本發(fā)明涉及SUS蝕刻生產(chǎn)加工與制造領(lǐng)域，尤其涉及一種SUS無連接蝕刻生產(chǎn)工藝。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有 SUS微連接生產(chǎn)工藝制造生產(chǎn)的SUS產(chǎn)品PCS與PCS之間存在連接，傳統(tǒng)微連接折斷后會(huì)形成大量毛刺，產(chǎn)品品質(zhì)得不到保障，極大降低良品率，導(dǎo)致生產(chǎn)成本增加。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
本發(fā)明主要解決的技術(shù)問題是提供一種SUS無連接蝕刻生產(chǎn)工藝，針對現(xiàn)有SUS微連接蝕刻的折斷毛刺問題，本發(fā)明改進(jìn)工藝使無連接蝕刻取代傳統(tǒng)微連接蝕刻工藝，能有效地避免傳統(tǒng)微連接產(chǎn)生的折斷毛刺，較好地優(yōu)化產(chǎn)品質(zhì)量，提高良品率，降低生產(chǎn)成本。
為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的一個(gè)技術(shù)方案是：提供一種SUS無連接蝕刻生產(chǎn)工藝，包括以下具體步驟：
a、前處理，使用3%硫酸快速清洗SUS；
b、涂布，在SUS表面涂布油墨感光劑；
c、烘烤，對SUS表面的油墨感光劑烘烤定型；
d、曝光，根據(jù)生產(chǎn)需要，對定型的油墨感光劑進(jìn)行曝光處理；
e、顯影，使用顯影液對曝光后的SUS進(jìn)行沖洗；
f、烘烤，將顯影后的SUS烘烤定影；
g、蝕刻，對定影后的SUS蝕刻處理；
h、覆膜，將覆膜材料貼合在蝕刻成型的SUS表面；
i、蝕刻，二次蝕刻，去除毛邊和連接；
j、去膜，使用去膜液去除覆膜；
k、烘烤，烘干SUS表面液體。
在本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例中，所述覆膜步驟中所覆膜的材料為PET膜。
本發(fā)明的有益效果是：本發(fā)明提供的一種SUS無連接蝕刻生產(chǎn)工藝，針對現(xiàn)有SUS微連接蝕刻的折斷毛刺問題，本發(fā)明改進(jìn)工藝使無連接蝕刻取代傳統(tǒng)微連接蝕刻工藝，能有效地避免傳統(tǒng)微連接產(chǎn)生的折斷毛刺，較好地優(yōu)化產(chǎn)品質(zhì)量，提高良品率，降低生產(chǎn)成本。
附圖說明
為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其它的附圖，其中：
圖1 是本發(fā)明一種SUS無連接蝕刻生產(chǎn)工藝的一較佳實(shí)施例的流程圖。
具體實(shí)施方式
下面將對本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅是本發(fā)明的一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其它實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
如圖1所示，本發(fā)明實(shí)施例包括：
一種SUS無連接蝕刻生產(chǎn)工藝，包括以下具體步驟：
a、前處理，使用3%硫酸快速清洗SUS；
b、涂布，在SUS表面涂布油墨感光劑；
c、烘烤，對SUS表面的油墨感光劑烘烤定型；
d、曝光，根據(jù)生產(chǎn)需要，對定型的油墨感光劑進(jìn)行曝光處理；
e、顯影，使用顯影液對曝光后的SUS進(jìn)行沖洗；
f、烘烤，將顯影后的SUS烘烤定影；
g、蝕刻，對定影后的SUS蝕刻處理；
h、覆膜，將覆膜材料貼合在蝕刻成型的SUS表面；
i、蝕刻，二次蝕刻，去除毛邊和連接；
j、去膜，使用去膜液去除覆膜；
k、烘烤，烘干SUS表面液體。
其中，所述制作底片步驟中，所述覆膜步驟中所覆膜的材料為PET膜。通過上述方式，較好地保護(hù)SUS產(chǎn)品。
綜上所述，本發(fā)明提供了一種SUS無連接蝕刻生產(chǎn)工藝，針對現(xiàn)有SUS微連接蝕刻的折斷毛刺問題，本發(fā)明改進(jìn)工藝使無連接蝕刻取代傳統(tǒng)微連接蝕刻工藝，能有效地避免傳統(tǒng)微連接產(chǎn)生的折斷毛刺，較好地優(yōu)化產(chǎn)品質(zhì)量，提高良品率，降低生產(chǎn)成本。
以上所述僅為本發(fā)明的實(shí)施例，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說明書內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運(yùn)用在其它相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本發(fā)明的專利保護(hù)范圍內(nèi)。