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一種平面研磨的制造方法

文檔序號:3305873閱讀:173來源:國知局
一種平面研磨的制造方法
【專利摘要】本實用新型涉及研磨機【技術(shù)領(lǐng)域】,尤其涉及一種平面研磨機,包括底座,在所述底座上設(shè)置有夾持裝置和研磨裝置;所述夾持裝置,用于夾持住待研磨零部件;研磨裝置,用于對所述夾持裝置夾持的零部件進行研磨作業(yè)。本實用新型的發(fā)明目的在于提供一種平面研磨機,本實用新型提供的技術(shù)方案機構(gòu)簡單,制作簡便,在實現(xiàn)研磨作業(yè)的同時,還提高了本實用新型的適用性。
【專利說明】一種平面研磨機
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及研磨機【技術(shù)領(lǐng)域】,尤其涉及一種平面研磨機。
【背景技術(shù)】
[0002]研磨膏是一種膏狀的磨料,是將微粉磨料與膏狀結(jié)合劑制成的一種軟質(zhì)磨具,也稱為松散磨具。研磨膏更有利于磨料在其中均勻分散,減少對研磨工件的劃傷。
[0003]聯(lián)軸器是用來聯(lián)接不同機構(gòu)中的兩根軸(主動軸和從動軸)使之共同旋轉(zhuǎn)以傳遞扭矩的機械零件。在高速重載的動力傳動中,有些聯(lián)軸器還有緩沖、減振和提高軸系動態(tài)性能的作用。聯(lián)軸器由兩半部分組成,分別與主動軸和從動軸聯(lián)接。
[0004]研磨機是用涂上或嵌入磨料的研具對工件表面進行研磨的磨床,主要用于研磨工件中的高精度平面、內(nèi)外圓柱面、圓錐面、球面、螺紋面和其他型面。研磨機的主要類型有圓盤式研磨機、轉(zhuǎn)軸式研磨機和各種專用研磨機。
[0005]在發(fā)明人的仔細(xì)研究和驗證下,發(fā)現(xiàn)現(xiàn)有技術(shù)具有如下缺陷:
[0006]現(xiàn)有平面研磨機結(jié)構(gòu)復(fù)雜,維修困難,制作成本高,不利于市場推廣。
實用新型內(nèi)容
[0007]本實用新型的發(fā)明目的在于提供一種平面研磨機,本實用新型提供的技術(shù)方案機構(gòu)簡單,制作簡便,在實現(xiàn)研磨作業(yè)的同時,還提高了本實用新型的適用性。
[0008]為解決上述問題,本實用新型采用以下技術(shù)方案來實現(xiàn)的:
[0009]一種平面研磨機,包括底座,在所述底座上設(shè)置有夾持裝置和研磨裝置;所述夾持裝置,用于夾持住待研磨零部件;所述研磨裝置,用于對所述夾持裝置夾持的零部件進行研磨作業(yè)。
[0010]所述夾持裝置包括支撐桿和夾持部;所述支撐桿的一端設(shè)置于所述底座上;所述支撐桿的另一端與所述夾持部連接。
[0011]所述研磨裝置包括研磨轉(zhuǎn)盤,所述研磨轉(zhuǎn)盤的形狀為圓形,在所述研磨轉(zhuǎn)盤的圓心處連接設(shè)置有電機;所述研磨轉(zhuǎn)盤,用于做回轉(zhuǎn)運動,并且對所述夾持裝置夾持的零部件進行研磨作業(yè)。
[0012]進一步的,在所述研磨轉(zhuǎn)盤的外側(cè)面上設(shè)置有研磨層。
[0013]更進一步的,所述研磨層為研磨膏層。
[0014]進一步的,在所述研磨轉(zhuǎn)盤和電機間設(shè)置有聯(lián)軸器。
[0015]更進一步的,在所述支撐桿的底部設(shè)置有轉(zhuǎn)軸;所述支撐桿通過所述轉(zhuǎn)軸活動設(shè)置于所述底座上。
[0016]由上可見,應(yīng)用本實用新型技術(shù)方案,可以達(dá)到以下有益效果:
[0017]本實用新型設(shè)置有圓形研磨轉(zhuǎn)盤,通過電機帶動研磨轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動,在完成平面研磨的基礎(chǔ)上,還對平面研磨裝置的結(jié)構(gòu)簡約化,制作簡便,制造成本低廉。
[0018]本實用新型還設(shè)置有研磨層,有利于磨料在其中均勻分散,減少對研磨工件的劃傷。在電機和研磨轉(zhuǎn)盤間設(shè)置有聯(lián)軸器,起緩沖、減振和提高軸系動態(tài)性能作用,提高了本實用新型運轉(zhuǎn)的平穩(wěn)性。在支撐桿的底部活動設(shè)置有轉(zhuǎn)軸,夾持裝置可以通過轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn),提高了本實用新型夾持零部件的靈活性。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0019]為了更清楚地說明本實用新型實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹。顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例,對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動性的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0020]圖1為本實用新型整體示意圖。
【具體實施方式】
[0021]下面將結(jié)合本實用新型實施例中的附圖,對本實用新型實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述。顯然,所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例,而不是全部的實施例?;诒緦嵱眯滦椭械膶嵤├?,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本實用新型保護的范圍。
[0022]實施例1:
[0023]一種平面研磨機,包括底座10,在底座10上設(shè)置有夾持裝置20和研磨裝置30。夾持裝置20,用于夾持住待研磨零部件。研磨裝置30,用于對夾持裝置20夾持的零部件進行研磨作業(yè)。
[0024]夾持裝置20包括支撐桿21和夾持部22,支撐桿21的一端設(shè)置于底座10上,支撐桿21的另一端與夾持部22連接,在夾持部22上設(shè)置有夾持結(jié)構(gòu)23。研磨裝置30包括研磨轉(zhuǎn)盤31,研磨轉(zhuǎn)盤31的形狀為圓形,在研磨轉(zhuǎn)盤31的圓心處連接設(shè)置有電機32,研磨轉(zhuǎn)盤31,用于做回轉(zhuǎn)運動,并對夾持裝置20夾持的零部件進行研磨作業(yè)。
[0025]作為優(yōu)選的一種技術(shù)方案,在研磨轉(zhuǎn)盤31的外側(cè)面上設(shè)置有研磨層33,研磨層33的組成成分為研磨膏,有利于磨料在其中均勻分散,減少對研磨工件的劃傷。
[0026]在研磨轉(zhuǎn)盤31和電機32間設(shè)置有聯(lián)軸器34,起緩沖、減振和提高軸系動態(tài)性能作用,提高了本實用新型運轉(zhuǎn)的平穩(wěn)性。
[0027]在支撐桿21的底部設(shè)置有轉(zhuǎn)軸24,支撐桿21通過轉(zhuǎn)軸24活動設(shè)置于底座10上,夾持裝置20可以通過轉(zhuǎn)軸24旋轉(zhuǎn),提高了本實用新型夾持零部件的靈活性。
[0028]以上所述的實施方式,并不構(gòu)成對該技術(shù)方案保護范圍的限定。任何在上述實施方式的精神和原則之內(nèi)所作的修改、等同替換和改進等,均應(yīng)包含在該技術(shù)方案的保護范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種平面研磨機,其特征在于:包括底座,在所述底座上設(shè)置有夾持裝置和研磨裝置;所述夾持裝置,用于夾持住待研磨零部件;所述研磨裝置,對所述夾持裝置夾持的零部件進行研磨作業(yè)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種平面研磨機,其特征在于:所述夾持裝置包括支撐桿和夾持部;所述支撐桿的一端設(shè)置于所述底座上;所述支撐桿的另一端與所述夾持部連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種平面研磨機,其特征在于:所述研磨裝置包括研磨轉(zhuǎn)盤;所述研磨轉(zhuǎn)盤的形狀為圓形;在所述研磨轉(zhuǎn)盤的圓心處連接設(shè)置有電機;所述研磨轉(zhuǎn)盤,用于作回轉(zhuǎn)運動,并且對所述夾持裝置夾持的零部件進行研磨作業(yè)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種平面研磨機,其特征在于:在所述研磨轉(zhuǎn)盤的外側(cè)面上設(shè)置有研磨層。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種平面研磨機,其特征在于:所述研磨層為研磨膏層。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種平面研磨機,其特征在于:在所述研磨轉(zhuǎn)盤和電機間設(shè)置有聯(lián)軸器。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種平面研磨機,其特征在于:在所述支撐桿的底部設(shè)置有轉(zhuǎn)軸;所述支撐桿通過所述轉(zhuǎn)軸活動設(shè)置于所述底座上。
【文檔編號】B24B37/30GK203566484SQ201320774669
【公開日】2014年4月30日 申請日期:2013年11月29日 優(yōu)先權(quán)日:2013年11月29日
【發(fā)明者】沈旗衛(wèi), 呂為民 申請人:豐興精密產(chǎn)業(yè)(惠州)有限公司
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