一種立式真空離子鍍膜機的無污染加熱管裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種立式真空離子鍍膜機的無污染加熱管裝置，包括加熱管組件、波紋管組件、波紋管支承座組件和升降機構(gòu)，加熱管組件包括加熱管，其上端為帶絕緣的導線引出端，稍靠下方焊有加熱管法蘭，加熱管法蘭向下連接波紋管組件，波紋管組件向下連接波紋管支承座組件，波紋管支承座組件再向下通過開在爐體頂板上的加熱管出入口連通爐內(nèi)，加熱管穿過波紋管組件和波紋管支承座組件的中空內(nèi)腔，伸進爐體頂板上的加熱管出入口進入爐內(nèi)，加熱管通過加熱管法蘭連接升降機構(gòu)。由于鍍膜時加熱管不在鍍膜室內(nèi)，其上不會附著殘留鍍層，解決了加熱管所致二次污染問題；本實用新型結(jié)構(gòu)簡單緊湊，省去清理加熱管工作，提高了鍍層質(zhì)量和工作效率，降低了生產(chǎn)成本。
【專利說明】—種立式真空離子鍍膜機的無污染加熱管裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及立式真空離子鍍膜機，尤其涉及一種立式真空離子鍍膜機的無污染加熱管裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]真空離子鍍膜機主要用途之一是鍍制裝飾膜，離子鍍裝飾膜多是采用過渡族金屬靶材，如T1、Zr，和Cr等，通過陰極電弧或磁控濺射產(chǎn)生金屬等離子體，與氮、乙炔和氧等反應合成氮化物、碳化物、氮碳化物和氧化物等，以獲得仿金色、玫瑰金色、黑色、咖啡色、棕色、銀白色、藍色等裝飾膜，既耐磨損又耐腐蝕，當前廣泛應用在手表件、手機殼、飾品、高爾夫球具、衛(wèi)潔具、五金件、金屬家具、酒店用器具、不銹鋼飾板等；在其上鍍制各種各樣顏色裝飾膜，起到多姿多彩的效果。
[0003]目前，隨著人們生活水平的不斷提高，對離子鍍高端裝飾膜要求也越來越高，對于聞?chuàng)跏直怼椘泛褪謾C殼等，裝飾I旲品質(zhì)除了顏色要求多樣和鮮艷外，還要求有聞的光売度。但是，得到特別高光亮度的膜層存在較大難度，這是因為在鍍膜工藝流程中，很多影響因素會導致鍍層表面發(fā)朦，從而降低其光亮度。
[0004]經(jīng)生產(chǎn)實踐已經(jīng)證實:鍍件的表面光澤度、鍍件清洗的潔凈度、鍍膜采用的技術(shù)(如電弧離子鍍沉積技術(shù)不可避免地使膜層上存在大量機理性缺陷鍍料金屬顆粒)、靶材質(zhì)量不良(如雜質(zhì)，不致密等引起的鍍料顆粒飛濺)、鍍膜室漏氣或摻水、清洗后的鍍件在裝掛與運輸過程再受污染(如落塵、唾沫)、鍍件入爐后的二次污染(如爐內(nèi)的飄塵、爐壁、爐內(nèi)部件與掛具上殘留膜層的爆裂飛濺等)，都是導致鍍層表面發(fā)朦的影響因素。采取相應的措施后，上述影響因素可以得到某些改善，例如提高拋光質(zhì)量以提高鍍件表面光澤度，加強清洗措施提高鍍件潔凈度，盡量減少電弧沉積時間而主要采取磁控濺射沉積鍍膜以減少電弧沉積的大顆粒，改善車間清潔環(huán)境減少環(huán)境落塵，沏底清理爐壁和爐內(nèi)部件及掛具上的殘留鍍層，從而減少爐內(nèi)污染。
[0005]但是，鍍膜室內(nèi)加熱管上沉積的殘留鍍層是最難處理的，因為加熱管在鍍膜前和鍍膜過程某一時間段需通電加熱，加熱管的管壁處于較高溫狀態(tài)，即使在鍍膜間隔開爐門清理爐膛時，加熱管的余溫仍較高，以致很難下手清理其上殘留鍍層，另外，有的加熱管裝在離爐門較遠處難以清潔，而且加熱管的數(shù)量較多，也不方便常常拆卸下來至爐外清理；往往殘留鍍層越積越厚，這些附在加熱管上的殘留鍍層附著不牢，鍍層也較疏松，在鍍膜過程中因熱脹冷縮作用很容易爆裂破碎，它們飛濺到鍍室空間成集群狀碎片顆粒附在工件表層上，導致鍍層發(fā)朦，造成爐內(nèi)二次污染。在各種致朦原因中加熱管殘留膜層爆裂碎片成為最難解決的問題。因此，用離子鍍鍍制高端裝飾膜的鍍膜機，解決其加熱管上殘留鍍層導致爐內(nèi)二次污染的問題成為提高鍍層產(chǎn)品光亮度的關(guān)鍵。目前，出現(xiàn)了在每支加熱管上均采用轉(zhuǎn)動半圓弧罩擋板的技術(shù)，雖然可擋住非加熱時間在發(fā)熱管上沉積鍍層，然而，鍍層仍會沉積在半圓弧罩的外表面上，在鍍膜過程中，依然無法避免其上殘留鍍層碎片飛濺，所以仍舊不能徹底解決加熱管系統(tǒng)的二次污染問題，而且安裝了半圓弧罩擋板后，加熱管周圍可用空間十分有限，而半圓弧罩擋板會因受熱產(chǎn)生變形以致出現(xiàn)卡死現(xiàn)象。
實用新型內(nèi)容
[0006]本實用新型的目的在于提供一種結(jié)構(gòu)簡單緊湊、能夠解決加熱管所致二次污染問題、運行可靠、省時省力、效率高、可減少產(chǎn)品不良率、降低成本的立式真空離子鍍膜機的無污染加熱管裝置。
[0007]本實用新型的目的通過以下的技術(shù)措施來實現(xiàn):一種立式真空離子鍍膜機的無污染加熱管裝置，其特征在于:包括加熱管組件、波紋管組件、波紋管支承座組件和升降機構(gòu)，所述加熱管組件包括加熱管，其上端為帶絕緣的導線引出端，稍靠下方焊有加熱管法蘭，所述加熱管法蘭向下連接波紋管組件，所述波紋管組件向下連接波紋管支承座組件，波紋管支承座組件再向下通過開在爐體頂板上的加熱管出入口連通爐內(nèi)，所述加熱管穿過波紋管組件和波紋管支承座組件的中空內(nèi)腔，伸進爐體頂板上的加熱管出入口進入爐內(nèi)，所述加熱管通過加熱管法蘭連接所述升降機構(gòu)，所述升降機構(gòu)驅(qū)動加熱管法蘭，帶動加熱管下降，使加熱管進入鍍膜室進行加熱抽氣作業(yè)，再驅(qū)動加熱管上升使其離開鍍膜室以便在真空狀態(tài)下進行鍍膜作業(yè)。
[0008]本實用新型當加熱管位于鍍膜室內(nèi)，進行加熱抽氣作業(yè)，再通過升降機構(gòu)提升加熱管至鍍膜室外，進行鍍膜作業(yè)。在鍍膜過程中，由于加熱管不在鍍膜室內(nèi)，因此加熱管上不會附著殘留鍍層，解決了加熱管所致的二次污染問題；另外，本實用新型結(jié)構(gòu)簡單緊湊，省去了清理加熱管的工作，省時省力，而且提高了鍍層質(zhì)量和工作效率，減少了產(chǎn)品不良率,降低了生產(chǎn)成本。
[0009]本實用新型所述加熱管組件還包括加熱管端頭水冷罩和出入水咀，所述加熱管法蘭環(huán)焊在加熱管上的凸肩下，在加熱管法蘭的上端面與加熱管之間的空間上，套焊帶有出入水咀的冷卻水罩，通過水冷罩內(nèi)的冷卻水吸收加熱管上傳的熱量，從而保證加熱管引出端的電絕緣，同時保證加熱管法蘭的真空密封不受損。
[0010]作為本實用新型的一種實施方式，所述波紋管組件包括波紋管、波紋管上法蘭和波紋管下法蘭，所述波紋管與波紋管上法蘭及波紋管下法蘭焊接固連，所述波紋管的上、下法蘭的中間通孔與波紋管的管口大小相適應，所述波紋管的上、下端口位于所述波紋管上、下法蘭中間通孔的外圍；所述加熱管法蘭與波紋管上法蘭通過密封圈實現(xiàn)真空封密固連，且加熱管法蘭與波紋管上法蘭共同與升降機構(gòu)固連，所述波紋管下法蘭與波紋管支承座法蘭連接。
[0011]作為本實用新型的一種優(yōu)選方式，所述波紋管的壓縮比為8:1，所述波紋管耐溫至少為600度。波紋管拉開(長)保證有足夠的長度，使其所提升擴展的空間足以容納加熱管并維持真空，而且波紋管可以耐受加熱管余熱輻射。
[0012]作為本實用新型的一種實施方式，所述波紋管支承座組件由波紋管支座法蘭、力口熱管出入口套管、外水套和加熱管銅防塵墊圈組成，加熱管出入口套管下端伸入爐體頂板的開孔內(nèi)，與爐體頂板焊接固定，加熱管出入口套管上端口與波紋管座法蘭焊連，外水套套在加熱管出入口套管外周，其與波紋管座法蘭和爐體頂板焊接固連，形成環(huán)形的水冷室，所述外水套上設有進、出水口，供冷卻水進出；所述波紋管支承座法蘭與所述波紋管下法蘭固定連接，兩者之間通過密封圈實現(xiàn)真空密封；所述水冷室內(nèi)流過的冷卻水吸收加熱管的輻射熱以防止所述真空密封損壞，所述加熱管銅防塵墊圈活套在加熱管外，且置于波紋管支承座法蘭的上端面和波紋管下法蘭下端面的環(huán)槽內(nèi)以阻擋加熱棒上的不潔物落入爐內(nèi)。
[0013]本實用新型所述加熱管組件、波紋管組件和波紋管支承座組件密封連接，從加熱管法蘭以下波紋管組件與波紋管支承座組件的中空內(nèi)腔連通成真空空間，加熱管通過該真空空間穿過加熱管出入口進入爐內(nèi)，由該波紋管伸縮造成的長短可變的內(nèi)腔成為加熱管升降運動的真空通道。
[0014]本實用新型為了實現(xiàn)單個加熱管升降目的，可以為單個加熱管配備一個升降機構(gòu)，作為本實用新型的一種實施方式，所述升降機構(gòu)包括升降臂和汽缸，所述汽缸的活塞桿向上伸出，所述升降臂橫向設置，其一端與所述加熱管法蘭的邊緣相連，另一端與所述活塞桿連接；所述汽缸的缸體支撐在鍍膜室的頂面上。
[0015]作為本實用新型的一種改進，所述升降機構(gòu)還包括導向機構(gòu)，所述導向機構(gòu)主要由導柱座、導柱、直線軸承、直線軸承座和汽缸固定板組成，所述汽缸固定板水平設置，所述汽缸固定板的一端連接在所述鍍膜室的頂面上，另一端連接在汽缸的缸體上以實現(xiàn)支撐汽缸；所述直線軸承安裝在直線軸承座中，且直線軸承座固定在所述汽缸固定板的上表面上，所述導柱座設置在升降臂的開孔內(nèi)，所述導柱的上端固定在導柱座中并向下穿過直線軸承后伸出汽缸固定板。本實用新型的導向機構(gòu)可以保證升降臂平穩(wěn)升降、不振動、不移位、不偏轉(zhuǎn)。
[0016]本實用新型為了實現(xiàn)多個加熱管同時升降目的，可以僅配備一個升降機構(gòu)，作為本實用新型的另一種方式，所述的升降機構(gòu)包括升降板、汽缸和汽缸罩，所述汽缸安裝在所述鍍膜室的頂面上，所述汽缸的活塞桿向上伸出，所述汽缸罩罩在所述汽缸上，所述活塞桿與所述汽缸罩的頂面相連，所述升降板套于汽缸的下部，所述汽缸罩的下端口固定在所述升降板上，在所述升降板上開有數(shù)個用于加熱管伸出的安裝孔，每個加熱管上的加熱管法蘭與所述安裝孔的孔口下周緣連接。
[0017]作為本實用新型的一種改進，所述升降機構(gòu)還包括導向機構(gòu)，所述導向機構(gòu)主要由導柱頂板、導柱、直線軸承、直線軸承座和導柱底座組成，所述導柱的下端通過導柱底座固定在鍍膜室的頂面上，所述直線軸承安裝在直線軸承座內(nèi)，且直線軸承座固定在所述升降板上，所述導柱向上穿過直線軸承與導柱頂板連接。在加熱管升降過程中，導柱在直線軸承內(nèi)滑動，可以保證升降板平穩(wěn)升降、不振動、不移位、不偏轉(zhuǎn)。
[0018]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型具有如下顯著的效果:
[0019]⑴本實用新型當加熱管位于鍍膜室內(nèi)，進行加熱抽氣作業(yè)，再通過升降機構(gòu)提升加熱管至鍍膜室外，進行鍍膜作業(yè)。在鍍膜過程中，由于加熱管不在鍍膜室內(nèi)，因此加熱管上不會附著殘留鍍層，解決了加熱管所致的二次污染問題。
[0020]⑵本實用新型的波紋管拉開保證具有足夠長度，使其所提升擴展的空間維持真空，而且波紋管可以耐受發(fā)熱管余熱輻射。特殊波紋管具有耐熱性高、伸縮比大、疲勞性好的性點，使得本實用新型結(jié)構(gòu)新穎、簡潔、可靠，設備更緊湊，制造工藝更簡化。
[0021]⑶由于解決了加熱管所致的二次污染問題，提高了鍍層質(zhì)量，減少了產(chǎn)品不良率。
[0022]⑷本實用新型的導向機構(gòu)保證了加熱管的平穩(wěn)升降，使本裝置運行可靠。
[0023](5)水冷罩能夠吸收加熱管上傳的熱量，而且保證加熱管引出端的電絕緣，同時確保加熱管處于真空密封環(huán)境中；水冷套可以吸收加熱管的輻射熱，保證密封圈冷卻不被損壞。
[0024](6)本實用新型的防塵墊圈可以阻擋加熱管上的不潔物下落進入鍍膜室，進一步提高了鍍膜質(zhì)量。
[0025](7)本實用新型的結(jié)構(gòu)簡單緊湊，省去了清理加熱管上殘留鍍層的工作，省時省力，提高了工作效率，降低了生產(chǎn)成本。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0026]下面結(jié)合附圖和具體實施例對本實用新型作進一步的詳細說明。
[0027]圖1是本實用新型實施例1的剖視結(jié)構(gòu)圖(加熱管下降至最低位置);
[0028]圖2是本實用新型實施例2的剖視結(jié)構(gòu)圖(加熱管下降至最低位置)；
[0029]圖3是圖2中A局部放大示意圖。
【具體實施方式】
[0030]實施例1
[0031]如圖1所示，是本實用新型一種立式真空離子鍍膜機的無污染加熱管裝置，包括加熱管組件、波紋管組件、波紋管支承座組件和升降機構(gòu)。加熱管組件由特制加熱管10、力口熱管法蘭12、加熱管端頭水冷罩9、出入水咀11組成。特制加熱管10上端為導線引出端，引出端設有絕緣接頭，加熱管10內(nèi)的發(fā)熱絲的位置離引出端頭較遠，當加熱管10下降至最低位置時，發(fā)熱絲位于爐體頂板21稍下方處，爐體頂板21位于鍍膜室24的爐體圍板22的上端。加熱管法蘭12貼著加熱管10上端的凸肩下環(huán)面環(huán)焊連接固定，在加熱管法蘭12的上端面與加熱管10之間的空間上，套焊帶有出入水咀11的冷卻水罩9，構(gòu)成用于冷卻水流動的環(huán)形水冷室26，進、出水口 11與水冷室26相通，水冷罩內(nèi)冷水與加熱管上傳的熱量進行熱交換，吸收加熱管上傳的熱量，保證加熱管引出端的電絕緣，同時保證加熱管法蘭上的真空密封13不損壞。
[0032]波紋管組件由波紋管15、波紋管上法蘭14、波紋管下法蘭16組成。波紋管上法蘭14和波紋管下法蘭16的中間通孔與波紋管15的管口大小相適應，波紋管的端口位于波紋管法蘭中間通孔的外圍，三者焊接固連。
[0033]波紋管支承座組件由波紋管支座法蘭18、加熱管出入口套管19、外水套20和加熱管銅防塵墊圈23組成。加熱管出入口套管19下端伸入21爐體頂板的開孔內(nèi)，與爐體頂板21焊接固定。加熱管出入口套管19上端口與波紋管座法蘭18焊連，筒形外水套20套在出入口套管19外周，外水套20的上端與波紋管座法蘭18焊接固連，其下端與爐體頂板21焊接固連，三者與加熱管出入口套管19外壁圍成環(huán)形水冷室25。外水套20有出入冷卻水咀(未畫出)，該進、出水口與水冷室25相通以吸收加熱管的輻射熱，同時保護波紋管支承座法蘭上的真空密封13不損壞。
[0034]加熱管法蘭12與波紋管上法蘭14通過密封圈13真空封密固連，且加熱管法蘭12與波紋管上法蘭14 一起由螺釘與升降機構(gòu)的升降臂8固連。波紋管下法蘭16與波紋管支承座法蘭18連接，并通過密封圈17實現(xiàn)真空密封。加熱管銅防塵墊圈23采用銅材料制成，防塵墊圈23活套在加熱管10外，置于波紋管支承座法蘭18的上端面和波紋管下法蘭16的環(huán)槽內(nèi)。防塵墊圈可以阻擋加熱管上的不潔物下落進入鍍膜室24，能夠進一步提高鍍膜質(zhì)量。
[0035]加熱管組件、波紋管組件和波紋管支承座密封連接，從加熱管法蘭18以下波紋管組件與波紋管支承座內(nèi)腔連通成真空空間，加熱管10通過它穿過爐體頂板21進入爐內(nèi)，成為加熱管升降運動的真空通道。
[0036]加熱管10通過加熱管法蘭18連接升降機構(gòu)，升降機構(gòu)驅(qū)動加熱管法蘭帶動加熱管下降使加熱管進入鍍膜室進行加熱抽氣作業(yè)，再驅(qū)動加熱管上升使其離開鍍膜室以便在真空狀態(tài)下進行鍍膜作業(yè)。波紋管15的壓縮比為8:1，波紋管15耐溫至少為600度。波紋管拉開保證有足夠的長度，使其所提升擴展的空間足以容納加熱管並維持真空，而且波紋管可以耐受發(fā)熱管余熱輻射。
[0037]本實施例應用于單個加熱管升降，為單個加熱管配備一個升降機構(gòu)，升降機構(gòu)包括升降臂8和汽缸1，汽缸I的缸體進出氣口連接外置壓縮氣源(圖中未畫出)，由壓縮空氣推動缸體內(nèi)活塞(圖中未畫出)做上下運動，從而推動活塞桿3上下運動。汽缸I的活塞桿3向上伸出，升降臂8橫向設置，其一端與加熱管法蘭12的邊緣及波紋管上法蘭通過螺釘固連，另一端與活塞桿3的上端由雙螺母緊固連接；汽缸I的缸體支撐在鍍膜室的頂面上。升降機構(gòu)還包括導向機構(gòu)，在本實施例中，導向機構(gòu)主要由導柱座7、導柱6、直線軸承5、直線軸承座4和汽缸固定板2組成，汽缸固定板2水平設置，汽缸固定板2的一端通過螺釘連接在鍍膜室的爐體頂板上，另一端連接在汽缸I的缸體上以實現(xiàn)支撐汽缸，具體是在汽缸固定板上開設通孔，汽缸的缸體固定在通孔周緣上，活塞桿則從通孔中伸出；直線軸承5安裝在直線軸承座4中，且直線軸承座固定在汽缸固定板2的上表面上，導柱座7設置在升降臂8的開孔內(nèi)，導柱6的上端固定在導柱座7上并向下穿過直線軸承5后伸出汽缸固定板2，其中直線軸承5與導柱6為滑動配合。導柱座7由連接板與設于連接板下表面上的筒體組成，導柱6的上端插入固定在筒體中，連接板位于升降臂8開孔的上方，通過螺釘固定在開孔的孔沿上。
[0038]本實用新型的工作過程如下:單支加熱管處于下降至最低位置狀態(tài)，此時爐內(nèi)(鍍膜室內(nèi))進行鍍膜作業(yè)程序，先抽真空，達到規(guī)定真空度后，加熱管通電加熱，爐內(nèi)受熱爐溫上升，這有利于排除爐內(nèi)吸附的雜氣和水汽，當爐溫上升至預定溫度，并保溫至規(guī)定時間，完成加熱抽氣階段作業(yè)后，則發(fā)熱管斷電停止加熱，爐內(nèi)一邊抽氣，爐溫漸下降，加熱管余溫也下降，延至規(guī)定時間后，則提升加熱管至爐外，爐內(nèi)開始鍍膜作業(yè)。提升加熱管的過程是:啟動提升開關(guān)，由外設壓力氣源從汽缸的提升氣咀進入汽缸內(nèi)，推動汽缸體內(nèi)活塞上行，活塞桿徐徐上升，帶動升降臂上升，升降臂上的導柱座拖動導柱上升，導柱受安裝在汽缸固定板上的直線軸承與直線軸承座的定位和限制，同時升降臂也拖動固連在其上加熱管和波紋管上升；即升降臂通過與其固連的加熱管法蘭提升加熱管同時提起波紋管上法蘭，于是原來被壓縮的波紋管即拉開。這里選用特殊波紋管，其壓縮比達8比1，材料耐溫達600度以上，當加熱管完全提升到爐體頂板外。波紋管拉開(長)保證有足夠的高度，可維持所上升的空間處于真空狀態(tài)，而且波紋管可耐受發(fā)熱管余熱輻射。特殊波紋管具有耐熱性高、伸縮比大、疲勞性好的性點，使得本實用新型結(jié)構(gòu)新穎、簡潔、可靠，設備更緊湊，制造工藝更簡化。
[0039]實施例2
[0040]如圖2、3所示，本實施例與實施例1的不同之處在于:本實施例應用于多個加熱管同時升降，僅配備一個升降機構(gòu)，升降機構(gòu)包括升降板2-6、汽缸2-2和汽缸罩,汽缸罩由支撐筒2-5與位于支撐筒2-5的上端口的支撐筒法蘭2-4組成。汽缸2-2通過汽缸固定底座2-1安裝在鍍膜室的爐體頂板2-12上，汽缸2-2的活塞桿2-3向上伸出。汽缸罩罩在汽缸2-2上，活塞桿2-3與汽缸罩的支撐筒法蘭2-4頂面相連固定。升降板2-6套于汽缸2_2的下部，支撐筒2-5的下端口固定在升降板2-6上，在升降板2-6上開有數(shù)個用于加熱管伸出的安裝孔，每個加熱管上的加熱管法蘭12與安裝孔的孔口下周緣連接。
[0041]在本實施例中，導向機構(gòu)主要由導柱頂板2-11、導柱2-7、直線軸承2-9、直線軸承座2-8和導柱底座2-10組成，導柱2-7的下端通過導柱底座2-10固定在鍍膜室的爐體頂板上，直線軸承2-9安裝在直線軸承座2-8內(nèi)，且直線軸承座2-8固定在升降板2-6上，導柱2-7向上穿過直線軸承2-9與導柱頂板2-11連接。
[0042]本實用新型的工作過程如下:多支加熱管下降至最低位置(圖2中只畫出一支加熱管，其他加熱管狀態(tài)與之相同)，爐內(nèi)進行鍍膜作業(yè)程序與實施例1相同，先抽真空，隨后各加熱管通電加熱，完成加熱抽氣階段作業(yè)后，則各發(fā)熱管斷電停止加熱，當加熱管余溫下降至規(guī)定時間后，則提升各加熱管至爐體頂板外，爐內(nèi)開始鍍膜作業(yè)。提升各加熱管的運行過程:啟動提升開關(guān)，由外設壓力氣源從汽缸的提升氣咀進入汽缸內(nèi)，推動汽缸體內(nèi)活塞上行，活塞桿徐徐上升，帶動支撐筒法蘭一支撐筒一升降板上升，隨即固連在升降板上的各加熱管法蘭同時提升，并拖動各加熱管也上升，且提起波紋管上法蘭，于是原來被壓縮的波紋管即拉開(長)，使所提升擴展的空間維持真空。升降板通過固連的直線軸承座再經(jīng)直線軸承與導柱滑動連接，升降板上下運動受導柱一直線軸承一直線軸承座的定位和限制，保證升降板平穩(wěn)升降，不振動、不移位、不偏轉(zhuǎn)，也保證了升降板拖動固連在其上的加熱管和波紋管升降平穩(wěn)、不偏倚。
[0043]本實用新型的實施方式不限于此，根據(jù)本實用新型的上述內(nèi)容，按照本領(lǐng)域的普通技術(shù)知識和慣用手段，在不脫離本實用新型上述基本技術(shù)思想前提下，本實用新型還可以做出其它多種形式的修改、替換或變更，均落在本實用新型權(quán)利保護范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種立式真空離子鍍膜機的無污染加熱管裝置，其特征在于:包括加熱管組件、波紋管組件、波紋管支承座組件和升降機構(gòu)，所述加熱管組件包括加熱管，其上端為帶絕緣的導線引出端，稍靠下方焊有加熱管法蘭，所述加熱管法蘭向下連接波紋管組件，所述波紋管組件向下連接波紋管支承座組件，波紋管支承座組件再向下通過開在爐體頂板上的加熱管出入口連通爐內(nèi)，所述加熱管穿過波紋管組件和波紋管支承座組件的中空內(nèi)腔，伸進爐體頂板上的加熱管出入口進入爐內(nèi)，所述加熱管通過加熱管法蘭連接所述升降機構(gòu)，所述升降機構(gòu)驅(qū)動加熱管法蘭，帶動加熱管下降，使加熱管進入鍍膜室進行加熱抽氣作業(yè)，再驅(qū)動加熱管上升使其離開鍍膜室以便在真空狀態(tài)下進行鍍膜作業(yè)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的立式真空離子鍍膜機的無污染加熱管裝置，其特征在于:所述加熱管組件還包括加熱管端頭水冷罩和出入水咀，所述加熱管法蘭環(huán)焊在加熱管上的凸肩下，在加熱管法蘭的上端面與加熱管之間的空間上，套焊帶有出入水咀的冷卻水罩，通過水冷罩內(nèi)的冷卻水吸收加熱管上傳的熱量，從而保證加熱管引出端的電絕緣，同時保護加熱管法蘭的真空密封不受損。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的立式真空離子鍍膜機的無污染加熱管裝置，其特征在于:所述波紋管組件包括波紋管、波紋管上法蘭和波紋管下法蘭，所述波紋管與波紋管上法蘭及波紋管下法蘭焊接固連，所述波紋管的上、下法蘭的中間通孔與波紋管的管口大小相適應，所述波紋管的上、下端口位于所述波紋管上、下法蘭中間通孔的外圍；所述加熱管法蘭與波紋管上法蘭通過密封圈實現(xiàn)真空封密固連，且加熱管法蘭與波紋管上法蘭共同與升降機構(gòu)固連，所述波紋管下法蘭與波紋管支承座法蘭連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的立式真空離子鍍膜機的無污染加熱管裝置，其特征在于:所述波紋管的壓縮比為8:1，所述波紋管耐溫至少為600度。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的立式真空離子鍍膜機的無污染加熱管裝置，其特征在于:所述波紋管支承座組件由波紋管支座法蘭、加熱管出入口套管、外水套和加熱管銅防塵墊圈組成，加熱管出入口套管下端伸入爐體頂板的開孔內(nèi)，與爐體頂板焊接固定，加熱管出入口套管上端口與波紋管座法蘭焊連，外水套套在加熱管出入口套管外周，其與波紋管座法蘭和爐體頂板焊接固連，形成環(huán)形的水冷室，所述外水套上設有進、出水口，供冷卻水進出；所述波紋管支承座法蘭與所述波紋管下法蘭固定連接，兩者之間通過密封圈實現(xiàn)真空密封；所述水冷室內(nèi)流過的冷卻水吸收加熱管的輻射熱以防止所述真空密封損壞，所述加熱管銅防塵墊圈活套在加熱管外，且置于波紋管支承座法蘭的上端面和波紋管下法蘭下端面的環(huán)槽內(nèi)以阻擋加熱棒上的不潔物落入爐內(nèi)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的立式真空離子鍍膜機的無污染加熱管裝置，其特征在于:所述加熱管組件、波紋管組件和波紋管支承座組件密封連接，從加熱管法蘭以下波紋管組件與波紋管支承座組件的中空內(nèi)腔連通成真空空間，加熱管通過該真空空間穿過加熱管出入口進入爐內(nèi)，由該波紋管伸縮造成的長短可變的內(nèi)腔成為加熱管升降運動的真空通道。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或 2或3或4或5或6所述的立式真空離子鍍膜機的無污染加熱管裝置，其特征在于:所述升降機構(gòu)包括升降臂和汽缸，所述汽缸的活塞桿向上伸出，所述升降臂橫向設置，其一端與所述加熱管法蘭的邊緣相連，另一端與所述活塞桿連接；所述汽缸的缸體支撐在鍍膜室的頂面上。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的立式真空離子鍍膜機的無污染加熱管裝置，其特征在于:所述升降機構(gòu)還包括導向機構(gòu)，所述導向機構(gòu)主要由導柱座、導柱、直線軸承、直線軸承座和汽缸固定板組成，所述汽缸固定板水平設置，所述汽缸固定板的一端連接在所述鍍膜室的頂面上，另一端連接在汽缸的缸體上以實現(xiàn)支撐汽缸；所述直線軸承安裝在直線軸承座中，且直線軸承座固定在所述汽缸固定板的上表面上，所述導柱座設置在升降臂的開孔內(nèi)，所述導柱的上端固定在導柱座中并向下穿過直線軸承后伸出汽缸固定板。
9.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3或4或5或6所述的立式真空離子鍍膜機的無污染加熱管裝置，其特征在于:所述的升降機構(gòu)包括升降板、汽缸和汽缸罩，所述汽缸安裝在所述鍍膜室的頂面上，所述汽缸的活塞桿向上伸出，所述汽缸罩罩在所述汽缸上，所述活塞桿與所述汽缸罩的頂面相連，所述升降板套于汽缸的下部，所述汽缸罩的下端口固定在所述升降板上，在所述升降板上開有數(shù)個用于加熱管伸出的安裝孔，每個加熱管上的加熱管法蘭與所述安裝孔的孔口下周緣連接。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的立式真空離子鍍膜機的無污染加熱管裝置，其特征在于:所述升降機構(gòu)還包括導向機構(gòu)，所述導向機構(gòu)主要由導柱頂板、導柱、直線軸承、直線軸承座和導柱底座組成，所述導柱的下端通過導柱底座固定在鍍膜室的頂面上，所述直線軸承安裝在直線軸承座內(nèi)，且直線軸承座固定在所述升降板上，所述導柱向上穿過直線軸承與導柱頂板連接。
【文檔編號】C23C14/22GK203613251SQ201320775061
【公開日】2014年5月28日 申請日期:2013年11月29日 優(yōu)先權(quán)日:2013年11月29日
【發(fā)明者】李志榮, 李志方, 羅志明, 袁鎮(zhèn)海, 李秋霞 申請人:東莞市匯成真空科技有限公司