一種oled像素圖案蒸鍍方法及掩膜板的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明的目的一種OLED像素圖案蒸鍍方法，相同顏色的子像素分N次蒸鍍完成，第n次蒸鍍像素陣列中的第n+mN列，其中N為不小于2的正整數(shù)，n依次取自1開始小于N的整數(shù)，m依次取自0開始的整數(shù)。上述OLED像素圖案蒸鍍方法使用的掩膜板，包括開孔和橋，橋的寬度為第1列和第1+N列相同顏色的子像素之間的距離。有益效果在于用于生產(chǎn)解析度相同的OLED屏?xí)r，本技術(shù)方案的MASK相比現(xiàn)有FMM技術(shù)的MASK因?yàn)闃虻膶挾雀蠖子诩庸で也灰鬃冃?，有利于提高產(chǎn)品良率；或換言之，在MASK橋?qū)捙c現(xiàn)有FMM技術(shù)相同的情況下，本發(fā)明的方法可以生產(chǎn)像素密度更高的OLED顯示屏，達(dá)到現(xiàn)有FMM技術(shù)的N倍解析度。
【專利說(shuō)明】—種OLED像素圖案蒸鍍方法及掩膜板
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于OLED顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，涉及OLED顯示器件的高解析度像素蒸鍍技術(shù)，具體涉及一種OLED像素圖案蒸鍍方法以及應(yīng)用于此蒸鍍方法的掩膜板。
【背景技術(shù)】
[0002]有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)顯示器以其輕薄、主動(dòng)發(fā)光、快響應(yīng)速度、廣視角、色彩豐富及高亮度、低功耗、耐高低溫等眾多優(yōu)點(diǎn)而被業(yè)界公認(rèn)為是繼液晶顯示器(LCD)之后的第三代顯示技術(shù)，可以廣泛用于智能手機(jī)、平板電腦、電視等終端產(chǎn)品。但是近期市場(chǎng)上的智能手機(jī)等個(gè)人移動(dòng)產(chǎn)品對(duì)顯示屏提出了越來(lái)越高的分辨率要求，屏幕解析度(即像素密度)已高達(dá)400ppi，甚至以后的發(fā)展趨勢(shì)將超過(guò)500ppi，這對(duì)OLED的現(xiàn)有技術(shù)形成了巨大的挑戰(zhàn)。因?yàn)镺LED現(xiàn)有成熟的技術(shù)是采用精細(xì)金屬掩模板(FMM)蒸鍍有機(jī)發(fā)光材料來(lái)制備彩色化像素圖案，這種技術(shù)很難生產(chǎn)解析度在300ppi以上的產(chǎn)品。如圖1及圖2所示為現(xiàn)有的OLED像素圖案蒸鍍示意圖及其使用的掩膜板，不同發(fā)光顏色的子像素4通過(guò)坩鍋3分別單次蒸鍍到基板I上，使用的掩膜板2如圖2所示，包括開孔21和橋22，開孔21與需要蒸鍍的有機(jī)材料子像素區(qū)域一致，橋22用于防止有機(jī)材料蒸鍍到其他區(qū)域。當(dāng)蒸鍍某種材料時(shí)(以紅色發(fā)光材料為例)，使MASK開孔正對(duì)紅色子像素，而綠、藍(lán)子像素被MASK遮擋，這樣從坩鍋蒸發(fā)出的紅色發(fā)光材料就可以精確地只沉積在紅色子像素區(qū)；紅色發(fā)光材料蒸鍍完成后，MASK平移一個(gè)子像素的距離使開孔對(duì)準(zhǔn)另一顏色的子像素，以此類推完成RGB三基色材料的蒸鍍，從而形成彩色化像素圖案。由于顯示屏的像素密集，導(dǎo)致MASK橋(連接相鄰像素開孔的肋骨)的寬度非常小，比如當(dāng)顯示屏解析度達(dá)300ppi時(shí)，MASK橋?qū)拑H約56um，這對(duì)MASK選材及加工均提出了非常高的要求，尤其是此時(shí)MASK極易受重力及熱膨脹影響發(fā)生變形，致使不能精 確形成彩色化像素圖案。當(dāng)解析度更高時(shí)，這個(gè)問(wèn)題就更嚴(yán)重，這也就是現(xiàn)有FMM技術(shù)難以生產(chǎn)解析度在300ppi以上的顯示屏的原因。行業(yè)內(nèi)針對(duì)該問(wèn)題，韓國(guó)三星等領(lǐng)先企業(yè)雖也積極研究以LITI (激光熱轉(zhuǎn)印)為代表的新技術(shù)以期能夠生產(chǎn)高解析度的OLED顯示屏，但這些新技術(shù)仍有諸多不足之處，目前還不能用于量產(chǎn)或量產(chǎn)時(shí)良率低下。比如需增加制程工序和額外的制程工藝而導(dǎo)致生產(chǎn)效率較低；需要增加設(shè)備和原材料，甚至需要開發(fā)特別的原材料，導(dǎo)致投資和成本增加等。即便如此，這些新技術(shù)仍難以生產(chǎn)450ppi以上的超高解析度顯示屏。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的是為了解決現(xiàn)有的OLED像素圖案蒸鍍方法不能很好的滿足高解析度(像素密度)屏幕制造的缺陷，提出了一種可制造高解析度OLED屏幕的OLED像素圖案蒸鍍方法以及專用于該方法的蒸鍍掩膜板。
[0004]本發(fā)明的技術(shù)方案為:一種OLED像素圖案蒸鍍方法，其特征在于，相同顏色的子像素分N次蒸鍍完成，第η次蒸鍍像素陣列中的第n+mN列，其中N為不小于2的正整數(shù)，η依次取自I開始小于N的整數(shù)，m依次取自O(shè)開始的整數(shù)。[0005]進(jìn)一步的，所述方法中N取值為2。
[0006]上述OLED像素圖案蒸鍍方法使用的掩膜板，包括開孔和橋，其特征在于，橋的寬度為第I列和第1+N列相同顏色的子像素之間的距離。
[0007]優(yōu)選的，上述掩膜板的橋的寬度為第一列和第三列顏色相同的子像素之間的距離。
[0008]進(jìn)一步的，上述掩膜板的開孔在列方向上貫通形成一個(gè)孔。
[0009]本發(fā)明的有益效果:本發(fā)明的方法及掩膜板(MASK)用于生產(chǎn)解析度相同的OLED屏?xí)r，本技術(shù)方案的MASK相比現(xiàn)有FMM技術(shù)的MASK因?yàn)闃虻膶挾雀蠖子诩庸で也灰鬃冃?，有利于提高產(chǎn)品良率；或換言之，在MASK橋?qū)捙c現(xiàn)有FMM技術(shù)相同的情況下，本發(fā)明的方法可以生產(chǎn)像素密度更高的OLED顯示屏，達(dá)到現(xiàn)有FMM技術(shù)的N倍解析度。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0010]圖1為現(xiàn)有的OLED像素蒸鍍方法示意圖；
[0011]圖2為圖1所示方法使用的掩膜板結(jié)構(gòu)示意圖；
[0012]圖3為本發(fā)明分兩次蒸鍍的實(shí)施例的OLED像素蒸鍍方法示意圖；
[0013]圖4為圖3所示方法使用的掩膜板結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0014]本發(fā)明的實(shí)施例是依據(jù)本發(fā)明的原理而設(shè)計(jì)，下面結(jié)合附圖和以下具體的實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的闡述。`
[0015]如圖3及圖4所示，本實(shí)施例的OLED像素圖案蒸鍍方法，與現(xiàn)有方法相比，不同之處在于相同顏色的子像素分N次蒸鍍完成，第η次蒸鍍像素陣列中的第n+mN列，其中N為不小于2的正整數(shù)，η依次取自I開始小于N的整數(shù)，m依次取自O(shè)開始的整數(shù)。
[0016]在圖3所示實(shí)施例中，N的取值為2。
[0017]上述OLED像素圖案蒸鍍方法使用的掩膜板5，包括開孔51和橋52，橋52的寬度為第I列和第1+N列相同顏色的子像素之間的距離。
[0018]在圖4所示實(shí)施例中，上述掩膜板的橋的寬度為第一列和第三列顏色相同的子像素之間的距離。具體適應(yīng)的是同種顏色的像素分兩次蒸鍍完成的情況。上述掩膜板的開孔在列方向上貫通形成一個(gè)孔。
[0019]具體以N等于2作為優(yōu)選實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)描述:使用本發(fā)明的方法蒸鍍紅、綠、藍(lán)有機(jī)發(fā)光材料的掩模板(MASK)，每種顏色間隔I列子像素開孔，使MASK橋(連接相鄰開孔的肋骨)的寬度增加為現(xiàn)有FMM技術(shù)所用MASK橋?qū)挼膬杀?實(shí)際為兩倍加上一個(gè)子像素的寬度)；在生產(chǎn)制備彩色化像素圖案時(shí)，每種顏色分兩次完成所有子像素的蒸鍍:一次蒸鍍形成奇數(shù)列子像素，然后移動(dòng)MASK，再一次蒸鍍形成偶數(shù)列子像素。以紅色發(fā)光材料為例，分兩次完成該顏色所有子像素的蒸鍍，其中一次使MASK開孔正對(duì)奇數(shù)列紅色子像素，而偶數(shù)列紅色子像素及綠、藍(lán)子像素被MASK遮擋，這樣從坩鍋蒸發(fā)出的紅色發(fā)光材料就可以精確地只沉積在奇數(shù)列紅色子像素區(qū)；另一次平移MASK使其開孔正對(duì)偶數(shù)列紅色子像素，而奇數(shù)列紅色子像素及綠、藍(lán)子像素被MASK遮擋，這樣從坩鍋蒸發(fā)出的紅色發(fā)光材料就可以精確地只沉積在偶數(shù)列紅色子像素區(qū)。紅色發(fā)光材料蒸鍍完成后，以此類推再完成綠、藍(lán)發(fā)光材料的蒸鍍，從而形成彩色化像素圖案。由此可見，在解析度相同的情況下，本實(shí)施例的方案的MASK橋?qū)挒楝F(xiàn)有FMM技術(shù)的兩倍，可以降低對(duì)制程工藝的要求，有利于提高產(chǎn)品良率；或換言之，在MASK橋?qū)捙c現(xiàn)有FMM技術(shù)相同的情況下，本發(fā)明所述技術(shù)方案可以生產(chǎn)比現(xiàn)有FMM技術(shù)高兩倍解析度的OLED顯示屏，由于現(xiàn)有FMM技術(shù)最高可生產(chǎn)近300ppi的顯示屏，因此本發(fā)明所述技術(shù)方案可以生產(chǎn)近600ppi的超高解析度OLED顯示屏，且由于本發(fā)明所述技術(shù)方案與現(xiàn)有FMM技術(shù)的材料、工藝要求相同，因此極具量產(chǎn)實(shí)用性。
[0020]本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)該理解，本實(shí)施例沉積有機(jī)發(fā)光材料是基于本領(lǐng)域成熟的真空蒸鍍技術(shù)，因此對(duì)此不再累述。
[0021]圖4為采用本專利方法制備解析度為500ppi的OLED屏的彩色化像素圖案的MASK設(shè)計(jì)示例。圖中MASK開口為矩形條，開口寬約15um，由于每種顏色間隔一列子像素開孔，也就是每?jī)蓚€(gè)像素間距開一列孔，因此MASK橋?qū)捈s85um。這種規(guī)格的MASK設(shè)計(jì)，可保證MASK加工、蒸鍍有機(jī)材料時(shí)的MASK對(duì)位及MASK變形均在技術(shù)可控范圍內(nèi)，這是制備OLED彩色化像素圖案的關(guān)鍵要素。用該MASK制備OLED彩色化像素圖案的方法具體如下:首先使MASK開孔正對(duì)奇數(shù)列紅色子像素，而偶數(shù)列紅色子像素及綠、藍(lán)子像素被MASK遮擋，使從坩鍋蒸發(fā)出的紅色發(fā)光材料精確地只沉積在奇數(shù)列紅色子像素區(qū)；奇數(shù)列紅色子像素區(qū)蒸鍍完成后，平移MASK使其開孔正對(duì)偶數(shù)列紅色子像素，而奇數(shù)列紅色子像素及綠、藍(lán)子像素被MASK遮擋，使從坩鍋蒸發(fā)出的紅色發(fā)光材料再精確地只沉積在偶數(shù)列紅色子像素區(qū)；當(dāng)所有紅色子像素蒸鍍完成后，再按此方法依次進(jìn)行綠、藍(lán)子像素的蒸鍍，從而形成完整的彩色化像素圖案。
[0022]由于現(xiàn)有FMM技術(shù)最高可生產(chǎn)近300ppi的顯示屏，因此由實(shí)施例可知，本實(shí)施例所述技術(shù)方案在現(xiàn)有技術(shù)條件下可以生產(chǎn)近600ppi的超高解析度OLED顯示屏，且由于本實(shí)施例所述技術(shù)方案以現(xiàn)有真空蒸鍍技術(shù)為基礎(chǔ)，因此繼承了技術(shù)最成熟和器件性能最佳的優(yōu)勢(shì)。同時(shí)應(yīng)該理解，本實(shí)施例所述彩色化像素圖案不限于制備在玻璃基板上，也包括塑料基板或金屬基板等；制備彩色化像素圖案的順序也不限于實(shí)施例中按紅、綠、藍(lán)的流程。另外，本實(shí)施例所述方法因增加了三次有機(jī)材料蒸鍍，一是將帶來(lái)生產(chǎn)效率降低的問(wèn)題，但通過(guò)增加蒸鍍?cè)O(shè)備的腔室能很容易解決，二是將增加有機(jī)材料的浪費(fèi)，但通過(guò)材料回收也容易解決。`
[0023]本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員將會(huì)意識(shí)到，這里所述的實(shí)施例是為了幫助讀者理解本發(fā)明的原理，應(yīng)被理解為本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于這樣的特別陳述和實(shí)施例。本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可以根據(jù)本發(fā)明公開的這些技術(shù)啟示做出各種不脫離本發(fā)明實(shí)質(zhì)的其它各種具體變形和組合，這些變形和組合仍然在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種OLED像素圖案蒸鍍方法，其特征在于，相同顏色的子像素分N次蒸鍍完成，第η次蒸鍍像素陣列中的第n+mN列，其中N為不小于2的正整數(shù)，η依次取自I開始小于N的整數(shù)，m依次取自O(shè)開始的整數(shù)。
2.權(quán)利要求1所述的一種OLED像素圖案蒸鍍方法，其特征在于，所述方法中N取值為.2。
3.0LED像素圖案蒸鍍掩膜板，包括開孔和橋，其特征在于，橋的寬度為第I列和第1+N列相同顏色的子像素之間的距離。
4.權(quán)利要求3所述的OLED像素圖案蒸鍍掩膜板，其特征在于，掩膜板的橋的寬度為第一列和第三列顏色相同的子像素之間的距離。
5.權(quán)利要求3或4所述的OLED像素圖案蒸鍍掩膜板，其特征在于，掩膜板的開孔在列方向上貫通形 成一個(gè)孔。
【文檔編號(hào)】C23C14/24GK103820756SQ201410100420
【公開日】2014年5月28日 申請(qǐng)日期:2014年3月18日 優(yōu)先權(quán)日:2014年3月18日
【發(fā)明者】田朝勇 申請(qǐng)人:四川虹視顯示技術(shù)有限公司