本發(fā)明涉及陶瓷生產(chǎn)設(shè)備領(lǐng)域，特別涉及一種陶瓷匣缽清底機。

背景技術(shù)：

在燒制陶瓷器過程中，為防止氣體及有害物質(zhì)對坯體、釉面的破壞及污損，將陶瓷器和坯體放置在耐火材料制成的容器中焙燒，這種容器即稱匣缽，亦稱匣子。

使用匣缽燒制陶瓷器，不僅可提高裝燒量、制品不致粘結(jié)、提高成品率，而且匣缽還具有一定的導(dǎo)熱性和熱穩(wěn)定性，可保證陶瓷質(zhì)量。

但是目前的匣缽的內(nèi)表面底部容易有毛邊或者不均勻，影響陶瓷的生產(chǎn)質(zhì)量。目前都是利用人工采用砂紙將匣缽的內(nèi)表面底部打磨均勻，但是這種處理方式效率極其低下。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于針對現(xiàn)有技術(shù)的上述不足和缺陷，提供一種陶瓷匣缽清底機，以解決上述問題。

本發(fā)明所解決的技術(shù)問題可以采以下技術(shù)方案來實現(xiàn)：

陶瓷匣缽清底機，其特征在于，包括機架和設(shè)置在所述機架上的轉(zhuǎn)動驅(qū)動裝置，所述轉(zhuǎn)動驅(qū)動裝置的輸出端設(shè)置有磨具，在所述磨具的外周同軸套設(shè)有一通過第一彈性浮動組件設(shè)置在所述機架上的保護套筒，在所述保護套筒的外周同軸套設(shè)有一通過第二彈性浮動組件設(shè)置在所述機架上的定位套筒，所述定位套筒的頂部設(shè)置有與匣缽的頂部邊緣相適配的限位臺階。

在本發(fā)明的一個優(yōu)選實施例中，所述磨具為磨刀或者砂輪。

在本發(fā)明的一個優(yōu)選實施例中，所述轉(zhuǎn)動驅(qū)動裝置為電機。

在本發(fā)明的一個優(yōu)選實施例中，所述第一彈性浮動組件和第二彈性浮動組件為彈簧。

由于采用了如上的技術(shù)方案，本發(fā)明能夠快速對匣缽的內(nèi)表面底部進行打磨，大大提高了打磨效率。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1是本發(fā)明一種實施例的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實施方式

為了使本發(fā)明實現(xiàn)的技術(shù)手段、創(chuàng)作特征、達成目的與功效易于明白了解，下面進一步闡述本發(fā)明。

參見圖1所示的陶瓷匣缽清底機，包括機架100和設(shè)置在機架100上的轉(zhuǎn)動驅(qū)動裝置200，轉(zhuǎn)動驅(qū)動裝置200的輸出端設(shè)置有磨具300。本實施例中的轉(zhuǎn)動驅(qū)動裝置200為豎直設(shè)置的電機，電機的轉(zhuǎn)軸210頂部設(shè)置有磨具300，模具可為磨刀或者砂輪。在磨具300的外周同軸套設(shè)有一通過第一彈性浮動組件400設(shè)置在機架100上的保護套筒500，在保護套筒500的外周同軸套設(shè)有一通過第二彈性浮動組件600設(shè)置在機架100上的定位套筒700，定位套筒700的頂部設(shè)置有與匣缽1的頂部邊緣相適配的限位臺階710。本實施例中的第一彈性浮動組件400和第二彈性浮動組件600為彈簧。

本發(fā)明的工作原理如下：

在初始工作狀態(tài)下，保護套筒500和定位套筒700的頂部高度高于磨具300的高度，防止誤傷。當(dāng)需要打磨匣缽1的內(nèi)表面底部時，將需要磨邊的坯體1倒扣在定位套筒700上，使得定位套筒700的限位臺階710與匣缽1的頂部邊緣配合限位，且使得匣缽1的中心與磨具300中心對中。接著用力下壓，使得定位套筒700向下壓縮，匣缽1在下降過程中，匣缽1的內(nèi)表面底部外緣會帶動保護套筒500下壓，直到匣缽1的內(nèi)表面底部與磨具300抵觸打磨，待工作幾秒之后，此時匣缽1的內(nèi)表面底部已被磨具300打磨均勻，即可松手使得匣缽1在彈力作用下離開磨具300，即完成打磨。本發(fā)明能夠快速對匣缽1的內(nèi)表面底部進行打磨，大大提高了打磨效率。

以上顯示和描述了本發(fā)明的基本原理和主要特征和本發(fā)明的優(yōu)點。本行業(yè)的技術(shù)人員應(yīng)該了解，本發(fā)明不受上述實施例的限制，上述實施例和說明書中描述的只是說明本發(fā)明的原理，在不脫離本發(fā)明精神和范圍的前提下，本發(fā)明還會有各種變化和改進，這些變化和改進都落入要求保護的本發(fā)明范圍內(nèi)。本發(fā)明要求保護范圍由所附的權(quán)利要求書及其等效物界定。