本發(fā)明涉及拋光鍍膜領(lǐng)域，尤其涉及一種用于拋光鍍膜的磨頭及裝置。

背景技術(shù)：

石英石由90％以上的天然石英(顆?；蛭⒎鄣?和10％左右的不飽和樹脂、色料和其它添加劑組成，是經(jīng)過負(fù)壓真空、高頻振動(dòng)成型、加溫固化(溫度高低是根據(jù)固化劑的種類而定)的生產(chǎn)方法加工而成的板材。其質(zhì)地堅(jiān)硬(莫氏硬度5-7)、結(jié)構(gòu)致密(密度2.5g/cm3)，具有其他裝飾材料無法比擬的耐磨、耐壓、耐高溫、抗腐蝕、防滲透等特性。

目前市場(chǎng)上的石英石光度不高，一般在35-50度之間，對(duì)比天然石材和人造崗石拋光、增亮后90度左右的光度，不能滿足人們對(duì)于美麗石材的要求，光度低也限制了石英石紋理的表現(xiàn)力。同時(shí)石英石的耐污性不像很多廠家所宣稱的那么優(yōu)異，比如測(cè)試使用記號(hào)筆和墨水就很容易滲入石英石且難以清洗干凈，所以石英石在使用過程中易出現(xiàn)滲污、變色等問題。

目前廣泛使用的石英石拋光鍍膜生產(chǎn)線基本都是采取電機(jī)帶動(dòng)大磨盤公轉(zhuǎn)，大磨盤的邊緣均勻地安裝有4-8個(gè)有自轉(zhuǎn)的小磨盤，一條生產(chǎn)線有8-12個(gè)大的拋光磨頭。通過高效的流水線生產(chǎn)方式，利用簡(jiǎn)單的拋光工藝在石英石表面鍍上一層無機(jī)復(fù)合晶體膜，從而達(dá)到增光、增艷及防污的效果。

但該生產(chǎn)線的磨頭結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)存在一些缺陷：

1、小磨盤的總面積占大磨盤面積很小，比如大盤直徑85cm，小盤直徑只有17cm，導(dǎo)致有效拋磨面積小、拋磨效率低，進(jìn)而使大磨頭需求數(shù)量過多而占用空間，能耗也增加；

2、流水線作業(yè)時(shí)，大磨盤中間位置拋磨強(qiáng)度低于兩邊十多公分，導(dǎo)致石材板面效果中間和兩邊不均勻；

3、隨著拋光耗材磨損、變形和板材厚度變化等情況，需要隨時(shí)調(diào)節(jié)氣壓或螺桿限位裝置等來控制拋磨時(shí)的壓力，變量的多樣化使得難以形成標(biāo)準(zhǔn)化操作流程。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為了解決上述技術(shù)問題，本申請(qǐng)采用如下技術(shù)方案：

一種拋光鍍膜的磨頭，包括：

所述電機(jī)通過主軸連接磨盤，用于在拋光鍍膜工作時(shí)帶動(dòng)磨盤轉(zhuǎn)動(dòng)；

所述氣缸組件用于控制磨頭的升降，氣缸組件的上部與所述電機(jī)的下部連接，氣缸組件的下部的氣缸固定連接所述機(jī)架。通過主軸

較佳的，對(duì)于所述氣缸組件，當(dāng)處于不工作狀態(tài)時(shí)，氣缸組件帶動(dòng)磨頭上升，所述磨盤與加工板材脫離接觸，整個(gè)磨頭的重力通過氣缸組件傳遞至機(jī)架；當(dāng)處于工作狀態(tài)時(shí)，氣缸組件控制磨頭下降，氣缸組件的上部與電機(jī)下部處于無垂直壓力接觸狀態(tài)，電機(jī)、主軸、磨盤和拋光耗材以自身總重力整體壓在加工板材上，磨頭拋光時(shí)的壓力恒等于這些部件的自身總重力之和。

或者，通過主軸較佳的，對(duì)于所述氣缸組件，當(dāng)處于不工作狀態(tài)時(shí)，氣缸組件帶動(dòng)磨頭上升，所述磨盤與加工板材脫離接觸，整個(gè)磨頭的重力通過氣缸組件傳遞至機(jī)架；當(dāng)處于工作狀態(tài)時(shí)，氣缸組件控制磨頭下降，氣缸組件的上部與電機(jī)下部之間存在較小范圍的垂直壓力，電機(jī)、主軸、磨盤和拋光耗材主要以自身總重力整體壓在加工板材上，磨頭拋光時(shí)的壓力恒等于這些部件的自身總重力與所述垂直壓力的作用力之和，所述垂直壓力的值為所述總重力大小的1/5或以下。

較佳的，所述磨頭還包括壓力微調(diào)系統(tǒng)，所述壓力微調(diào)系統(tǒng)包括壓力閥以及壓力傳感器；其中，所述壓力閥控制所述氣缸的壓力大小，從而對(duì)所述垂直壓力進(jìn)行調(diào)節(jié)控制，所述壓力傳感器對(duì)所述垂直壓力進(jìn)行測(cè)量反饋；通過所述壓力閥和所述壓力傳感器的配合工作，從而根據(jù)加工板材的不同，對(duì)所述磨頭拋光時(shí)的壓力進(jìn)行微調(diào)。

較佳的，所述磨頭還包括拋光壓力輔助調(diào)節(jié)結(jié)構(gòu)，使得拋光壓力在電機(jī)、主軸、磨盤和拋光耗材的自身重力之和的基礎(chǔ)上獲得較小范圍的增加或減少，增加或減少的大小為所述重力之和大小的1/5或以下。

較佳的，所述氣缸組件中的氣缸固定連接在所述機(jī)架的上方，或者，所述氣缸組件中的氣缸固定連接在所述機(jī)架的下方。

較佳的，在主軸的外周還設(shè)置有軸套，所述磨頭還設(shè)有固定筒，所述固定筒固定連接所述機(jī)架，且所述固定筒的中心貫穿有圓柱形或類似圓柱形的通孔，所述軸套和主軸穿設(shè)限制在該通孔內(nèi)。

較佳的，所述固定筒固定連接在所述機(jī)架的上方，或者所述固定筒固定連接在所述機(jī)架的下方。

較佳的，所述電機(jī)采用六級(jí)或八級(jí)電機(jī)，電機(jī)功率為1.1-2.2KW；或者，采用變頻器將電機(jī)的轉(zhuǎn)速調(diào)整，使電機(jī)的轉(zhuǎn)速控制在600-1200r/min。

同時(shí)，本申請(qǐng)還采用了：

一種用于板材拋光鍍膜加工的生產(chǎn)裝置，該生產(chǎn)裝置的生產(chǎn)線上排布有兩個(gè)以上所述的磨頭，每排的磨頭數(shù)量滿足板材的寬度要求，每排磨頭擺動(dòng)拋磨從而覆蓋整個(gè)板材寬度；所述磨頭的排數(shù)滿足拋光的線速度要求。

較佳的，每排的磨頭數(shù)量為2-4個(gè)；所述磨頭的排數(shù)為6-20排。

綜上可見，本發(fā)明提供了一種拋光鍍膜的磨頭，利用電機(jī)通過主軸帶動(dòng)磨盤轉(zhuǎn)動(dòng)，達(dá)到拋光鍍膜效果；同時(shí)，利用氣缸組件控制磨頭的升降，使得磨頭拋光時(shí)的壓力基本恒等于相關(guān)磨頭部件的自身重力，從而不需要經(jīng)常通過氣壓或螺桿限位裝置來調(diào)節(jié)壓力，且保持拋光壓力基本始終不變。同時(shí)，本發(fā)明還通過在拋光鍍膜生產(chǎn)線上合理排布多個(gè)所述磨頭，從而實(shí)現(xiàn)高拋光效率和高均勻度拋光效果。

附圖說明

附圖1為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例中用于拋光鍍膜的磨頭的組成結(jié)構(gòu)圖；

附圖2為本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施例中用于拋光鍍膜的磨頭的組成結(jié)構(gòu)圖。

具體實(shí)施方式

根據(jù)現(xiàn)存的問題，本發(fā)明設(shè)計(jì)了一種拋光鍍膜的單電機(jī)磨頭結(jié)構(gòu)，如附圖1所示，主要包括電機(jī)1、氣缸組件2、機(jī)架4、主軸6、磨盤7。其中，所述電機(jī)1通過主軸6連接磨盤7，在拋光鍍膜工作時(shí)帶動(dòng)磨盤7轉(zhuǎn)動(dòng)；所述氣缸組件2控制磨頭的升降，其上部與所述電機(jī)1的下部連接，其下部的氣缸固定連接在機(jī)架4的上方。

這樣的設(shè)計(jì)，使得磨頭通過氣缸組件2控制升降，磨頭拋光時(shí)的壓力為相關(guān)部件(電機(jī)1、主軸6、磨盤7和拋光耗材)的自身重力之和，從而不需要經(jīng)常通過氣壓或螺桿限位裝置來調(diào)節(jié)壓力，不論拋光耗材如何損耗及變形、不論板材的厚度如何變化，給板材的拋光壓力始終不變。

當(dāng)處于不工作狀態(tài)時(shí)，氣缸組件2帶動(dòng)磨頭上升，磨盤7與加工板材脫離接觸，整個(gè)磨頭的重力通過氣缸組件2傳遞至機(jī)架4，當(dāng)處于工作狀態(tài)時(shí)，氣缸組件2控制磨頭下降，此時(shí)，氣缸組件2的上部與電機(jī)1下部處于無壓力接觸狀態(tài)，電機(jī)1、主軸6、磨盤7和拋光耗材以自身重力整體壓在加工板材上，磨頭拋光時(shí)的壓力恒等于這些部件的自身重力之和。

為了對(duì)主軸6進(jìn)行保護(hù)，在主軸6的外周設(shè)置有軸套5，此時(shí)，拋光壓力為電機(jī)1、主軸6、軸套5、磨盤7、拋光耗材自身重力之和；同時(shí)，為了對(duì)主軸6的軸線方向進(jìn)行限位，避免加工過程中主軸6嚴(yán)重偏離軸線方向，所述磨頭還設(shè)有固定筒3，所述固定筒3固定連接在機(jī)架4上方，且中心貫穿有圓柱形或類似圓柱形的通孔，軸套5和主軸6穿設(shè)限制在該通孔內(nèi)。

在進(jìn)一步具體設(shè)計(jì)時(shí)，電機(jī)1采用六級(jí)或八級(jí)電機(jī)，電機(jī)1的功率為1.1-2.2KW，或采用變頻器將電機(jī)1的轉(zhuǎn)速調(diào)整，使電機(jī)1的轉(zhuǎn)速控制在600-1200r/min；磨盤7為圓形，直徑是20-30cm；從而保證磨頭的拋光鍍膜工作較好的進(jìn)行。

在另一個(gè)實(shí)施例中，為了使得所述磨頭的結(jié)構(gòu)更加緊湊穩(wěn)定，充分節(jié)省空間，對(duì)之前的磨頭結(jié)構(gòu)進(jìn)行了改變調(diào)整，如附圖2所示。該實(shí)施例中的改變之處在于，所述氣缸組件2中的氣缸固定在所述機(jī)架4的下方，同時(shí)，所述固定筒3也固定連接在機(jī)架4的下方，通過這樣的設(shè)計(jì)，使得磨頭的整體重心更加靠近機(jī)架4，從而更加穩(wěn)固，且對(duì)空間的利用率更高，使得磨頭的結(jié)構(gòu)更加緊湊。

在本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施例中，給予上述磨頭的拋光壓力一定的變動(dòng)范圍，但仍然以相關(guān)部件(電機(jī)1、軸套5、主軸6、磨盤7和拋光耗材)的自身重力之和為主要壓力源。具體不同之處在于，當(dāng)處于工作狀態(tài)時(shí)，氣缸組件2控制磨頭下降，此時(shí)，氣缸組件2的上部與電機(jī)1下部之間存在較小范圍的垂直壓力(向上或向下)，電機(jī)1、軸套5、主軸6、磨盤7和拋光耗材主要以自身重力整體壓在加工板材上，磨頭拋光時(shí)的壓力恒等于這些部件的自身總重力與上述垂直壓力的作用力之和，上述垂直壓力的值遠(yuǎn)小于所述總重力的值，例如，可以為所述總重力大小的1/5或以下。通過這樣的設(shè)計(jì)，給予各結(jié)構(gòu)部件一定的調(diào)整控制空間，同時(shí)仍然能夠保證拋光壓力基本恒定。

更加優(yōu)化的，為了滿足不同板材(包括材料及厚度的不同)對(duì)于拋光壓力的需求差異，在本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施例中，根據(jù)該需求差異對(duì)上述磨頭進(jìn)行了改進(jìn)。具體的，在該實(shí)施例中，所述磨頭還包括壓力微調(diào)系統(tǒng)，所述壓力微調(diào)系統(tǒng)包括控制氣缸壓力大小的壓力閥以及對(duì)電機(jī)1和氣缸組件2之間的垂直壓力進(jìn)行測(cè)量反饋的壓力傳感器；根據(jù)加工板材的不同，對(duì)磨頭所需的拋光壓力進(jìn)行微調(diào)范圍內(nèi)(例如，0.8*上述實(shí)施例中的總重力～1.2*上述實(shí)施例中的總重力)的選定，繼而計(jì)算所述氣缸組件2所需要提供給所述電機(jī)1的預(yù)期壓力，通過壓力傳感器獲取當(dāng)前的垂直壓力，計(jì)算當(dāng)前的垂直壓力與所述預(yù)期壓力的差值，根據(jù)該差值調(diào)節(jié)壓力閥，從而控制氣缸壓力，直至所述壓力傳感器測(cè)量的垂直壓力等于所述預(yù)期壓力，即，最終獲得所需的拋光壓力。

除了上述通過控制所述氣缸組件的方式對(duì)所述拋光壓力進(jìn)行微調(diào)外，在另一些實(shí)施例中還可以通過設(shè)置其他結(jié)構(gòu)來對(duì)拋光壓力進(jìn)行輔助調(diào)節(jié)，例如，設(shè)置限位結(jié)構(gòu)(如螺桿限位裝置)，使得拋光壓力在相關(guān)部件(電機(jī)1、軸套5、主軸6、磨盤7和拋光耗材)的自身重力之和的基礎(chǔ)上獲得較小范圍的增加或減少，增加或減少的大小為所述重力之和大小的1/5或以下。需要補(bǔ)充說明的是，對(duì)于該1/5的這一裕量要求，如果能夠滿足生產(chǎn)要求，該裕量要求可以進(jìn)一步放寬，本專利申請(qǐng)所請(qǐng)求保護(hù)的范圍并不受限于該裕量。

在實(shí)際應(yīng)用中，將上述兩個(gè)實(shí)施例中的磨頭用于拋光鍍膜生產(chǎn)線時(shí)，應(yīng)根據(jù)板材的寬度選擇合適的磨頭數(shù)量與排布，比如，760mm寬的標(biāo)準(zhǔn)板，可以做一排兩個(gè)磨頭，兩個(gè)磨頭擺動(dòng)拋磨從而可以覆蓋整個(gè)板材寬度，而且磨頭擺動(dòng)拋磨比固定拋磨的效果更均勻；再比如，1600mm寬的大板，可以一排做4個(gè)磨頭。

同時(shí)，根據(jù)流水線拋光的線速度要求，磨頭的排數(shù)可以任意增加，從6排到20排都可以。按照以上的生產(chǎn)線設(shè)計(jì)，磨頭之間緊密排布，使得拋光效率很高，可以大大縮短生產(chǎn)線的長(zhǎng)度(減短1/3-1/2)；并且所有磨頭整體擺動(dòng)拋磨，效果均勻。

此外，值得注意的是，本磨頭即可用于石英石拋光鍍膜，也可以用于人造崗石、大理石、花崗巖等的拋光鍍膜工藝，其設(shè)計(jì)簡(jiǎn)便、操作簡(jiǎn)單、節(jié)能、省空間、鍍膜效果好。

以上實(shí)施例僅用以說明本發(fā)明的技術(shù)方案，而非對(duì)其限制；盡管參照上述實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)的說明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解；其依然可以對(duì)上述各實(shí)施例所記載的技術(shù)方案進(jìn)行修改，或者對(duì)其中部分技術(shù)特征進(jìn)行等同替代；而這些修改或者替換，并不使相應(yīng)技術(shù)方案的本質(zhì)脫離本發(fā)明各實(shí)施例技術(shù)方案的精神和范圍。