技術(shù)編號(hào):11672960
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本申請(qǐng)涉及材料技術(shù)領(lǐng)域,具體而言,涉及一種真空鍍膜設(shè)備與單質(zhì)薄膜的鍍制方法。背景技術(shù)金屬與非金屬單質(zhì)尤其是金屬單質(zhì)一般來(lái)說(shuō)化學(xué)性質(zhì)比較活潑,在空氣中易于發(fā)生化學(xué)反應(yīng),不能長(zhǎng)時(shí)間的裸露保存。如Ca,Al,Ti,Si裸露在大氣中,與大氣中的氧氣發(fā)生反應(yīng),在表面生成致密的氧化物。在使用鍍膜設(shè)備進(jìn)行單質(zhì)薄膜的鍍制過(guò)程中,膜料放置在鍍膜裝置中直到抽真空結(jié)束的這個(gè)階段,其與大氣中的氣體或者鍍膜設(shè)備中的氣體接觸發(fā)生氧化等化學(xué)反應(yīng),使得膜料的表面生成反應(yīng)物。在進(jìn)行正式鍍膜時(shí),膜料表面的反應(yīng)物就會(huì)隨著薄膜的鍍制沉...
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該專(zhuān)利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。