技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本申請?zhí)峁┝艘环N真空鍍膜設(shè)備與單質(zhì)薄膜的鍍制方法。該真空鍍膜設(shè)備包括：蒸發(fā)源、保護蓋板與擋板，其中，蒸發(fā)源用于放置膜料；保護蓋板置于蒸發(fā)源上，具有開口；以及擋板可移動地設(shè)置在蒸發(fā)源上，用于遮擋開口。真空鍍膜設(shè)備中包括可轉(zhuǎn)動的擋板，通過調(diào)整該擋板的位置，使其遮擋蒸發(fā)源，將雜質(zhì)等物質(zhì)鍍制在擋板上，避免將這些物質(zhì)鍍制在基片上，進而影響其器件的性能。

技術(shù)研發(fā)人員：于甄;解金庫;高建聰
受保護的技術(shù)使用者：張家港康得新光電材料有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2016.01.15
技術(shù)公布日：2017.07.25