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一種亞穩(wěn)奧氏體不銹鋼表面制備金剛石薄膜的方法與流程

文檔序號:12347421閱讀:890來源:國知局
一種亞穩(wěn)奧氏體不銹鋼表面制備金剛石薄膜的方法與流程

本發(fā)明涉及一種亞穩(wěn)奧氏體不銹鋼表面制備金剛石薄膜的方法。

(二)

背景技術(shù):

金剛石具有許多優(yōu)異的性能,如高硬度、高耐磨性、高彈性模量、良好的化學(xué)穩(wěn)定性和生物相容性。將金剛石薄膜沉積于亞穩(wěn)奧氏體不銹鋼(主要指200系列Cr-Mn型奧氏體不銹鋼和300系列Cr-Ni型奧氏體不銹鋼等,在受載荷作用下會產(chǎn)生形變誘發(fā)馬氏體現(xiàn)象的不銹鋼)表面,可以發(fā)揮金剛石高熱導(dǎo)率、高化學(xué)穩(wěn)定性及良好生物穩(wěn)定性等優(yōu)異特性,在醫(yī)療器械和食品行業(yè)存在巨大的潛在應(yīng)用,因而備受關(guān)注。

然而,在亞穩(wěn)不銹鋼表面制備出高結(jié)合力的金剛石薄膜是一件非常困難的事情。其原因有二:一是由于亞穩(wěn)不銹鋼中含有催化石墨相形成的鐵和鎳元素,使金剛石相難以形成;二是由于亞穩(wěn)不銹鋼的熱膨脹系數(shù)與金剛石的熱膨脹系數(shù)相差很大(不銹鋼的熱膨脹系數(shù)為19×10-6/K(0~800℃),金剛石的熱膨脹系數(shù)為1×10-6/K(0~800℃)),在冷卻過程中兩者間會產(chǎn)生巨大的熱應(yīng)力,使高溫下沉積的金剛石在降溫過程中脫落。目前解決此問題的辦法是在亞穩(wěn)奧氏體不銹鋼表面引進(jìn)過渡層,該過渡層要求:(1)能阻隔化學(xué)氣相沉積過程中鐵和鎳元素向外擴(kuò)散,防止生成的金剛石石墨化;(2)能阻止碳往不銹鋼內(nèi)擴(kuò)散,提高金剛石的形核率,并使不銹鋼中的碳含量不致過度升高;(3)與基體和金剛石都具有良好的結(jié)合力,并具有良好的韌性,能緩和降溫過程中薄膜中產(chǎn)生的熱應(yīng)力。目前,許多材料(包括Cr、Si、Al、Al/AlN和CrN等)已經(jīng)被選為過渡層材料并進(jìn)行了不銹鋼表面金剛石涂層制備方面的研究。但是僅采用過渡層的方法,制備的金剛石膜還存在膜基結(jié)合力不高、容易脫落的問題。

(三)

技術(shù)實現(xiàn)要素:

噴砂是一種常見的表面處理工藝,主要用來清理零件表面的氧化皮、油污和使零件表面粗糙化,從而使表面沉積的涂層可以通過機(jī)械咬合提高結(jié)合力。亞穩(wěn)奧氏體不銹鋼存在形變誘發(fā)馬氏體現(xiàn)象,即當(dāng)不銹鋼受到塑性變形時,奧氏體會向馬氏體轉(zhuǎn)變。馬氏體不銹鋼的熱膨脹系數(shù)比奧氏體不銹鋼的熱膨脹系數(shù)小30%左右,在馬氏體不銹鋼上沉積的金剛石膜產(chǎn)生的熱應(yīng)力明顯比奧氏體不銹鋼上小。因此,本發(fā)明的目的是通過噴砂與過渡層聯(lián)合使用,發(fā)揮馬氏體相熱膨脹系數(shù)小的特點,提供一種在亞穩(wěn)奧氏體不銹鋼表面制備具有高結(jié)合強(qiáng)度的金剛石薄膜的方法。

為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用如下技術(shù)方案:

一種亞穩(wěn)奧氏體不銹鋼表面制備金剛石薄膜的方法,所述方法按如下步驟進(jìn)行:

(1)對亞穩(wěn)奧氏體不銹鋼表面進(jìn)行噴砂處理,所述噴砂處理采用30~320目的玻璃砂,工作壓力為0.1~0.5MPa,噴砂時間為1~30min。

所述的亞穩(wěn)奧氏體不銹鋼主要指200系列Cr-Mn型奧氏體不銹鋼和300系列Cr-Ni型奧氏體不銹鋼等,在受載荷作用下會產(chǎn)生形變誘發(fā)馬氏體現(xiàn)象的不銹鋼。具體的產(chǎn)品牌號包括201、202、301、304等。

經(jīng)步驟(1)噴砂處理后,亞穩(wěn)奧氏體不銹鋼表層的馬氏體相體積含量為20%~100%(以X射線衍射法檢測其含量,檢測深度為15μm左右),表面粗糙度為3.2~40μm。馬氏體的熱膨脹系數(shù)為13×10-6/k,比奧氏體的熱膨脹系數(shù)小約32%,可以有效地降低冷卻過程中金剛石中的熱應(yīng)力。

(2)通過磁控濺射技術(shù)在經(jīng)過步驟(1)處理的亞穩(wěn)奧氏體不銹鋼表面沉積Cr/CrN過渡層,操作方法為:將經(jīng)過步驟(1)處理的亞穩(wěn)奧氏體不銹鋼置于非平衡磁控濺射儀中,先用Ar等離子體清洗,基體(即所述的亞穩(wěn)奧氏體不銹鋼)偏壓為400~500V,時間為20~30min;再沉積Cr層,基體偏壓為60~100V,沉積時間為10~150min;然后在真空室中通入氮氣,進(jìn)行CrN反應(yīng)磁控濺射沉積,N2的體積流量在90~1200min的沉積時間內(nèi)從20sccm逐漸升高到30sccm(使CrN層中N含量沿厚度向外方向逐漸增加),得到表面沉積有Cr/CrN過渡層的奧氏體不銹鋼。

所述Cr/CrN過渡層中,Cr層厚度為0.2~5μm,CrN層厚度為1.8~12μm。采用Cr層是為了增加過渡層與不銹鋼基體的結(jié)合強(qiáng)度,這是因為Cr元素與基體的親合力好。CrN層中N含量沿厚度向外方向逐漸增加是為了讓涂層材料的物性逐漸過渡,降低涂層中的應(yīng)力集中。

(3)將步驟(2)所得表面沉積有Cr/CrN過渡層的奧氏體不銹鋼先浸沒于金剛石微粉(W0.2~W2)的丙酮懸浮液(濃度0.005~0.02g/mL)中,20~80KHz超聲振蕩5~40min,再浸沒于丙酮中,20~80KHz超聲振蕩1~30s,干燥(可采用吹風(fēng)機(jī)吹干)后,通過化學(xué)氣相沉積工藝(CVD),在沉積溫度600~700℃、沉積氣壓1.3~6KPa、偏流1~4A、丙酮載氣(即沉積過程中以氫氣作為載氣經(jīng)過0℃丙酮產(chǎn)生氣泡將丙酮氣體引入反應(yīng)室中)與氫氣流量比為0.3~0.45:1、沉積時間60~180min的條件下,在Cr/CrN過渡層上沉積金剛石薄膜,制得成品。

本發(fā)明的有益效果體現(xiàn)在:本發(fā)明制備的金剛石薄膜具有良好的膜基結(jié)合強(qiáng)度,以HR-150A洛氏硬度計在150Kgf壓頭作用下,壓痕表面未出現(xiàn)裂紋或損傷,金剛石薄膜與基體間具有良好的結(jié)合強(qiáng)度。而未經(jīng)噴砂處理的不銹鋼樣品表面生長的金剛石薄膜,在同樣的條件下,壓痕表面出現(xiàn)裂紋,金剛石薄膜與基體的結(jié)合強(qiáng)度差。

(四)附圖說明

圖1:實施例1中金剛石薄膜Raman圖;

圖2:實施例1中金剛石薄膜表面形貌圖;

圖3:實施例1中噴砂不銹鋼上沉積金剛石薄膜樣品的洛氏壓痕(150kgf);

圖4:實施例1中鏡面不銹鋼上沉積金剛石薄膜樣品的洛氏壓痕(150kgf)。

(五)具體實施方式

下面通過具體實施例對本發(fā)明作進(jìn)一步的說明,但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不僅限于此。

實施例1:

利用噴砂機(jī)(KJ-1010,康捷噴砂機(jī)械)對不銹鋼304表面噴砂2分鐘,砂子為80目的玻璃砂,工作壓力為0.3MPa。噴砂后以激光共聚焦(LSM700,德國卡爾蔡司)檢測其粗糙度為20.3μm,以X射線衍射儀(X’pert Pro,荷蘭帕納科公司)檢測其表層馬氏體相體積含量為53.2%。以非平衡磁控濺射儀(udp650,英國米巴涂層有限公司)在其上面沉積Cr/CrN涂層。先用Ar等離子體清洗,基體偏壓為400V,時間為20min。然后沉積Cr層,基體偏壓為60V,沉積時間為10min。再在真空室中通入氮氣,進(jìn)行CrN反應(yīng)磁控濺射沉積,N2體積流量在90min的沉積時間內(nèi)逐漸從20sccm升高到30sccm。沉積得到的Cr層厚度為0.2μm,CrN層厚度為1.8μm。然后以熱絲化學(xué)氣相沉積儀(JUHF CVD 001上海交通大學(xué))在上面沉積金剛石涂層。沉積前,樣品經(jīng)過粒度為W1,濃度為0.01g/ml金剛石微粉的丙酮懸浮液中超聲振蕩30min,再在純丙酮中超聲10s,以吹風(fēng)機(jī)吹干。再進(jìn)行化學(xué)氣相沉積工藝,沉積時間為60min,沉積溫度為630℃,沉積氣壓為1.3KPa,偏流4A,丙酮載氣與氫氣流量比為0.4,制得成品。

圖1為制備樣品表面金剛石的Raman圖,金剛石峰明顯,說明制備的薄膜為金剛石膜。圖2為沉積后樣品表面形貌圖,說明金剛石膜連續(xù)致密。圖3為制備樣品的洛氏壓痕圖,壓痕表面未出現(xiàn)裂紋,說明膜基結(jié)合結(jié)合強(qiáng)度良好。圖4為未經(jīng)過噴砂樣品(其他工藝過程與參數(shù)相同)的洛氏壓痕圖,可見壓痕表面存在裂紋,說明膜基結(jié)合強(qiáng)度差。

實施例2:

利用噴砂機(jī)(KJ-1010,康捷噴砂機(jī)械)對不銹鋼301表面噴砂1分鐘,砂子為320目的玻璃砂,工作壓力為0.1MPa。噴砂后以激光共聚焦(LSM700,德國卡爾蔡司)檢測其粗糙度為3.2μm,以X射線衍射儀(X’pert Pro,荷蘭帕納科公司)檢測其表層馬氏體相體積含量為20%。以非平衡磁控濺射儀(udp650,英國米巴涂層有限公司)在其上面沉積Cr/CrN涂層。先用Ar等離子體清洗,基體偏壓為500V,時間為30min。然后沉積Cr層,基體偏壓為100V,沉積時間為150min。再在真空室中通入氮氣,進(jìn)行CrN反應(yīng)磁控濺射沉積,N2體積流量在1200min的沉積時間內(nèi)逐漸從20sccm升高到30sccm。沉積得到的Cr層厚度為5μm,CrN層厚度為12μm。然后以熱絲化學(xué)氣相沉積儀(JUHF CVD 001上海交通大學(xué))在上面沉積金剛石涂層。沉積前,樣品經(jīng)過粒度為W2,濃度為0.02g/ml金剛石微粉的丙酮懸浮液中超聲振蕩5min,再在純丙酮中超聲30s,以吹風(fēng)機(jī)吹干。再進(jìn)行化學(xué)氣相沉積工藝,沉積時間為180min,沉積溫度為600℃,沉積氣壓為6KPa,偏流1A,丙酮載氣與氫氣流量比為為0.45,制得成品。

制備的金剛石薄膜在HR-150A洛氏硬度計上以150kgf壓入,得到的壓痕附近無裂紋,說明金剛石膜與基體間具有良好的結(jié)合強(qiáng)度。

實施例3:

利用噴砂機(jī)(KJ-1010,康捷噴砂機(jī)械)對不銹鋼201表面噴砂1分鐘,砂子為30目的玻璃砂,工作壓力為0.5MPa。噴砂后以激光共聚焦(LSM700,德國卡爾蔡司)檢測其粗糙度為40μm,以X射線衍射儀(X’pert Pro,荷蘭帕納科公司)檢測其表層馬氏體相體積含量為100%。以非平衡磁控濺射儀(udp650,英國米巴涂層有限公司)在其上面沉積Cr/CrN涂層。先用Ar等離子體清洗,基體偏壓為450V,時間為25min。然后沉積Cr層,基體偏壓為80V,沉積時間為90min。再在真空室中通入氮氣,進(jìn)行CrN反應(yīng)磁控濺射沉積,N2體積流量在600min的沉積時間內(nèi)逐漸從20sccm升高到30sccm。沉積得到的Cr層厚度為3μm,CrN層厚度為6μm。然后以熱絲化學(xué)氣相沉積儀(JUHF CVD 001上海交通大學(xué))在上面沉積金剛石涂層。沉積前,樣品經(jīng)過粒度為W0.2濃度為0.005g/ml金剛石微粉的丙酮懸浮液中超聲振蕩40min,再在純丙酮中超聲1s,以吹風(fēng)機(jī)吹干。再進(jìn)行化學(xué)氣相沉積工藝,沉積時間為120min,沉積溫度為700℃,沉積氣壓為3KPa,偏流3A,丙酮載氣與氫氣流量比為0.3,制得成品。

制備的金剛石薄膜在HR-150A洛氏硬度計上以150kgf壓入,得到的壓痕附近無裂紋,說明金剛石膜與基體間具有良好的結(jié)合強(qiáng)度。

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