1.一種拋光鍍膜的磨頭，包括：
電機(jī)、氣缸組件、機(jī)架、主軸、磨盤；其中，
所述電機(jī)通過(guò)主軸連接磨盤，用于在拋光鍍膜工作時(shí)帶動(dòng)磨盤轉(zhuǎn)動(dòng)；
所述氣缸組件用于控制磨頭的升降，氣缸組件的上部與所述電機(jī)的下部連接，氣缸組件的下部的氣缸固定連接所述機(jī)架。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磨頭，其特征在于：
優(yōu)選的，對(duì)于所述氣缸組件，當(dāng)處于不工作狀態(tài)時(shí)，氣缸組件帶動(dòng)磨頭上升，所述磨盤與加工板材脫離接觸，整個(gè)磨頭的重力通過(guò)氣缸組件傳遞至機(jī)架；當(dāng)處于工作狀態(tài)時(shí)，氣缸組件控制磨頭下降，氣缸組件的上部與電機(jī)下部之間處于無(wú)垂直壓力狀態(tài)，電機(jī)、主軸、磨盤和拋光耗材以自身總重力整體壓在加工板材上，磨頭拋光時(shí)的壓力恒等于這些部件的自身重力之和。
3.通過(guò)主軸根據(jù)權(quán)利要求1所述的磨頭，其特征在于：
對(duì)于所述氣缸組件，當(dāng)處于不工作狀態(tài)時(shí)，氣缸組件帶動(dòng)磨頭上升，所述磨盤與加工板材脫離接觸，整個(gè)磨頭的重力通過(guò)氣缸組件傳遞至機(jī)架；當(dāng)處于工作狀態(tài)時(shí)，氣缸組件控制磨頭下降，氣缸組件的上部與電機(jī)下部之間存在較小范圍的垂直壓力，電機(jī)、主軸、磨盤和拋光耗材主要以自身總重力整體壓在加工板材上，磨頭拋光時(shí)的壓力恒等于這些部件的自身總重力與所述垂直壓力的作用力之和，所述較小范圍的垂直壓力的值為所述總重力大小的1/5或以下。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的磨頭，其特征在于：
所述磨頭還包括壓力微調(diào)系統(tǒng)，所述壓力微調(diào)系統(tǒng)包括壓力閥以及壓力傳感器；其中，所述壓力閥控制所述氣缸的壓力大小，從而對(duì)所述垂直壓力進(jìn)行調(diào)節(jié)控制，所述壓力傳感器對(duì)所述垂直壓力進(jìn)行測(cè)量反饋；通過(guò)所述壓力閥和所述壓力傳感器的配合工作，從而根據(jù)加工板材的不同，對(duì)所述磨頭拋光時(shí)的壓力進(jìn)行微調(diào)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的磨頭，其特征在于，所述磨頭還包括拋光壓力輔助調(diào)節(jié)結(jié)構(gòu)，使得拋光壓力在電機(jī)、主軸、磨盤和拋光耗材的自身重力之和的基礎(chǔ)上獲得較小范圍的增加或減少，增加或減少的大小為所述重力之和大小的1/5或以下。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的磨頭，其特征在于，所述氣缸組件中的氣缸固定連接在所述機(jī)架的上方，或者，所述氣缸組件中的氣缸固定連接在所述機(jī)架的下方。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的磨頭，其特征在于，在主軸的外周還設(shè)置有軸套，所述磨頭還設(shè)有固定筒，所述固定筒固定連接所述機(jī)架，且所述固定筒的中心貫穿有圓柱形或類似圓柱形的通孔，所述軸套和主軸穿設(shè)限制在該通孔內(nèi)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的磨頭，其特征在于，所述固定筒固定連接在所述機(jī)架的上方，或者所述固定筒固定連接在所述機(jī)架的下方。
9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的磨頭，其特征在于：
所述電機(jī)采用六級(jí)或八級(jí)電機(jī)，電機(jī)功率為1.1-2.2KW；
或者，采用變頻器將電機(jī)的轉(zhuǎn)速調(diào)整，使電機(jī)的轉(zhuǎn)速控制在600-1200r/min。
10.一種用于板材拋光鍍膜加工的生產(chǎn)裝置，其特征在于，該生產(chǎn)裝置的生產(chǎn)線上排布有兩個(gè)以上如權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的磨頭，每排的磨頭數(shù)量滿足板材的寬度要求，每排磨頭擺動(dòng)拋磨從而覆蓋整個(gè)板材寬度；所述磨頭的排數(shù)滿足拋光的線速度要求。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的生產(chǎn)裝置，其特征在于，每排的磨頭數(shù)量為2-4個(gè)；所述磨頭的排數(shù)為6-20排。