一種單晶爐熱場(chǎng)清理工作臺(tái)的制作方法
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種單晶爐熱場(chǎng)清理工作臺(tái)，屬于單晶爐維護(hù)【技術(shù)領(lǐng)域】，用于清理熱場(chǎng)石墨件，包括支撐底座、位于支撐底座上部的臺(tái)面、罩于臺(tái)面上的殼體狀封閉室；所述臺(tái)面面板上均勻分布著開(kāi)孔；所述開(kāi)孔與抽吸系統(tǒng)連接；所述臺(tái)面上中心部位設(shè)有旋轉(zhuǎn)托盤(pán)；所述封閉室側(cè)壁上設(shè)有工作臺(tái)門(mén)；所述封閉室側(cè)壁上連接有氣體反吹系統(tǒng)。本實(shí)用新型能夠有效改善熱場(chǎng)清理工作環(huán)境，提高熱場(chǎng)清理效果，降低勞動(dòng)強(qiáng)度。
【專(zhuān)利說(shuō)明】一種單晶爐熱場(chǎng)清理工作臺(tái)【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型屬于單晶爐維護(hù)【技術(shù)領(lǐng)域】。
【背景技術(shù)】
[0002]單晶爐是一種在惰性氣體環(huán)境中，用石墨加熱器將多晶硅等多晶材料熔化，用直拉法生長(zhǎng)無(wú)錯(cuò)位單晶的設(shè)備，其中，單晶爐熱場(chǎng)是單晶爐中必備部件，主要由柱狀等靜壓石墨加工而成，加熱、保溫、熱屏、防漏(硅)等均是通過(guò)熱場(chǎng)來(lái)實(shí)現(xiàn)的。單晶爐熱場(chǎng)在運(yùn)行一爐完成后，需要對(duì)其進(jìn)行拆爐清理，清除附著在石墨件上的碳化硅、硅蒸汽等雜質(zhì)。當(dāng)前清理石墨件上附著雜質(zhì)時(shí)，操作人員在石墨清理間內(nèi)作業(yè)，主要采用百潔布和小型研磨機(jī)，在打磨雜質(zhì)時(shí)容易造成揚(yáng)塵，粉塵較多，清理作業(yè)環(huán)境較差；石墨件打磨完成后，需要將其表面揚(yáng)塵清理干凈，目前使用的方法是用吸塵器清理，對(duì)其表面粉塵清理質(zhì)量較差，不能滿足清爐質(zhì)量要求；另外，操作人員清理熱場(chǎng)時(shí)多為站立或者彎腰工作，不符合人體工程學(xué)，員工工作強(qiáng)度大。
實(shí)用新型內(nèi)容[0003]本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種單晶爐熱場(chǎng)清理工作臺(tái)，能夠有效改善熱場(chǎng)清理工作環(huán)境，提高熱場(chǎng)清理效果，降低勞動(dòng)強(qiáng)度。
[0004]為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型所采取的技術(shù)方案是:
[0005]一種單晶爐熱場(chǎng)清理工作臺(tái)，用于清理熱場(chǎng)石墨件，包括支撐底座、位于支撐底座上部的臺(tái)面、罩于臺(tái)面上的殼體狀封閉室；所述臺(tái)面面板上均勻分布著開(kāi)孔；所述開(kāi)孔與抽吸系統(tǒng)連接；所述臺(tái)面上中心部位設(shè)有旋轉(zhuǎn)托盤(pán)；所述封閉室側(cè)壁上設(shè)有工作臺(tái)門(mén)；所述封閉室壁上連接有氣體反吹系統(tǒng)。
[0006]具體地，所述臺(tái)面采用不銹鋼材質(zhì)；所述臺(tái)面面板上設(shè)有均勻分布的篦子；所述篦子間隙與位于臺(tái)面底部的抽氣口聯(lián)通；所述抽氣口通過(guò)抽氣管路與真空泵相連。
[0007]所述旋轉(zhuǎn)式托盤(pán)的尺寸與熱場(chǎng)中的石墨件尺寸相適配；所述旋轉(zhuǎn)托盤(pán)同時(shí)具備手動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)和電機(jī)驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)兩種轉(zhuǎn)動(dòng)方式。
[0008]所述封閉室為透明樹(shù)脂材料；所述封閉室主體為橫向長(zhǎng)方體腔室，頂部為梯形體腔室；所述工作臺(tái)門(mén)位于封閉室腔室前壁上；所述工作臺(tái)門(mén)為一對(duì)左右推拉門(mén)。
[0009]所述封閉室的左右側(cè)壁、頂部梯形體的兩側(cè)壁及頂壁上均設(shè)有壓縮空氣噴嘴；所述壓縮空氣噴嘴通過(guò)壓縮空氣管路與壓縮空氣連接；所述壓縮空氣壓力為0.5^0.8兆帕。
[0010]所述支撐底座為分別位于臺(tái)面四角底部的支撐柱，采用不銹鋼材料。
[0011]本實(shí)用新型使用時(shí)，首先打開(kāi)工作臺(tái)門(mén)，將待清理的石墨件放置于旋轉(zhuǎn)托盤(pán)之上，開(kāi)啟工作臺(tái)抽氣真空泵，操作人員坐于工作臺(tái)之前，打磨待清理石墨件，手動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)旋轉(zhuǎn)托盤(pán)，對(duì)石墨件進(jìn)行全方位清理；打磨過(guò)程中產(chǎn)生的粉塵雜質(zhì)等隨著抽氣氣流通過(guò)篦子和抽氣管路排走；當(dāng)石墨件清理完畢之后，開(kāi)啟旋轉(zhuǎn)托盤(pán)電機(jī)，打開(kāi)壓縮空氣噴嘴，一邊進(jìn)行吹掃，一邊進(jìn)行排氣，自動(dòng)完成石墨件上粉塵清理的工作。[0012]采用上述技術(shù)方案所產(chǎn)生的有益效果在于:旋轉(zhuǎn)托盤(pán)大小與熱場(chǎng)中的石墨件尺寸相適配，方便熱場(chǎng)石墨件放置；封閉室材質(zhì)為透明樹(shù)脂，能夠清楚地觀察到里面的清理情況；在進(jìn)行石墨件打磨時(shí)，工作臺(tái)內(nèi)部為負(fù)壓狀態(tài)，打磨產(chǎn)生粉塵會(huì)隨著氣流方向通過(guò)篦子和抽氣管路排出工作臺(tái)，不會(huì)對(duì)環(huán)境造成污染；操作人員坐在工作臺(tái)之前就可以完成工作，手動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)旋轉(zhuǎn)托盤(pán)，即可對(duì)石墨件進(jìn)行全方位清理，工作強(qiáng)度??；所述封閉室的左右側(cè)壁、頂部梯形體的兩側(cè)壁及頂壁上均設(shè)有壓縮空氣噴嘴，用來(lái)對(duì)石墨件吹掃，吹掃范圍大，壓縮空氣壓力高，同時(shí)旋轉(zhuǎn)托盤(pán)進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)，有效保證了粉塵清理效果，且能夠自動(dòng)完成。
【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0013]圖1是本實(shí)用新型側(cè)視圖；
[0014]圖2是本實(shí)用新型立體結(jié)構(gòu)示意圖；
[0015]圖3是本實(shí)用新型立體結(jié)構(gòu)剖視示意圖；
[0016]其中，1、臺(tái)面，2、工作臺(tái)門(mén)，3、壓縮空氣管路，4、壓縮空氣噴嘴，5、封閉室，6、篦子，
7、旋轉(zhuǎn)托盤(pán)，8、抽氣口，9、抽氣管路，10、支撐底座。
【具體實(shí)施方式】
[0017]下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說(shuō)明。
[0018]如圖廣3所示的一種單晶爐熱場(chǎng)清理工作臺(tái)，用于清理熱場(chǎng)石墨件，包括支撐底座10、位于支撐底座10上部的臺(tái)面1、罩于臺(tái)面I上的殼體狀封閉室5 ;所述支撐底座10為分別位于臺(tái)面I四角底部的不銹鋼支撐柱。
[0019]所述臺(tái)面I采用不銹鋼材質(zhì)；所述臺(tái)面I面板上設(shè)有均勻分布的篦子6 ;所述篦子6間隙與位于臺(tái)面I底部的抽氣口 8聯(lián)通；所述抽氣口 8通過(guò)抽氣管路9與真空泵相連；在進(jìn)行石墨件打磨時(shí)，工作臺(tái)內(nèi)部為負(fù)壓狀態(tài)，打磨熱產(chǎn)生粉塵會(huì)隨著氣流方向通過(guò)篦子和抽氣管路排出工作臺(tái)，不會(huì)對(duì)環(huán)境造成污染。
[0020]所述臺(tái)面I上中心部位設(shè)有旋轉(zhuǎn)托盤(pán)7 ;旋轉(zhuǎn)托盤(pán)7大小與熱場(chǎng)中的石墨托盤(pán)大小一致，方便熱場(chǎng)石墨件放置；所述旋轉(zhuǎn)托盤(pán)7同時(shí)具備手動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)和電機(jī)驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)兩種轉(zhuǎn)動(dòng)方式，分別滿足手動(dòng)進(jìn)行石墨件打磨和自動(dòng)進(jìn)行全方位清理的需求。
[0021]所述封閉室5為透明樹(shù)脂材料，能夠清楚地觀察到里面的清理情況；所述封閉室5主體為橫向長(zhǎng)方體腔室，頂部為梯形體腔室；所述工作臺(tái)門(mén)2位于封閉室5腔室前壁上；所述工作臺(tái)門(mén)2為一對(duì)左右推拉門(mén)，操作人員坐在工作臺(tái)之前就可以完成工作。
[0022]所述封閉室5的左右側(cè)壁、頂部梯形體的兩側(cè)壁及頂壁上均設(shè)有壓縮空氣噴嘴4 ；所述壓縮空氣噴嘴4通過(guò)壓縮空氣管路3與壓縮空氣連接，所述壓縮空氣壓力為0.6兆帕，用來(lái)對(duì)石墨件吹掃，吹掃范圍大，壓縮空氣壓力高，同時(shí)旋轉(zhuǎn)托盤(pán)進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)，有效保證了粉塵清理效果，且能夠自動(dòng)完成。
[0023]本實(shí)用新型使用時(shí)，首先打開(kāi)工作臺(tái)門(mén)，將待清理的石墨件放置于旋轉(zhuǎn)托盤(pán)之上，開(kāi)啟工作臺(tái)抽氣真空泵，操作人員坐于工作臺(tái)之前，打磨待清理石墨件，手動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)旋轉(zhuǎn)托盤(pán)，對(duì)石墨件進(jìn)行全方位清理；打磨過(guò)程中產(chǎn)生的粉塵雜質(zhì)等隨著抽氣氣流通過(guò)篦子和抽氣管路排走；當(dāng)石墨件清理完畢之后，開(kāi)啟旋轉(zhuǎn)托盤(pán)電機(jī)，打開(kāi)壓縮空氣噴嘴，一邊進(jìn)行吹掃，一邊進(jìn)行排氣，自動(dòng)完成石墨件上粉塵清理的工作。
【權(quán)利要求】
1.一種單晶爐熱場(chǎng)清理工作臺(tái)，用于清理熱場(chǎng)石墨件，其特征在于:包括支撐底座(10)、位于支撐底座(10)上部的臺(tái)面(1)、罩于臺(tái)面(1)上的殼體狀封閉室(5);所述臺(tái)面(1)面板上均勻分布著開(kāi)孔；所述開(kāi)孔與抽吸系統(tǒng)連接；所述臺(tái)面(1)上中心部位設(shè)有旋轉(zhuǎn)托盤(pán)(7 );所述封閉室(5 )側(cè)壁上設(shè)有工作臺(tái)門(mén)(2 );所述封閉室(5 )壁上連接有氣體反吹系統(tǒng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種單晶爐熱場(chǎng)清理工作臺(tái)，其特征在于:所述臺(tái)面(1)采用不銹鋼材質(zhì)；所述臺(tái)面(1)面板上設(shè)有均勻分布的篦子(6);所述篦子(6)間隙與位于臺(tái)面(1)底部的抽氣口( 8 )聯(lián)通；所述抽氣口( 8 )通過(guò)抽氣管路(9 )與真空泵相連。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種單晶爐熱場(chǎng)清理工作臺(tái)，其特征在于:所述旋轉(zhuǎn)式托盤(pán)(7)的尺寸與熱場(chǎng)中的石墨件尺寸相適配；所述旋轉(zhuǎn)托盤(pán)(7)同時(shí)具備手動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)和電機(jī)驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)兩種轉(zhuǎn)動(dòng)方式。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種單晶爐熱場(chǎng)清理工作臺(tái)，其特征在于:所述封閉室(5)為透明樹(shù)脂材料；所述封閉室(5)主體為橫向長(zhǎng)方體腔室，頂部為梯形體腔室。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或4所述的一種單晶爐熱場(chǎng)清理工作臺(tái)，其特征在于:所述工作臺(tái)門(mén)(2)位于封閉室(5)腔室前壁上；所述工作臺(tái)門(mén)(2)為一對(duì)左右推拉門(mén)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種單晶爐熱場(chǎng)清理工作臺(tái)，其特征在于:所述封閉室(5)的左右側(cè)壁、頂部梯形體的兩側(cè)壁及頂壁上均設(shè)有壓縮空氣噴嘴(4);所述壓縮空氣噴嘴(4)通過(guò)壓縮空氣管路(3)與壓縮空氣連接；所述壓縮空氣壓力為0.5^0.8兆帕。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種單晶爐熱場(chǎng)清理工作臺(tái)，其特征在于:所述支撐底座(10)為分別位于臺(tái)面(1)四角底部的支撐柱，采用不銹鋼材料。
【文檔編號(hào)】B24B27/033GK203696695SQ201420078085
【公開(kāi)日】2014年7月9日 申請(qǐng)日期:2014年2月24日 優(yōu)先權(quán)日:2014年2月24日
【發(fā)明者】張剛 申請(qǐng)人:英利能源（中國(guó)）有限公司