每一引流槽對應于一集液槽連通，且多條引流槽均與排液口連通設置。例如，多條引流槽從集液板的中部區(qū)域朝外部呈放射狀分布。這樣可以收集更多的拋光液，從而在一個拋光過程不需要多次的傾倒集液板內(nèi)的拋光液，提高工作的效率。

請參閱圖3，其為另一個實施例中研磨拋光機的結(jié)構(gòu)示意圖，例如，研磨拋光機還包括密封裝置310，密封裝置310包括透明密封箱311和排氣管312。例如，透明密封箱311為透明材料制成。例如，透明密封箱311具有開口320，透明密封箱311用于通過開口320蓋設研磨臺160。本實施例中，透明密封箱311為一側(cè)開口的中空長方體，開口320即為，透明密封箱311的開口側(cè)。例如，透明密封箱311蓋設在研磨臺160上后，透明密封箱311覆蓋整個研磨臺160。從而避免拋光液中的刺激性氣味的揮發(fā)。

例如，透明密封箱311的頂部與伸縮件142連接。又如，透明密封箱311的頂部與伸縮件142可拆卸連接。又如，透明密封箱311的頂部與伸縮件142密封連接。例如，拋光盤150收容于透明密封箱311中。例如，排氣管312的一端連通透明密封箱311的內(nèi)部，另一端用于連通外部。本實施例中，排氣管312的另一端連通外部的廢氣管道。

如此，在研磨拋光時通過密封裝置310蓋設研磨臺160，由于透明密封箱311為透明材料制成，外部可以查看密封裝置310內(nèi)的研磨拋光情況，從而不影響研磨拋光的操作。解決了刺激性氣味給操作用戶帶了諸多不便的技術問題，在透明密封箱311的罩設下，拋光操作過程拋光液分解并發(fā)出刺激性氣味可從排氣管312排出至外部，提高了環(huán)境衛(wèi)生，給操作用戶創(chuàng)造良好的工作環(huán)境。

為增強透明密封箱的氣密性，例如，透明密封箱于開口的邊緣設置有密封圈。例如，密封圈為防腐硅膠制成；又如，密封圈為軟性橡膠材料制成。這樣，在研磨拋光時，將密封裝置蓋設在研磨臺上后，密封圈與研磨臺抵接后形變，使得透明密封箱內(nèi)形成相對密封的空間，增強了透明密封箱的氣密性，使透明密封箱內(nèi)的氣體不容易從透明密封箱內(nèi)揮發(fā)至外部，進一步地提高了環(huán)境衛(wèi)生，給操作用戶創(chuàng)造良好的工作環(huán)境。

為了便于進行研磨拋光操作，例如，透明密封箱設置有連通透明密封箱內(nèi)部的操作口以及蓋設操作口的窗體，用戶在研磨拋光過程中如果需要短暫的對被研磨的零部件進行檢查，可以通過打開窗體后從操作口中取出該零部件即可，方便快捷。進一步的，為避免因增設窗體而導致密封性下降，例如，窗體與操作口的邊緣密封連接。這樣可以有效保證窗體的氣密性。

為了加快透明密封箱內(nèi)氣體的排出，例如，密封裝置還包括抽真空機，抽真空機設置于第二調(diào)節(jié)臂上，抽真空機的輸入端與排氣管連通。抽真空機在工作時，使透明密封箱內(nèi)的大氣壓強與透明密封箱外的大氣壓強不平衡，且透明密封箱內(nèi)的大氣壓強低于透明密封箱外的大氣壓強，從而一方面抽取透明密封箱內(nèi)的刺激性氣體，另一方面加快刺激性氣體從透明密封箱中排出。

請參閱圖4，其為另一個實施例中研磨拋光機的結(jié)構(gòu)示意圖，例如，研磨拋光機還包照明裝置410，照明裝置410包括導光件411和照明燈具412，導光件411轉(zhuǎn)動安裝于第二調(diào)節(jié)臂130上，照明燈具412設置于導光件411的末端，照明燈具412的光照方向朝向拋光盤150。

如此，在研磨拋光時通過照明裝置410可以為用戶提供照明需求，導光件411可以根據(jù)需要調(diào)整其自身的狀態(tài)，以間接的調(diào)整照明燈具412的光照方向，這樣，解決了照明裝置的照射的范圍受限的技術問題，在導光件411的作用下可以將照明燈具412移動到需要照射的區(qū)域，提高了用戶在操作的工作環(huán)境的亮度較低時的研磨拋光效率。

本實施例中，例如，導光件包括多節(jié)依次轉(zhuǎn)動連接的滾珠，其中，首節(jié)滾珠轉(zhuǎn)動安裝于第二調(diào)節(jié)臂上，末節(jié)滾珠與照明燈具連接。例如，第二調(diào)節(jié)臂于鄰近伸縮件的區(qū)域設置有轉(zhuǎn)動位，首節(jié)滾珠轉(zhuǎn)動設置于轉(zhuǎn)動位上。這樣，通過多節(jié)依次轉(zhuǎn)動連接的滾珠可以使角度的調(diào)節(jié)不受限制。

例如，照明燈具包括燈座及LED燈芯，燈座與導光件連接，LED燈芯設置于燈座上。例如，燈座通過導線與外部的插頭連接，從而為LED燈芯供電。

例如，照明燈具還包括凸透鏡，凸透鏡滑動設置于燈座上。例如，凸透鏡位于LED燈芯及拋光盤之間。這樣，利用凸透鏡可以將光線聚集成光速，從而集中的照射某一區(qū)域，從而便于用戶更清晰地查看該區(qū)域的內(nèi)的情況。

以上所述實施例的各技術特征可以進行任意的組合，為使描述簡潔，未對上述實施例中的各個技術特征所有可能的組合都進行描述，然而，只要這些技術特征的組合不存在矛盾，都應當認為是本說明書記載的范圍。

以上所述實施例僅表達了本實用新型的幾種實施方式，其描述較為具體和詳細，但并不能因此而理解為對實用新型專利范圍的限制。應當指出的是，對于本領域的普通技術人員來說，在不脫離本實用新型構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進，這些都屬于本實用新型的保護范圍。因此，本實用新型專利的保護范圍應以所附權(quán)利要求為準。