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用于蠟?zāi)3尚偷男D(zhuǎn)式真空負(fù)壓裝置制造方法

文檔序號:3333834閱讀:160來源:國知局
用于蠟?zāi)3尚偷男D(zhuǎn)式真空負(fù)壓裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了用于蠟?zāi)3尚偷男D(zhuǎn)式真空負(fù)壓裝置,它包括真空箱(1)和開設(shè)于真空箱一側(cè)的通孔(2),所述真空箱內(nèi)底部中央設(shè)有可轉(zhuǎn)動的圓柱形基座(3),所述圓柱形基座的中央開設(shè)于弧形凹槽(4),所述弧形凹槽的內(nèi)壁設(shè)有若干向弧形凹槽中心延伸的定位彈簧(5)。本實用新型的有益效果是在抽真空的同時使蠟?zāi)P颓桓S圓柱形基座旋轉(zhuǎn),使得蠟液由于離心力的作用充分填充入型腔的各個細(xì)小凹槽,蠟?zāi)3尚屯暾?,合格率高,弧形凹槽可避免蠟?zāi)P颓恍D(zhuǎn)時不穩(wěn),定位彈簧可以對蠟?zāi)P颓惶峁┓€(wěn)定的夾持力,顆粒狀凸起可以進(jìn)一步增強(qiáng)蠟?zāi)P颓恍D(zhuǎn)時的穩(wěn)定性。
【專利說明】用于蠟?zāi)3尚偷男D(zhuǎn)式真空負(fù)壓裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及真空負(fù)壓裝置,尤其涉及用于蠟?zāi)3尚偷男D(zhuǎn)式真空負(fù)壓裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]“蠟?zāi)hT造”是一種常用鑄造方式,首先制作工件的型模,然后將蠟注入型模,再等蠟冷卻后將蠟型取出。為了獲得較為精細(xì)工件所需要的蠟?zāi)?,型模往往具有?fù)雜精細(xì)的結(jié)構(gòu),具體為模具上的各種細(xì)小槽溝、凸起與縫隙等。在蠟注入這些細(xì)小的結(jié)構(gòu)中后,必須保證蠟對這些縫隙的填充充分,才能使得制成的蠟?zāi)5木?xì)程度符合要求?,F(xiàn)有的生產(chǎn)流程中,采用在蠟注入型模后,再將型模放入真空負(fù)壓設(shè)備的腔體內(nèi),使其處于負(fù)壓狀態(tài),利用型模內(nèi)外壓力差將型模中的蠟壓注至各個細(xì)小凹槽和縫隙中,從而保證蠟對這些縫隙的填充充分。但是,在這個過程中,型模表面的殘留蠟往往會滴濺在負(fù)壓設(shè)備的腔體表面上,從而造成污染。由于腔體縱深大,清潔時難以將清潔工具伸入到其里側(cè),所以對腔體的清潔往往費工費時。
實用新型內(nèi)容
[0003]本實用新型要解決的技術(shù)問題是現(xiàn)有的用于蠟?zāi)3尚偷恼婵肇?fù)壓裝置在抽真空的過程中引起蠟液飛濺,污染真空箱體,為此提供一種用于蠟?zāi)3尚偷男D(zhuǎn)式真空負(fù)壓裝置。
[0004]本實用新型的技術(shù)方案是:用于蠟?zāi)3尚偷男D(zhuǎn)式真空負(fù)壓裝置,它包括真空箱和開設(shè)于真空箱一側(cè)的通孔,所述真空箱內(nèi)底部中央設(shè)有可轉(zhuǎn)動的圓柱形基座,所述圓柱形基座的中央開設(shè)于弧形凹槽,所述弧形凹槽的內(nèi)壁設(shè)有若干向弧形凹槽中心延伸的定位彈黃。
[0005]上述方案的改進(jìn)是所述弧形凹槽底部設(shè)有若干顆粒狀凸起。
[0006]本實用新型的有益效果是在抽真空的同時使蠟?zāi)P颓桓S圓柱形基座旋轉(zhuǎn),使得蠟液由于離心力的作用充分填充入型腔的各個細(xì)小凹槽,蠟?zāi)3尚屯暾细衤矢?,弧形凹槽可避免蠟?zāi)P颓恍D(zhuǎn)時不穩(wěn),定位彈簧可以對蠟?zāi)P颓惶峁┓€(wěn)定的夾持力,顆粒狀凸起可以進(jìn)一步增強(qiáng)蠟?zāi)P颓恍D(zhuǎn)時的穩(wěn)定性。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0007]圖1是本實用新型的示意圖;
[0008]圖中,1、真空箱,2、通孔,3、圓柱形基座,4、弧形凹槽,5、定位彈簧,6、顆粒狀凸起。

【具體實施方式】
[0009]下面結(jié)合附圖對本實用新型做進(jìn)一步說明。
[0010]如圖1所示,本實用新型包括真空箱I和開設(shè)于真空箱一側(cè)的通孔2,所述真空箱內(nèi)底部中央設(shè)有可轉(zhuǎn)動的圓柱形基座3,所述圓柱形基座的中央開設(shè)于弧形凹槽4,所述弧形凹槽的內(nèi)壁設(shè)有若干向弧形凹槽中心延伸的定位彈簧5。
[0011]圓柱形基座有電機(jī)驅(qū)動以特定的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn),電機(jī)可以內(nèi)置于圓柱形基座內(nèi),也可以外置于真空箱,通過信號線連接,弧形凹槽的大小和要放入的蠟?zāi)P颓幌噙m配,也可以稍大于待加工的蠟?zāi)P颓?,定位彈簧可以對放入弧形凹槽的蠟?zāi)P颓惶峁A持力,定位彈簧最好成對對稱設(shè)置,比如四個,均勻的分布在弧形凹槽內(nèi),,或者兩個、六個、八個都可以。定位彈簧一方面可以根據(jù)蠟?zāi)P颓坏拇笮∽龀鲞m應(yīng)性調(diào)整,始終提供穩(wěn)定的夾持力,另一方面增強(qiáng)了蠟?zāi)P颓缓突⌒伟疾鄣慕Y(jié)合力。
[0012]為了進(jìn)一步增強(qiáng)蠟?zāi)P颓缓突⌒伟疾鄣慕Y(jié)合力,可以在弧形凹槽的底部設(shè)有若干顆粒狀凸起,增大蠟?zāi)P颓缓突⌒伟疾鄣撵o摩擦力。顆粒狀凸起可以是若干獨立分散的個體,也可以是連成一片的。
[0013]上面結(jié)合附圖對本實用新型進(jìn)行了示例性描述,顯然本實用新型具體實現(xiàn)并不受上述方式的限制,只要采用了本實用新型的方法構(gòu)思和技術(shù)方案進(jìn)行的各種非實質(zhì)性的改進(jìn),或未經(jīng)改進(jìn)將本實用新型的構(gòu)思和技術(shù)方案直接應(yīng)用于其它場合的,均在本實用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.用于蠟?zāi)3尚偷男D(zhuǎn)式真空負(fù)壓裝置,它包括真空箱(I)和開設(shè)于真空箱一側(cè)的通孔(2),其特征是所述真空箱內(nèi)底部中央設(shè)有可轉(zhuǎn)動的圓柱形基座(3),所述圓柱形基座的中央開設(shè)于弧形凹槽(4),所述弧形凹槽的內(nèi)壁設(shè)有若干向弧形凹槽中心延伸的定位彈簧(5)。
2.如權(quán)利要求1所述的用于蠟?zāi)3尚偷男D(zhuǎn)式真空負(fù)壓裝置,其特征是所述弧形凹槽底部設(shè)有若干顆粒狀凸起(6)。
【文檔編號】B22C7/02GK203956008SQ201420424337
【公開日】2014年11月26日 申請日期:2014年7月30日 優(yōu)先權(quán)日:2014年7月30日
【發(fā)明者】池毓志 申請人:銅陵聚福緣銅藝有限公司
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