本實用新型涉及無機(jī)非金屬材料制備技術(shù)領(lǐng)域，特別是一種石墨表面沉積碳化硅的裝置系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

在石墨件表面沉積碳化硅，通常采用甲基三氯硅烷為前驅(qū)體，發(fā)生化學(xué)氣相沉積反應(yīng)后得到碳化硅涂層，副產(chǎn)HCl氣體。在某些特定的應(yīng)用中，要求碳化硅涂層結(jié)合致密，可以阻止石墨件的部分雜質(zhì)進(jìn)入反應(yīng)系統(tǒng)；另外，還要求碳化硅涂層結(jié)合緊密，耐磨性能好。例如，制備顆粒硅的流化床反應(yīng)器通常具用石墨內(nèi)襯，且在石墨內(nèi)襯表面涂覆碳化硅涂層。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

實用新型目的：本實用新型所要解決的技術(shù)問題是針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種石墨表面沉積碳化硅的裝置系統(tǒng)。

為了解決上述技術(shù)問題，本實用新型提供了一種石墨表面沉積碳化硅的裝置系統(tǒng)，包括凈化第一工位和反應(yīng)第一工位，所述凈化第一工位安裝有石墨凈化爐，所述反應(yīng)第一工位安裝有CVD(Chemical Vapor Deposition，化學(xué)氣相沉積)反應(yīng)爐，石墨凈化爐和CVD反應(yīng)爐均為上固定結(jié)構(gòu)，即所述石墨凈化爐的爐筒和CVD反應(yīng)爐的爐筒分別通過支架固定在地面上，石墨凈化爐的爐底盤和CVD反應(yīng)爐的爐底盤分別設(shè)置在一升降臺上，石墨凈化爐的爐底盤的升降臺通過上升使得石墨凈化爐的爐筒和爐底盤緊密配合，CVD反應(yīng)爐的爐底盤的升降臺通過上升使得CVD反應(yīng)爐的爐筒和爐底盤緊密配合。

進(jìn)一步地，所述升降臺的底部設(shè)有滾輪。

所述系統(tǒng)還包括凈化第二工位，凈化第一工位和凈化第二工位之間通過軌道連接，軌道從凈化第二工位一直延伸到凈化第一工位的石墨凈化爐下方，所述石墨凈化爐的升降臺限定在軌道內(nèi)移動，石墨凈化爐的升降臺通過軌道將石墨凈化爐的爐底盤從凈化第一工位移動到凈化第二工位。

所述系統(tǒng)還包括反應(yīng)第二工位，反應(yīng)第一工位和反應(yīng)第二工位之間通過軌道連接，軌道從反應(yīng)第二工位一直延伸到反應(yīng)第一工位的CVD反應(yīng)爐下方，所述CVD反應(yīng)爐的升降臺限定在軌道內(nèi)移動，CVD反應(yīng)爐的升降臺通過軌道將CVD反應(yīng)爐的爐底盤從反應(yīng)第一工位移動到反應(yīng)第二工位。

所述石墨凈化爐的爐筒和爐底盤通過法蘭螺栓固定密封連接。所述CVD反應(yīng)爐的爐筒和爐底盤通過法蘭螺栓固定密封連接。

所述系統(tǒng)還包括行車軌道，行車軌道包括抓手，所述抓手用于將凈化后的石墨件通過行車軌道轉(zhuǎn)移至CVD反應(yīng)爐爐底盤的升降臺上。

在實際的工作期間，所述凈化第一工位(即石墨凈化爐(3)的初始位置)的升降臺連同爐底盤移動到凈化第二工位的位置，在所述爐底盤上放置好需要沉積碳化硅的石墨件，連同升降臺整體移動至凈化第一工位，上升升降臺，使得所述爐底盤與爐筒緊密配合，并通過法蘭螺栓固定密封連接，并按凈化程序凈化石墨件。凈化程序完成后，松開法蘭螺栓，降低升降臺至最低位，沿軌道移動升降臺至凈化第二工位，此時反應(yīng)第一工位(即CVD反應(yīng)爐的初始位置)的升降臺連同反應(yīng)爐底盤也移動至反應(yīng)第二工位，通過行車的抓手等將凈化后的石墨件轉(zhuǎn)移至反應(yīng)第一工位的爐底盤的升降臺上，將升降臺移動到反應(yīng)第一工位，并上升升降臺直至與反應(yīng)爐爐筒緊密配合，通過法蘭螺栓密封連接，并進(jìn)行沉積反應(yīng)。碳化硅涂層沉積完成后，通過降低升降臺至最低位，通過軌道將帶有底盤和石墨件的升降臺移動到第二工位，得到石墨表面沉積碳化硅的復(fù)合材料。

有益效果：本實用新型提出一種新的石墨表面沉積碳化硅的裝置系統(tǒng)，裝置布局合理，投資成本低，操作簡單，能夠在石墨表面制備出結(jié)合緊密的碳化硅涂層。

附圖說明

下面結(jié)合附圖和具體實施方式對本實用新型做更進(jìn)一步的具體說明，本實用新型的上述或其他方面的優(yōu)點將會變得更加清楚。

圖1是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為爐筒和升降臺結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實施方式

下面將結(jié)合附圖對本實用新型作詳細(xì)說明。

實施例1：

如圖1和圖2所示，本實用新型包括凈化第一工位1和反應(yīng)第一工位2，其中，所述凈化第一工位1安裝有石墨凈化爐3，所述反應(yīng)第一工位2安裝有CVD反應(yīng)爐5，石墨凈化爐3和CVD反應(yīng)爐5均為上固定結(jié)構(gòu)，即所述石墨凈化爐3的爐筒和CVD反應(yīng)爐5的爐筒分別通過支架固定在地面上，石墨凈化爐3的爐底盤和CVD反應(yīng)爐5的爐底盤分別設(shè)置在一升降臺上，升降臺12通過上升使得爐筒10和爐底盤11緊密配合。

所述升降臺的底部設(shè)有滾輪。

本系統(tǒng)還包括凈化第二工位4，凈化第一工位1和凈化第二工位4之間通過軌道連接，軌道從凈化第二工位4一直延伸到凈化第一工位1的石墨凈化爐3下方，所述石墨凈化爐3的升降臺限定在軌道內(nèi)移動，石墨凈化爐3的升降臺通過軌道將石墨凈化爐3的爐底盤從凈化第一工位1移動到凈化第二工位4。

本系統(tǒng)還包括反應(yīng)第二工位6，反應(yīng)第一工位2和反應(yīng)第二工位6之間通過軌道連接，軌道從反應(yīng)第二工位6一直延伸到反應(yīng)第一工位2的CVD反應(yīng)爐5下方，所述CVD反應(yīng)爐5的升降臺限定在軌道內(nèi)移動，CVD反應(yīng)爐5的升降臺通過軌道將CVD反應(yīng)爐5的爐底盤從反應(yīng)第一工位2移動到反應(yīng)第二工位6。

所述爐筒10的頂部包括封頭9，所述封頭9、所述爐筒10和爐底盤11通過法蘭螺栓固定密封連接。

本系統(tǒng)還包括行車軌道7，所述行車軌道7包括抓手8，所述抓手8用于將凈化后的石墨件通過行車軌道7的行車轉(zhuǎn)移至CVD反應(yīng)爐5爐底盤的升降臺上。

本實用新型提供了一種石墨表面沉積碳化硅的裝置系統(tǒng)，具體實現(xiàn)該技術(shù)方案的方法和途徑很多，以上所述僅是本實用新型的優(yōu)選實施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實用新型原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和潤飾，這些改進(jìn)和潤飾也應(yīng)視為本實用新型的保護(hù)范圍。本實施例中未明確的各組成部分均可用現(xiàn)有技術(shù)加以實現(xiàn)。