一種蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu)的制作方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu)包括若干個(gè)相互鄰接但是不接觸的金屬擋板；所述金屬擋板包括弧形遮擋面，所述遮擋面背向所述蒸發(fā)源的一面為凸面，所述遮擋面朝向所述蒸發(fā)源的一面為凹面，并且相鄰兩個(gè)所述金屬擋板的遮擋面的弧面角度一致；所述遮擋面的兩端分別向所述蒸發(fā)源的方向折彎后形成兩條相同長(zhǎng)度的下邊沿，所述下邊沿與所述遮擋面之間形成內(nèi)凹口。本發(fā)明可有效解決在OLED試驗(yàn)線(xiàn)以及量產(chǎn)線(xiàn)上，一個(gè)腔體里面同時(shí)加熱幾種材料而導(dǎo)致的材料交叉污染的問(wèn)題；可有效防止在OLED試驗(yàn)線(xiàn)以及量產(chǎn)線(xiàn)上，蒸發(fā)源擋板上面材料沉積多導(dǎo)致材料脫落而引起的堵孔現(xiàn)象發(fā)生；可以更好地收集使用過(guò)的OLED材料，用于材料回收提純，降低成本。
【專(zhuān)利說(shuō)明】一種蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及真空鍍膜【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu)。
【背景技術(shù)】
[0002]真空熱蒸發(fā)鍍膜工藝包括沉積速率、真空度、基底溫度等多種工藝控制方式，其中沉積速率控制主要決定了光學(xué)薄膜的聚集密度和厚度均勻性，對(duì)膜厚的控制也有直接的影響，不同的沉積速率可使薄膜的光譜性能和機(jī)械性能產(chǎn)生顯著的差異。真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)主要以調(diào)節(jié)蒸發(fā)電流或者電子束電流來(lái)控制材料的蒸發(fā)速率，通過(guò)擋板的旋轉(zhuǎn)來(lái)控制鍍膜過(guò)程的開(kāi)始和結(jié)束。
[0003]現(xiàn)行大部分的蒸發(fā)源擋板都是直接采用金屬擋板稍微加工后便投入使用，這樣的擋板存在以下幾個(gè)技術(shù)缺點(diǎn):
[0004]1、對(duì)材料的阻擋效果不明顯，容易造成材料的交叉污染。如果金屬擋板的面積過(guò)小，或者當(dāng)材料蒸發(fā)速率比較大的情況，金屬擋板對(duì)材料的吸附效率不好就會(huì)造成材料交叉污染；
[0005]2、吸附的材料容易脫落，造成坩堝堵孔。由于材料沉積到擋板上面的均與性是不一樣的，這就會(huì)導(dǎo)致沉積到擋板上面的材料的內(nèi)應(yīng)力不均衡，重量不均衡，就會(huì)很容易導(dǎo)致材料脫落；
`[0006]3、普通的蓋式擋板，容易在邊沿處形成材料的堆積導(dǎo)致材料的溢出。由于試驗(yàn)線(xiàn)腔體較小，一般設(shè)計(jì)的蓋式擋板面積都比較小，而且又不能保證蒸發(fā)源處于擋板正中間位置，這樣就會(huì)導(dǎo)致材料在邊沿處堆積，導(dǎo)致材料脫落或者材料溢出甚至有堵孔現(xiàn)象發(fā)生。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]有鑒于此，本發(fā)明的目的是提供一種蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu)，以解決現(xiàn)有技術(shù)中的缺陷。
[0008]為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明的目的是通過(guò)下述技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:
[0009]一種蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu)，其中，包括若干個(gè)相互鄰接但是不接觸的金屬擋板；
[0010]所述金屬擋板包括弧形遮擋面，所述遮擋面背向所述蒸發(fā)源的一面為凸面，所述遮擋面朝向所述蒸發(fā)源的一面為凹面，并且相鄰兩個(gè)所述金屬擋板的遮擋面的弧面角度一致；
[0011]所述遮擋面的兩端分別向所述蒸發(fā)源的方向折彎后形成兩條相同長(zhǎng)度的下邊沿，所述下邊沿與所述遮擋面之間形成內(nèi)凹口。
[0012]上述蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu)，其中，兩條所述下邊沿相互平行。
[0013]上述蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu)，其中，相鄰兩個(gè)所述金屬擋板的下邊沿長(zhǎng)度不一致。
[0014]上述蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu)，其中，設(shè)相鄰兩個(gè)所述金屬擋板的下邊沿長(zhǎng)度分別為a和b且3 > b，所述遮擋面的弧面角度均為K，所述內(nèi)凹口的高度為C，則相鄰兩個(gè)所述金屬擋板的重疊距離L滿(mǎn)足以下公式:
[0015]L= (a_b_c)/tanK。[0016]上述蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu)，其中，兩條所述下邊沿分別向內(nèi)傾斜或向外傾斜。
[0017]上述蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu)，其中，所述遮擋面內(nèi)部鋪設(shè)有冷卻水管，所述冷卻水管與外部冷水源連通。
[0018]上述蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu)，其中，所述遮擋面的凹面上還具有若干內(nèi)凹面，以增加所述凹面的表面積。
[0019]上述蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu)，其中，所述遮擋面的凹面表面粗糙。
[0020]上述蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu)，其中，所述金屬檔板的內(nèi)凹口與所述下邊沿的交界處設(shè)計(jì)有倒角。
[0021]與已有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果在于:
[0022]I)遮擋面的兩端設(shè)計(jì)成內(nèi)凹口的樣式，可以避免邊沿設(shè)計(jì)成直角樣式材料大量堆積在邊沿的情況，并且可以通過(guò)稍微更改金屬擋板的高度與邊沿高度的比例來(lái)降低兩個(gè)相鄰金屬擋板互相碰撞的危險(xiǎn)；
[0023]2)在金屬擋板的材料里面鋪設(shè)冷卻水管，可以使得金屬擋板表面保持在一個(gè)較低的溫度，增加材料在金屬擋板表面的附著率，大大降低材料交叉污染的風(fēng)險(xiǎn)；
[0024]3)增加金屬擋板遮擋面的彎曲度和凹面的粗糙度，以增加材料附著面積和材料附著力道，避免材料出現(xiàn)脫落；
[0025]4)金屬擋板的遮擋面的背向蒸發(fā)源的一面設(shè)計(jì)成凸面，以防止蒸鍍速率很大時(shí)出現(xiàn)材料急速堆積而導(dǎo)致材料脫落和堵孔的情況發(fā)生。
【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0026]構(gòu)成本發(fā)明的一部分的附圖用來(lái)提供對(duì)本發(fā)明的進(jìn)一步理解，本發(fā)明的示意性實(shí)施例及其說(shuō)明用于解釋本發(fā)明，并不構(gòu)`成對(duì)本發(fā)明的不當(dāng)限定。在附圖中:
[0027]圖1是本發(fā)明蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu)優(yōu)選實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0028]下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0029]需要說(shuō)明的是，在不沖突的情況下，本發(fā)明中的實(shí)施例及實(shí)施例中的特征可以相
互組合。
[0030]本發(fā)明一種蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu)包括若干個(gè)相互鄰接但是不接觸的金屬擋板，參照?qǐng)D1，金屬擋板包括弧形遮擋面4，遮擋面4背向蒸發(fā)源的一面為凸面，遮擋面4朝向蒸發(fā)源的一面為凹面，并且相鄰兩個(gè)金屬擋板的遮擋面4的弧面角度一致。
[0031]遮擋面4的兩端分別向蒸發(fā)源的方向折彎后形成兩條相同長(zhǎng)度的下邊沿6，下邊沿6與遮擋面4之間形成內(nèi)凹口 1，整個(gè)金屬擋板可以通過(guò)一體成型而成。遮擋面4的兩端設(shè)計(jì)成內(nèi)凹口 I的樣式，可以避免邊沿設(shè)計(jì)成直角樣式材料大量堆積在邊沿的情況，并且可以通過(guò)稍微更改金屬擋板的高度與邊沿高度的比例來(lái)降低兩個(gè)相鄰金屬擋板互相碰撞的危險(xiǎn)。[0032]在本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例中，繼續(xù)參看圖1所示，兩條下邊沿6相互平行，相鄰兩個(gè)金屬擋板的下邊沿6長(zhǎng)度不一致。設(shè)相鄰兩個(gè)金屬擋板的下邊沿長(zhǎng)度分別為a和b且a >b，遮擋面4的弧面角度均為K，內(nèi)凹口 I的高度為C，則相鄰兩個(gè)金屬擋板的重疊距離L在滿(mǎn)足公式:L= (a-b_c)/tanK的前提下能最大限度地避免相鄰兩個(gè)金屬擋板的碰撞。而通過(guò)更改兩個(gè)相鄰金屬擋板邊沿高度的比例(a:b)，既增大金屬擋板的有效使用面積，又能避免相鄰兩個(gè)金屬擋板相互碰撞。
[0033]將金屬擋板整體設(shè)計(jì)成一個(gè)弧面或者其他樣式，保證材料附著面為一個(gè)弧面，沉積在金屬擋板上面的材料就會(huì)形成一個(gè)拱形，拱形受到壓力時(shí)，能把向下壓的力向下和向外傳遞給相鄰的部分。拱形各部分受到壓力時(shí)會(huì)產(chǎn)生外推力，拱形就能承受很大的壓力，這樣就會(huì)防止蒸鍍速率很大時(shí)出現(xiàn)材料急速堆積而導(dǎo)致材料脫落和堵孔的情況。增加金屬擋板遮擋面4的彎曲度和凹面的粗糙度，以增加材料附著面積和材料附著力道，同樣也可以避免材料出現(xiàn)脫落。
[0034]在本發(fā)明的其他實(shí)施例中，兩條下邊沿6可以分別向內(nèi)略微傾斜或向外略微傾斜，傾斜角度控制在一定范圍之內(nèi)，以保證不會(huì)對(duì)遮擋效果起到負(fù)面影響。
[0035]遮擋面4內(nèi)部還鋪設(shè)有冷卻水管2,冷卻水管2與外部冷水源連通,冷卻水管2的粗細(xì)根據(jù)金屬擋板的厚度來(lái)設(shè)計(jì)，較佳選用熱傳遞性能好且不易銹蝕的低成本金屬作為冷卻水管2的制作材料，比如采用鋁管等。在金屬擋板的材料里面鋪設(shè)冷卻水管2可以使得金屬擋板的表面在整個(gè)蒸鍍過(guò)程中始終可以保持在一個(gè)較低的溫度，以增加材料在金屬擋板表面的附著率，大大降低材料交叉污染的風(fēng)險(xiǎn)。
[0036]在本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例中，遮擋面4的凹面上還具有若干內(nèi)凹面3，以增加凹面的表面積，并且遮擋面4的凹面表面粗糙。內(nèi)凹面3優(yōu)選為相互鄰接的圓形凹面，或者是相互鄰接的圓弧槽等，圓形凹面或 準(zhǔn)備圓弧槽面積可以相同，也可以呈中心面積較大、邊緣面積逐漸減小的分布。
[0037]在本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例中，金屬檔板的內(nèi)凹口 I與下邊沿6的交界處設(shè)計(jì)有倒角5，倒角5可以為30°，60°或者45°等角度，在現(xiàn)有條件的約束下，倒角5可以增大材料的附著面積，減少清洗金屬擋板的難度。
[0038]從上述實(shí)施例可以看出，本發(fā)明的優(yōu)勢(shì)在于:
[0039]可有效解決在OLED試驗(yàn)線(xiàn)以及量產(chǎn)線(xiàn)上，一個(gè)腔體里面同時(shí)加熱幾種材料而導(dǎo)致的材料交叉污染的問(wèn)題；可有效防止在OLED試驗(yàn)線(xiàn)以及量產(chǎn)線(xiàn)上，蒸發(fā)源擋板上面材料沉積多導(dǎo)致材料脫落而引起的堵孔現(xiàn)象發(fā)生；可以更好地收集使用過(guò)的OLED材料，用于材料回收提純，降低成本。
[0040]以上對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施例進(jìn)行了詳細(xì)描述，但本發(fā)明并不限制于以上描述的具體實(shí)施例，其只是作為范例。對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言，任何等同修改和替代也都在本發(fā)明的范疇之中。因此，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍下所作出的均等變換和修改，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括若干個(gè)相互鄰接但是不接觸的金屬擋板； 所述金屬擋板包括弧形遮擋面(4)，所述遮擋面(4)背向所述蒸發(fā)源的一面為凸面，所述遮擋面(4)朝向所述蒸發(fā)源的一面為凹面，并且相鄰兩個(gè)所述金屬擋板的遮擋面(4)的弧面角度一致； 所述遮擋面(4)的兩端分別向所述蒸發(fā)源的方向折彎后形成兩條相同長(zhǎng)度的下邊沿(6)，所述下邊沿(6)與所述遮擋面(4)之間形成內(nèi)凹口(I)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu)，其特征在于，兩條所述下邊沿(6)相互平行。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu)，其特征在于，相鄰兩個(gè)所述金屬擋板的下邊沿(6)長(zhǎng)度不一致。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu)，其特征在于，設(shè)相鄰兩個(gè)所述金屬擋板的下邊沿(6)長(zhǎng)度分別為a和b且a > b，所述遮擋面(4)的弧面角度均為K，所述內(nèi)凹口( I)的高度為c，則相鄰兩個(gè)所述金屬擋板的重疊距離L滿(mǎn)足以下公式: L= (a_b_c)/tanKo
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu)，其特征在于，兩條所述下邊沿(6)分別向內(nèi)傾斜或向外傾斜。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述遮擋面(4)內(nèi)部鋪設(shè)有冷卻水管(2)，所述冷卻水管(2)與外部冷水源連通。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述遮擋面(4)的凹面上還具有若干內(nèi)凹面(3)，以增加所述凹面的`表面積。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述遮擋面(4)的凹面表面粗糖。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述金屬檔板的內(nèi)凹口(I)與所述下邊沿(6)的交界處設(shè)計(jì)有倒角(5)。
【文檔編號(hào)】C23C14/24GK103834921SQ201410073485
【公開(kāi)日】2014年6月4日 申請(qǐng)日期:2014年2月28日 優(yōu)先權(quán)日:2014年2月28日
【發(fā)明者】王釗, 林信志, 張斌, 倪蔚德 申請(qǐng)人:上海和輝光電有限公司