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一種轉(zhuǎn)爐煤氣濕法除塵排水裝置的制作方法

文檔序號(hào):11937135閱讀:403來源:國知局
一種轉(zhuǎn)爐煤氣濕法除塵排水裝置的制作方法

本發(fā)明涉及一種排水裝置,具體涉及一種轉(zhuǎn)爐煤氣濕法除塵排水裝置。



背景技術(shù):

轉(zhuǎn)爐煤氣濕法除塵工藝會(huì)產(chǎn)生大量的含塵污水,為防止污水排出過程中煤氣通過排水管道外泄,必須設(shè)置能夠避免除塵工藝排水管與外界大氣直接相同的排水裝置。一般的做法是排水裝置底部始終保持一定的存水,將除塵工藝排水管插入水中一定深度,形成水封,除塵污水通過溢流排出。轉(zhuǎn)爐煤氣濕法除塵污水中的大顆粒塵泥會(huì)在排水裝置底部沉積,工作一段時(shí)間后需要及時(shí)排出底部塵泥,否則逐漸增高的塵泥會(huì)將工藝排水管阻塞,污水無法從除塵工藝排出,造成安全事故。

由于轉(zhuǎn)爐煤氣濕法除塵污水中含沙較多,頻繁排出底部塵泥污水的操作,

含沙污水極易磨損排污閥閥板密封墊,排污管道上設(shè)置的排污閥使用一段時(shí)間后,容易出現(xiàn)關(guān)閉不嚴(yán)、漏水滲水現(xiàn)象;而一旦出現(xiàn)排污閥關(guān)閉不嚴(yán)、閥板滲水現(xiàn)象,

底部塵泥通過閥板滲水過濾效應(yīng)在排污閥內(nèi)側(cè)大量聚集,直至完全堵塞排污閥內(nèi)側(cè)的排污口,造成單純靠上部水壓作用無法排出底部污泥,需要停止生產(chǎn),人工進(jìn)入排水裝置清理污泥,耗費(fèi)大量人力物力,增大了生產(chǎn)成本。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本發(fā)明的目的在于,針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種防堵塞、自動(dòng)清理底部塵泥的轉(zhuǎn)爐煤氣濕法除塵排水裝置。

本發(fā)明采用的技術(shù)方案是:一種轉(zhuǎn)爐煤氣濕法除塵排水裝置,主要包括箱本體、螺旋輸送桿、驅(qū)動(dòng)馬達(dá)和自動(dòng)控制系統(tǒng),箱本體包括上部箱體和下部箱體,上部箱體的上端設(shè)有頂蓋,頂蓋上開設(shè)有排氣管道和進(jìn)水管道,所述進(jìn)水管道的下端伸入上部箱體內(nèi),上部箱體的下部安設(shè)有排水管道;下部箱體一側(cè)底部設(shè)有排污管道,排污管道的入口處安設(shè)有排污閥;所述螺旋輸送桿安設(shè)在下部箱體的底部,螺旋輸送桿的長度方向平行于排污管道的軸線,且螺旋輸送桿的一端伸入排污管道內(nèi)部,螺旋輸送桿的另一端伸出下部箱體,與驅(qū)動(dòng)馬達(dá)的驅(qū)動(dòng)端相連;所述排污閥、驅(qū)動(dòng)馬達(dá)分別與自動(dòng)控制系統(tǒng)電連接。

按上述方案,在上部箱體內(nèi)安設(shè)有隔板,隔板將上部箱體分隔為水封區(qū)和溢流區(qū),所述進(jìn)水管道的下端伸入水封區(qū);所述排水管道安設(shè)在溢流區(qū)。

按上述方案,在水封區(qū)的 側(cè)壁安裝有檢查孔和水位檢測(cè)計(jì),水位檢測(cè)計(jì)與自動(dòng)控制系統(tǒng)電連接。

按上述方案,所述下部箱體安設(shè)在水封區(qū)的底部,與水封區(qū)連通。

按上述方案,所述箱本體安裝在支撐架上。

按上述方案,驅(qū)動(dòng)馬達(dá)安裝在機(jī)架上。

本發(fā)明的有益效果為:1、設(shè)置在底部的螺旋輸送桿在排污過程中起到了攪動(dòng)底部塵泥、疏通排污管道的作用,即使是排水管道完全堵塞的情況下,通過螺旋輸送桿的攪動(dòng),污泥在排污管道中產(chǎn)生空隙,促進(jìn)了污水與污泥混合,最終帶動(dòng)塵泥順暢排出;更重要的是,螺旋輸送桿提供了污泥排出的動(dòng)力,將污泥不斷向前推送,加速了污泥的排出,充分避免了排污管道堵塞,保證了整個(gè)排水裝置的穩(wěn)定運(yùn)行;2、下部箱體安設(shè)在水封區(qū)的底部,在排污時(shí)上部箱體可對(duì)污泥施加一定的壓力,可加速污泥的排出;3、本裝置安全可靠,日常維護(hù)簡單,運(yùn)行成本低。

附圖

圖1為本發(fā)明一個(gè)具體實(shí)施例的主視圖。

圖2為本實(shí)施例的左視圖。

圖3為本實(shí)施例的俯視圖。

其中:1、頂蓋;2、上部箱體;3、下部箱體;4、進(jìn)水管道;5、排氣管;6、檢查孔;7、排水管道;8、隔板;9、排污管道;10、排污閥;11、驅(qū)動(dòng)馬達(dá);12、螺旋輸送桿;13、機(jī)架;14、支撐架;15、水位檢測(cè)計(jì);16、水封區(qū);17、溢流區(qū)。

具體實(shí)施方式

為了更好地理解本發(fā)明,下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步地描述。

如圖1~3所示的一種轉(zhuǎn)爐煤氣濕法除塵排水裝置,主要包括箱本體、螺旋輸送桿12、驅(qū)動(dòng)馬達(dá)11和自動(dòng)控制系統(tǒng),所述箱本體安裝在支撐架14上,箱本體包括上部箱體2和下部箱體3,上部箱體2的上端設(shè)有頂蓋1,頂蓋1上開設(shè)有排氣管道5和進(jìn)水管道4;上部箱體2為污水區(qū),所述進(jìn)水管道4的下端伸入上部箱體2內(nèi),上部箱體2的下部安設(shè)有排水管道7;下部箱體3為污泥區(qū),下部箱體3的一側(cè)底部設(shè)有排污管道9,排污管道9的入口處安設(shè)有排污閥10;所述螺旋輸送桿12安設(shè)在下部箱體3的底部,螺旋輸送桿12的長度方向平行于排污管道9的軸線,且螺旋輸送桿12的一端伸入排污管道9內(nèi)部,螺旋輸送桿12的另一端伸出下部箱體3,與驅(qū)動(dòng)馬達(dá)11的驅(qū)動(dòng)端相連;驅(qū)動(dòng)馬達(dá)11帶動(dòng)螺旋輸送桿12旋轉(zhuǎn);驅(qū)動(dòng)馬達(dá)11安裝在機(jī)架13上;所述排污閥10為電動(dòng)閥或氣動(dòng)閥,排污閥10、驅(qū)動(dòng)馬達(dá)11分別與自動(dòng)控制系統(tǒng)電連接。

在上部箱體2內(nèi)安設(shè)有隔板8,隔板8將上部箱體2分隔為水封區(qū)16和溢流區(qū)17,所述進(jìn)水管道4的下端伸入水封區(qū)16,水封區(qū)16對(duì)進(jìn)水管道4來說有一定的水封高度,起到密封作用,防止轉(zhuǎn)爐煤氣通過進(jìn)水管道4直接與外界大氣環(huán)境相通(排水裝置內(nèi)部殘存的煤氣經(jīng)排氣管5排至指定的安全區(qū)域);所述排水管道7安設(shè)在溢流區(qū)17。在水封區(qū)16的上部箱體2側(cè)壁安裝有檢查孔6和水位檢測(cè)計(jì)15,水位檢測(cè)計(jì)15與自動(dòng)控制系統(tǒng)電連接;自動(dòng)控制系統(tǒng)對(duì)水封區(qū)16的最低水位設(shè)有一個(gè)設(shè)定值,所述隔板8的高度不低于該設(shè)定值。所述下部箱體3的一側(cè)壁向排污管道9傾斜布置,安設(shè)在上部箱體2水封區(qū)16的底部,與水封區(qū)16連通,在排污時(shí)上部箱體2可對(duì)污泥施加一定的壓力,加速污泥的排出。

含塵污水經(jīng)進(jìn)水管道4進(jìn)入上部箱體2的水封區(qū)16,污水中的固體顆粒等雜物由水封區(qū)16沉淀至污泥區(qū);當(dāng)水封區(qū)16的液面超過隔板8的高度時(shí),水封區(qū)16內(nèi)的部分上清液經(jīng)隔板8溢流至溢流區(qū)17,最后經(jīng)排水管道7排出。

所述排水裝置前期工作時(shí),下部箱體3內(nèi)的污泥沉積量較少,此時(shí)的排污閥10和驅(qū)動(dòng)馬達(dá)11均處于關(guān)閉狀態(tài);當(dāng)所述排水裝置工作一段時(shí)間后(該時(shí)間可設(shè)定)污泥沉積量較多時(shí),自控系統(tǒng)控制排污閥10開啟,同時(shí)驅(qū)動(dòng)馬達(dá)11工作,驅(qū)動(dòng)馬達(dá)11帶動(dòng)螺旋輸送桿12轉(zhuǎn)動(dòng),螺旋輸送桿12攪動(dòng)底部的污泥,并不斷將污泥向前推送至排污管道9內(nèi),在上部箱體2水封區(qū)17的水壓作用輔助下,污泥與部分污水經(jīng)排污管道9排出;若當(dāng)水位檢測(cè)計(jì)15檢測(cè)到上部箱體2水封區(qū)16的水位降至設(shè)定值時(shí),為防止進(jìn)水管道4的水封高度過低造成轉(zhuǎn)爐煤氣泄漏,自動(dòng)控制系統(tǒng)關(guān)閉排污閥10和驅(qū)動(dòng)馬達(dá)11,停止排污。

以上僅為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例,并非因此限制本發(fā)明的專利范圍,凡是利用本發(fā)明說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或者等效流程變換,或者直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域,均同理包括在本發(fā)明的專利保護(hù)范圍內(nèi)。

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