一種線性蒸發(fā)源以及蒸鍍設(shè)備的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型揭示一種線性蒸發(fā)源以及蒸鍍設(shè)備。所述線性蒸發(fā)源包括：固定塊；坩鍋，所述坩鍋固定于所述固定塊之間，其內(nèi)部裝有有機(jī)材料，對待加工基板進(jìn)行鍍膜；坩鍋斷熱塊，所述坩鍋斷熱塊位于所述坩鍋的兩側(cè)；側(cè)蓋板，所述側(cè)蓋板位于所述坩鍋斷熱塊的外側(cè)；其特征在于，所述坩鍋斷熱塊上設(shè)有至少一個導(dǎo)向栓，所述坩鍋的側(cè)面設(shè)有與所述導(dǎo)向栓數(shù)量相同且位置對應(yīng)的鉆孔，運(yùn)行時，每根所述導(dǎo)向栓均插入相對應(yīng)的所述鉆孔內(nèi)，所述側(cè)蓋板裝于所述線性蒸發(fā)源的最外側(cè)。
【專利說明】一種線性蒸發(fā)源以及蒸鍍設(shè)備
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種真空熱蒸發(fā)裝置，且特別涉及一種線性蒸發(fā)源以及蒸鍍設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]近年來,使用有機(jī)電致發(fā)光(Electro Luminescence:以下稱“有機(jī)EL”)組件的有機(jī)EL顯示裝置，已取代CRT及LCD的顯示裝置而受到囑目，正研究開發(fā)一種具備例如用以驅(qū)動該有機(jī)EL組件的薄膜晶體管(Thin Film Transistor:以下稱“TFT”)的有機(jī)EL顯
示裝置。
[0003]有機(jī)EL組件被依序?qū)臃e形成:由IT0(Indium Tin Oxide氧化銦錫)等的透明電極所形成的陽極；由MTDATA(4，4-雙(3-甲基苯基苯氨基)聯(lián)苯)等第I空穴輸送層、TPD (4，4，4-三(3-甲基苯基苯氨基)三苯胺)等第2空穴輸送層所構(gòu)成的空穴輸送層；包含唳酮(Quinacridone)衍生物的Bebq2 (10-苯弁[h]輕基喹啉-鈹絡(luò)合物(10_benzo[h]quinolinol-beryllium complex))所形成的發(fā)光層；由Bebq2所形成的電子輸送層；及由鋁合金所形成的陰極的構(gòu)造。
[0004]如上所述的有機(jī)EL組件通過用以驅(qū)動該有機(jī)EL組件的驅(qū)動用TFT供給電流而發(fā)光。即，從陽極所注入的空穴與從陰極所注入的電子在發(fā)光層內(nèi)部再結(jié)合，激發(fā)用以形成發(fā)光層的有機(jī)分子而產(chǎn)生激發(fā)子(exdton)。在該激發(fā)子放射失活的過程中由發(fā)光層發(fā)光，該光會從透明的陽極經(jīng)由透明的陽極及玻璃基板等絕緣性基板放出至外部而進(jìn)行發(fā)光。
[0005]上述有機(jī)EL組件的各層中，用于形成空穴輸送層、發(fā)光層、電子輸送層的有機(jī)材料具有耐溶劑性低、不耐水分的特性。因此無法利用半導(dǎo)體工藝的光刻技術(shù)。目前，一般都是通過使用蒸鍍法，使上述有機(jī)材料選擇性蒸鍍在具備驅(qū)動用TFT的絕緣性基板上，以形成有機(jī)EL組件的空穴輸送層、發(fā)光層、電子輸送層及陰極的圖案。
[0006]蒸鍍法是一種屬于物理氣相沉積的真空鍍膜技術(shù)。它是將蒸鍍的材料置于一個坩鍋之中，通過對坩鍋加熱，使材料從固態(tài)轉(zhuǎn)化為氣態(tài)的原子、原子團(tuán)或分子，然后凝聚到待鍍膜的基板表面形成薄膜。該技術(shù)廣泛應(yīng)用于太陽能電池、半導(dǎo)體晶片、平板顯示、光學(xué)鏡片等領(lǐng)域。
[0007]對蒸鍍機(jī)而言，有機(jī)材料的充填是十分重要的一個環(huán)節(jié)，對于由人員來執(zhí)行的有機(jī)材料裝填動作勢必要做到嚴(yán)格控管，目前的控管機(jī)制及其存在的缺點(diǎn)為:
[0008]1、將條形碼安裝于坩鍋盒上，坩鍋上機(jī)前讀取坩鍋盒上條形碼，于CM端確認(rèn)坩鍋來源正確性；
[0009]缺點(diǎn):條形碼安裝位置為坩鍋盒上，非坩鍋本體。由于目前的坩鍋僅分為兩類，而同類型的坩鍋外形尺寸皆相同，若放錯仍能正常安裝上機(jī)，坩鍋上機(jī)管控機(jī)制將會失效，使有機(jī)材料錯誤地裝填，進(jìn)而導(dǎo)致產(chǎn)品報(bào)廢。
[0010]2、將條形碼安裝于坩鍋上，坩鍋上機(jī)并由機(jī)臺上讀碼機(jī)讀取條形碼，于CIM端確認(rèn)坩鍋正確性；[0011]缺點(diǎn):機(jī)臺上無適當(dāng)位置安裝讀碼機(jī)，目前無法使用此方法控管。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0012]針對現(xiàn)有技術(shù)中的缺陷，本實(shí)用新型的目的是提供一種線性蒸發(fā)源以及蒸鍍設(shè)備。
[0013]根據(jù)本實(shí)用新型的一個方面提供一種線性蒸發(fā)源，包括:固定塊；坩鍋，所述坩鍋固定于所述固定塊之間，其內(nèi)部裝有有機(jī)材料，對待加工基板進(jìn)行鍍膜；坩鍋斷熱塊，所述坩鍋斷熱塊位于所述坩鍋的兩側(cè)；側(cè)蓋板，所述側(cè)蓋板位于所述坩鍋斷熱塊的外側(cè)；其特征在于，所述坩鍋斷熱塊上設(shè)有至少一個導(dǎo)向栓，所述坩鍋的側(cè)面設(shè)有與所述導(dǎo)向栓數(shù)量相同且位置對應(yīng)的鉆孔，運(yùn)行時，每根所述導(dǎo)向栓均插入相對應(yīng)的所述鉆孔內(nèi)，所述側(cè)蓋板裝于所述線性蒸發(fā)源的最外側(cè)。
[0014]優(yōu)選地，兩側(cè)的所述坩鍋斷熱塊上各設(shè)有至少一個導(dǎo)向栓，且兩側(cè)的所述坩鍋斷熱塊上設(shè)置的導(dǎo)向栓的數(shù)量相同。
[0015]優(yōu)選地，兩側(cè)的所述坩鍋斷熱塊上設(shè)置的導(dǎo)向栓的位置沿所述坩鍋的中心線左右對稱。
[0016]優(yōu)選地，兩側(cè)的所述坩鍋斷熱塊上各設(shè)有一個導(dǎo)向栓，相應(yīng)地，所述坩鍋上與所述坩鍋斷熱塊對應(yīng)地設(shè)有一鉆孔。
[0017]優(yōu)選地，兩側(cè)的所述坩鍋斷熱塊上各設(shè)有兩個導(dǎo)向栓，兩個所述導(dǎo)向栓上下設(shè)置，相應(yīng)地，所述坩鍋上與所述坩鍋斷熱塊上兩個所述導(dǎo)向栓對應(yīng)地設(shè)有兩個鉆孔。
[0018]優(yōu)選地，每一側(cè)的兩個所述導(dǎo)向栓之間的距離為2mm。
[0019]優(yōu)選地，每一側(cè)的兩個所述導(dǎo)向栓之間的距離為6mm。
[0020]優(yōu)選地，兩側(cè)的所述坩鍋斷熱塊上各設(shè)有三個導(dǎo)向栓，三個導(dǎo)向栓上下設(shè)置，相應(yīng)地，所述坩鍋上與所述坩鍋斷熱塊上的三個所述導(dǎo)向栓對應(yīng)地設(shè)有三個鉆孔。
[0021]優(yōu)選地，每一側(cè)的兩個相鄰的所述導(dǎo)向栓之間的距離均為2mm。
[0022]優(yōu)選地，兩側(cè)的所述坩鍋斷熱塊上設(shè)置的導(dǎo)向栓的位置不沿所述坩鍋的中心線左右對稱。
[0023]優(yōu)選地，兩側(cè)的所述坩鍋斷熱塊上各設(shè)有兩個導(dǎo)向栓，相應(yīng)地，所述坩鍋上與所述坩鍋斷熱塊上對應(yīng)地設(shè)有兩個鉆孔，其中，一側(cè)的兩個所述導(dǎo)向栓之間的距離為2mm，另一側(cè)的兩個導(dǎo)向栓之間的距離為6mm。
[0024]優(yōu)選地，兩側(cè)的所述坩鍋斷熱塊上設(shè)置的導(dǎo)向栓的數(shù)量不相同。
[0025]優(yōu)選地，一側(cè)的所述坩鍋斷熱塊上設(shè)置一個導(dǎo)向栓，另一側(cè)的所述坩鍋斷熱塊上設(shè)置兩個導(dǎo)向栓。
[0026]優(yōu)選地，一側(cè)的所述坩鍋斷熱塊上設(shè)置兩個導(dǎo)向栓，另一側(cè)的所述坩鍋斷熱塊上
設(shè)置三個導(dǎo)向栓。
[0027]優(yōu)選地，其特征在于，每個與所述鉆孔相對所述導(dǎo)向栓的縱截面的形狀為圓形、矩形、正方形、三角形、橢圓形或梯形中的任一種，相應(yīng)地，每個所述鉆孔的縱截面形狀與每個對應(yīng)的所述導(dǎo)向栓的縱截面形狀相同。
[0028]優(yōu)選地，每個與所述鉆孔相對的所述導(dǎo)向栓的縱截面的形狀均相同。
[0029]優(yōu)選地，每個所述導(dǎo)向栓的長度相同。[0030] 優(yōu)選地，每個所述導(dǎo)向栓的長度為4mm，其深入所述坩鍋斷熱塊部分的長度為1mm，所述鉆孔的深度為3mm。
[0031 ] 優(yōu)選地，每個與所述鉆孔相對所述導(dǎo)向栓的縱截面的面積都相同。
[0032]根據(jù)本實(shí)用新型的另一個方面提供一種蒸鍍設(shè)備，其包括:腔體；鍍膜傘架，所述鍍膜傘架位于所述腔體的頂部，固定待鍍膜的基板；其特征在于，還包括:線性蒸發(fā)源，所述線性蒸發(fā)源位于所述鍍膜傘架的下方，其裝有有機(jī)材料，對待鍍膜基板進(jìn)行加工。
[0033]本實(shí)用新型通過提供一種線性蒸發(fā)源以及蒸鍍設(shè)備，其利用蒸鍍機(jī)現(xiàn)有線性蒸發(fā)源的設(shè)計(jì)，在坩鍋與坩鍋斷熱塊間加裝導(dǎo)向栓，達(dá)到坩鍋與線性蒸發(fā)源關(guān)連性的控管，其具有如下優(yōu)點(diǎn):
[0034]1、直接在機(jī)臺端做控管，防止因人員疏忽所造成的產(chǎn)品損失；
[0035]2、避免材料混用造成污染；
[0036]3、補(bǔ)強(qiáng)現(xiàn)行有機(jī)材料上機(jī)控管流程的漏洞。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0037]通過閱讀參照以下附圖對非限制性實(shí)施例所作的詳細(xì)描述，本實(shí)用新型的其它特征、目的和優(yōu)點(diǎn)將會變得更明顯:
[0038]圖1示出根據(jù)本實(shí)用新型的第一實(shí)施例的線性蒸發(fā)源的縱截面結(jié)構(gòu)示意圖；
[0039]圖2示出根據(jù)本實(shí)用新型的第一實(shí)施例的線性蒸發(fā)源的右側(cè)的坩鍋斷熱塊與坩鍋的縱截面結(jié)構(gòu)示意圖；
[0040]圖3示出根據(jù)本實(shí)用新型的第一實(shí)施例的線性蒸發(fā)源的右側(cè)的導(dǎo)向栓插入鉆孔后的坩鍋斷熱塊與坩鍋的縱截面結(jié)構(gòu)示意圖；
[0041]圖4示出根據(jù)本實(shí)用新型的第二實(shí)施例的線性蒸發(fā)源的右側(cè)的導(dǎo)向栓插入鉆孔后的坩鍋斷熱塊與坩鍋的縱截面結(jié)構(gòu)示意圖；
[0042]圖5示出根據(jù)本實(shí)用新型的第一實(shí)施例的坩鍋與第二實(shí)施例的坩鍋斷熱塊互相配合使用時的縱截面結(jié)構(gòu)示意圖；
[0043]圖6示出根據(jù)本實(shí)用新型的第三實(shí)施例的線性蒸發(fā)源的縱截面結(jié)構(gòu)示意圖；以及
[0044]圖7示出根據(jù)本實(shí)用新型的第四實(shí)施例的線性蒸發(fā)源的右側(cè)的坩鍋斷熱塊與坩鍋的縱截面結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0045]下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對本實(shí)用新型的技術(shù)內(nèi)容進(jìn)行進(jìn)一步地說明:
[0046]圖1示出了根據(jù)本實(shí)用新型的第一實(shí)施例的線性蒸發(fā)源的縱截面結(jié)構(gòu)示意圖。如圖1所示，所述線性蒸發(fā)源包括:固定塊100、坩鍋200、坩鍋斷熱塊300、側(cè)蓋板400。具體地，其中，坩鍋200固定于兩塊固定塊100之間，其內(nèi)部裝有有機(jī)材料，對待加工基板進(jìn)行鍍膜。坩鍋斷熱塊300位于坩鍋200的兩側(cè)。側(cè)蓋板400位于坩鍋斷熱塊300的外側(cè)。
[0047]進(jìn)一步地，坩鍋斷熱塊300上設(shè)有至少一個導(dǎo)向栓310，坩鍋200的側(cè)面設(shè)有與導(dǎo)向栓310數(shù)量相同且位置對應(yīng)的鉆孔210，當(dāng)所述線性蒸發(fā)源運(yùn)行時，每根導(dǎo)向栓310均插入相對應(yīng)的鉆孔210內(nèi)，側(cè)蓋板400裝于所述線性蒸發(fā)源的最外側(cè)。
[0048]更進(jìn)一步地，在圖1所示的優(yōu)選例中，兩側(cè)的坩鍋斷熱塊300上設(shè)置的導(dǎo)向栓310的數(shù)量相同，其各設(shè)有兩個導(dǎo)向栓310，其中，兩個導(dǎo)向栓310為上下設(shè)置。相應(yīng)地，坩鍋200上與坩鍋斷熱塊300上對應(yīng)地設(shè)有兩個鉆孔210。并且位于坩鍋200兩側(cè)的坩鍋斷熱塊300上設(shè)置的導(dǎo)向栓310的位置沿坩鍋200的中心線左右對稱。當(dāng)所述現(xiàn)行蒸發(fā)源運(yùn)行時，每個導(dǎo)向栓310均位于對應(yīng)的鉆孔210內(nèi)。
[0049]圖2示出了根據(jù)本實(shí)用新型的第一實(shí)施例的線性蒸發(fā)源的右側(cè)的坩鍋斷熱塊與坩鍋的縱截面結(jié)構(gòu)示意圖。具體地，位于坩鍋200右側(cè)的坩鍋斷熱塊300上設(shè)有兩個導(dǎo)向栓310，相應(yīng)地，與兩個導(dǎo)向栓310相對應(yīng)的坩鍋200的側(cè)面設(shè)有兩個鉆孔210。
[0050]更具體地，如圖2所示，優(yōu)選地，每個與所述鉆孔相對導(dǎo)向栓310 (即朝向坩鍋200方向)的縱截面的形狀為圓形(圖中未示出)，相應(yīng)地，每個鉆孔210的縱截面也為圓形。而在一些變化例中，導(dǎo)向栓310的形狀是可以不同的。例如在一個變化例中，每個導(dǎo)向栓310的縱截面可以是正方形，相應(yīng)地，每個鉆孔210的縱截面也為正方形。又例如在另一個變化例中，每根導(dǎo)向栓310的縱截面形狀也可以是矩形，相應(yīng)地，每個鉆孔210的縱截面也為矩形。在又一個變化例中，每根導(dǎo)向栓310的縱截面形狀也可以是三角形，相應(yīng)地，每個鉆孔210的縱截面也為三角形。類似地，在一些其他的變化例中，每根導(dǎo)向栓310還可以是橢圓形或梯形等其他形狀，相應(yīng)地，每個鉆孔210的縱截面形狀與每個對應(yīng)的導(dǎo)向栓310的縱截面形狀相同。本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，這些變化例均可以予以實(shí)現(xiàn)，此處不予贅述。
[0051]更具體地，在圖2所示的優(yōu)選例中，每根導(dǎo)向栓310的長度相同。優(yōu)選地，每根導(dǎo)向栓310的長度均為4mm，其中，導(dǎo)向栓310伸入坩鍋斷熱塊300的部分長度為1mm。相應(yīng)地，坩鍋200的側(cè)面上的鉆孔210的深度為3mm。
[0052]更具體地，如圖2所示，優(yōu)選地，上下兩根導(dǎo)向栓310之間的距離為2mm，相應(yīng)地，坩鍋200上的兩個鉆孔210之間的距離也為2mm。
[0053]圖3示出了根據(jù)本實(shí)用新型的第一實(shí)施例的線性蒸發(fā)源的右側(cè)的導(dǎo)向栓插入鉆孔后的坩鍋斷熱塊與坩鍋的縱截面結(jié)構(gòu)示意圖。具體地，所述線性蒸發(fā)源包括坩鍋200、坩鍋斷熱塊300以及側(cè)蓋板400，相應(yīng)地位置以及連接關(guān)系已在上文中說明。如圖3所示，當(dāng)所述線性蒸發(fā)源運(yùn)行時，兩個導(dǎo)向栓310均插于鉆孔210內(nèi)。通過坩鍋200上的鉆孔210與坩鍋斷熱塊上的導(dǎo)向栓310的位置相對應(yīng)，以此使坩鍋與所述線性蒸發(fā)源互相匹配，避免發(fā)生坩鍋誤放，使有機(jī)材料錯誤裝填的情況發(fā)生。
[0054]圖4示出了根據(jù)本實(shí)用新型的第二實(shí)施例的線性蒸發(fā)源的右側(cè)的導(dǎo)向栓插入鉆孔后的坩鍋斷熱塊與坩鍋的縱截面結(jié)構(gòu)示意圖。圖4所示實(shí)施例可以理解為上述圖3所示實(shí)施例的一個變化例。具體地，如圖4所示，位于坩鍋200’右側(cè)的坩鍋斷熱塊300’上也設(shè)有兩個導(dǎo)向栓310’。與上述圖3不同的，在此實(shí)施例中，上下兩個導(dǎo)向栓310’之間的距離為6mm,相應(yīng)地甘鍋200’上兩個鉆孔210’之間的距離也為6mm。
[0055]進(jìn)一步地，根據(jù)圖4所示實(shí)施例，本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，在一些變化例中，兩個導(dǎo)向栓之間的距離是可以不同的，例如在一個變化例中，兩個導(dǎo)向栓之間的距離可以是10mm，相應(yīng)地，坩鍋上兩個鉆孔之間的距離也為10mm。本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，這些變化例均可以予以實(shí)現(xiàn)，此處不予贅述。
[0056]更進(jìn)一步地，結(jié)合上述圖3以及圖4所示實(shí)施例，本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，由于每個坩鍋斷熱塊上的導(dǎo)向栓的位置均與每個坩鍋上的鉆孔的位置相對應(yīng)，因此每個坩鍋斷熱塊與每個坩鍋也均是一一對應(yīng)的，當(dāng)導(dǎo)向栓位置與鉆孔位置不對應(yīng)的坩鍋斷熱塊與坩鍋使用時，會出現(xiàn)側(cè)蓋板無法裝上等問題。
[0057]因此為了更好地說明上述情況，圖5示出了根據(jù)本實(shí)用新型的第一實(shí)施例的坩鍋與第二實(shí)施例的坩鍋斷熱塊互相配合使用時的縱截面結(jié)構(gòu)示意圖。具體地，如圖5所示，由于坩鍋斷熱塊300’上的兩個導(dǎo)向栓310’之間的距離為6mm，而坩鍋200上的兩個鉆孔210之間的距離為2mm，因此，當(dāng)坩鍋200與坩鍋斷熱塊300’互相配合使用時，位于上方的導(dǎo)向栓310’頂住了坩鍋200的側(cè)面，而并沒有插入位于上方的鉆孔210中，從而導(dǎo)致了側(cè)蓋板400無法蓋上的問題，進(jìn)而也無法進(jìn)而作業(yè)，也避免了人員疏忽導(dǎo)致有機(jī)材料的混用從而造成產(chǎn)品的損失，此處不予贅述。
[0058]圖6示出了根據(jù)本實(shí)用新型的第三實(shí)施例的線性蒸發(fā)源的縱截面結(jié)構(gòu)示意圖。圖6可以理解為上述圖1所示實(shí)施例的一個變化例。具體地，與上述圖1不同的是，在圖6所示的實(shí)施例中，位于坩鍋200”兩側(cè)的坩鍋斷熱塊300”上各設(shè)有三個導(dǎo)向栓310”，三個導(dǎo)向栓310”為上下設(shè)置，相應(yīng)地，坩鍋200”上與坩鍋斷熱塊300”上導(dǎo)向栓310”對應(yīng)地設(shè)有三個鉆孔210”。更具體地，兩側(cè)的導(dǎo)向栓310”以及鉆孔210”的位置均沿坩鍋200”的中心線左右對稱。其中，每一側(cè)的兩個相鄰的導(dǎo)向栓310”之間的距離均為2mm。類似地，若僅設(shè)有兩個鉆孔的坩鍋與設(shè)有三個導(dǎo)向栓的坩鍋斷熱塊進(jìn)行匹配使用時，仍有至少一個導(dǎo)向栓會頂住坩鍋的側(cè)面，而無法使側(cè)蓋板裝上，因此同樣也能夠避免發(fā)生有機(jī)材料的混用從而造成產(chǎn)品的損失的問題，此處不予贅述。
[0059]進(jìn)一步地，根據(jù)圖6所示實(shí)施例，本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，在一些變化例中，三個導(dǎo)向栓之間的距離也是可以變化的，例如，在一個變化例中，一側(cè)的坩鍋斷熱塊300 ”上位于下方的兩個導(dǎo)向栓310”之間的距離可以是2mm，而位于最上方的導(dǎo)向栓310”與位于中間的導(dǎo)向栓310”之間的距離可以是6mm。又或者在另一個變化例中，一側(cè)的坩鍋斷熱塊300”上位于上方的兩個導(dǎo)向栓310”之間的距離可以是2mm，而位于最下方的導(dǎo)向栓310”與位于中間的導(dǎo)向栓310”之間的距離可以是6mm。這些變化例均可以予以實(shí)現(xiàn)，類似地，當(dāng)不匹配的坩鍋與坩鍋斷熱塊使用時，也會發(fā)生無法使側(cè)蓋板裝上，因此同樣也能夠避免有機(jī)材料的混用從而造成產(chǎn)品的損失的問題，此處不予贅述。
[0060]更進(jìn)一步地，本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，在另一些變化例中，每側(cè)的坩鍋斷熱塊上的導(dǎo)向栓的數(shù)量也是可以變化的，例如，在一個變化例中，每側(cè)的坩鍋斷熱塊上可以僅設(shè)有一個導(dǎo)向栓，其可以僅根據(jù)一個導(dǎo)向栓位于坩鍋斷熱塊上的位置的變化來與坩鍋上的鉆孔進(jìn)行匹配。又例如，在另一個變化例中，每側(cè)的坩鍋斷熱塊上也可以設(shè)有四個導(dǎo)向栓，其通過四個導(dǎo)向栓位于坩鍋斷熱塊上的位置的變化來與坩鍋上的鉆孔進(jìn)行匹配。又或者在另一些變化例中，坩鍋斷熱塊上的導(dǎo)向栓的數(shù)量可以更多。這些變化例均可予以實(shí)現(xiàn)，此處不予贅述。
[0061]圖7示出了根據(jù)本實(shí)用新型的第四實(shí)施例的線性蒸發(fā)源的右側(cè)的坩鍋斷熱塊與坩鍋的縱截面結(jié)構(gòu)示意圖。圖7可以理解為上述圖3所示實(shí)施例的另一個變化例。具體地，如圖7所示，與上述圖3所示的實(shí)施例不同的是，位于右側(cè)的坩鍋斷熱塊300”’上設(shè)有的兩個導(dǎo)向栓310”’中，位于上方的導(dǎo)向栓310”’的長度大于位于下方的導(dǎo)向栓310”’的長度。相應(yīng)地，坩鍋200”’上位于上方的鉆孔210”’的深度大于位于下方的鉆孔210”’的深度。本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，當(dāng)鉆孔深度與到導(dǎo)向栓長度不匹配的坩鍋與坩鍋斷熱塊使用時，同樣也會發(fā)生無法使側(cè)蓋板裝上，因此同樣也能夠避免有機(jī)材料的混用從而造成產(chǎn)品的損失的問題，此處不予贅述。
[0062]進(jìn)一步地，根據(jù)圖7所述的實(shí)施例，本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，在一個變化例中，位于下方的導(dǎo)向栓310”’的長度也可以大于位于上方的導(dǎo)向栓310”’的長度，該變化例同樣也予以實(shí)現(xiàn)。更進(jìn)一步地，在另一些變化例中，如一側(cè)的坩鍋斷熱塊的數(shù)量大于兩個時，每根導(dǎo)向栓的長度也可以是不同的。因此，當(dāng)鉆孔深度與到導(dǎo)向栓長度不匹配的坩鍋與坩鍋斷熱塊使用時，同樣也會發(fā)生無法使側(cè)蓋板裝上，同樣也能夠避免有機(jī)材料的混用從而造成產(chǎn)品的損失的問題，此處不予贅述。
[0063]更進(jìn)一步地，結(jié)合上述實(shí)施例，本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，在另一些變化例中，坩鍋斷熱塊與坩鍋之間也可以通過導(dǎo)向栓與鉆孔的相對的縱截面面積的不同來進(jìn)行匹配。例如在一個實(shí)施例中，一側(cè)的?甘鍋斷熱塊上設(shè)有兩個導(dǎo)向栓，位于上方的導(dǎo)向栓的縱截面面積大于位于下方的導(dǎo)向栓的縱截面面積，相應(yīng)地，坩鍋上位于上方的鉆孔的縱截面面積大于位于下方的鉆孔的縱截面面積。通過坩鍋斷熱塊與坩鍋的縱截面面積來進(jìn)行匹配，當(dāng)鉆孔縱截面面積與到導(dǎo)向栓的縱截面面積不匹配的坩鍋與坩鍋斷熱塊使用時，同樣也會發(fā)生導(dǎo)向栓無法插入對應(yīng)的鉆孔內(nèi)，從而無法使側(cè)蓋板裝上，同樣也能夠避免有機(jī)材料的混用從而造成產(chǎn)品的損失的問題，此處不予贅述。
[0064]更進(jìn)一步地，結(jié)合上述圖1至圖7所示實(shí)施例，本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，在上述實(shí)施例中，坩鍋兩側(cè)的坩鍋斷熱塊上設(shè)置的導(dǎo)向栓以及坩鍋上的鉆孔都是沿坩鍋的中心線左右對稱的。而在一些變化例中，坩鍋兩側(cè)的坩鍋斷熱塊上設(shè)置的導(dǎo)向栓的位置也可以是不對稱的。例如位于左邊的坩鍋斷熱塊上設(shè)置的導(dǎo)向栓的水平位置高于位于右邊的坩鍋斷熱塊上設(shè)置的導(dǎo)向栓的水平位置。通過左右的導(dǎo)向栓的水平高度的不同以對坩鍋斷熱塊以及坩鍋進(jìn)行匹配，此處不予贅述。更進(jìn)一步地，在另一些變化例中，坩鍋兩側(cè)的坩鍋斷熱塊上的導(dǎo)向栓的數(shù)量也可以是不同的。例如，在一個變化例中，左側(cè)的坩鍋斷熱塊上設(shè)置一個導(dǎo)向栓，右側(cè)的坩鍋斷熱塊上設(shè)置兩個導(dǎo)向栓。而在另一個變化例中，左側(cè)的坩鍋斷熱塊上設(shè)置兩個導(dǎo)向栓，右側(cè)的坩鍋斷熱塊上設(shè)置三個導(dǎo)向栓。通過左右的導(dǎo)向栓的數(shù)量的不同以對坩鍋斷熱塊以及坩鍋進(jìn)行 匹配，此處不予贅述。
[0065]更為進(jìn)一步地，綜合上述圖1至圖7所示實(shí)施例，本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，在上述實(shí)施例中，每個導(dǎo)向栓以及鉆孔的相對的縱截面的形狀都是相同的。而在一些變化例中，每根導(dǎo)向栓的縱截面形狀也可以是不同的，相應(yīng)地，每個與導(dǎo)向栓對應(yīng)的鉆孔的縱截面的形狀也是不同的。例如當(dāng)右側(cè)坩鍋斷熱塊上設(shè)有兩個導(dǎo)向栓時，位于上方的導(dǎo)向栓的縱截面可以是圓形的，與其對應(yīng)的坩鍋上位于上方的鉆孔的縱截面的形狀也是圓形的；而位于下方的導(dǎo)向栓的縱截面可以正方形的，與其對應(yīng)的剛過上位于下方的鉆孔的縱截面的形狀也是正方形的。當(dāng)導(dǎo)向栓縱截面形狀與鉆孔的縱截面的形狀不同的導(dǎo)向栓同樣不能插入鉆孔中，從而達(dá)到對坩鍋斷熱塊以及坩鍋進(jìn)行匹配的目的，進(jìn)而，避免有機(jī)材料的混用從而造成產(chǎn)品的損失的問題，此處不予贅述。
[0066]更為進(jìn)一步地，綜合上述圖1至圖7所示實(shí)施例，本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，本實(shí)用新型還提供一種蒸鍍設(shè)備，其包括:腔體、鍍膜傘架以及上述線性蒸發(fā)源。其中，所述鍍膜傘架位于所述腔體的頂部，固定待鍍膜的基板。所述線性蒸發(fā)源位于所述鍍膜傘架的下方，其裝有有機(jī)材料，對待鍍膜基板進(jìn)行加工。
[0067]更為進(jìn)一步地，本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，本實(shí)用新型提供一種線性蒸發(fā)源以及蒸鍍設(shè)備，其利用蒸鍍機(jī)現(xiàn)有線性蒸發(fā)源的設(shè)計(jì)，在坩鍋與坩鍋斷熱塊間加裝導(dǎo)向栓，達(dá)到坩鍋與線性蒸發(fā)源關(guān)連性的控管，其具有直接在機(jī)臺端做控管，防止因人員疏忽所造成的產(chǎn)品損失；避免材料混用造成污染；補(bǔ)強(qiáng)現(xiàn)行有機(jī)材料上機(jī)控管流程的漏洞等優(yōu)點(diǎn)。
[0068] 雖然本實(shí)用新型已以優(yōu)選實(shí)施例揭示如上，然而其并非用以限定本實(shí)用新型。本實(shí)用新型所屬【技術(shù)領(lǐng)域】的技術(shù)人員，在不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作各種的更動與修改。因此，本實(shí)用新型的保護(hù)范圍當(dāng)視權(quán)利要求書所界定的范圍為準(zhǔn)。
【權(quán)利要求】
1.一種線性蒸發(fā)源，包括:固定塊；坩鍋，所述坩鍋固定于所述固定塊之間，其內(nèi)部裝有有機(jī)材料，對待加工基板進(jìn)行鍍膜；坩鍋斷熱塊，所述坩鍋斷熱塊位于所述坩鍋的兩側(cè)；側(cè)蓋板，所述側(cè)蓋板位于所述坩鍋斷熱塊的外側(cè)；其特征在于，所述坩鍋斷熱塊上設(shè)有至少一個導(dǎo)向栓，所述坩鍋的側(cè)面設(shè)有與所述導(dǎo)向栓數(shù)量相同且位置對應(yīng)的鉆孔，運(yùn)行時，每根所述導(dǎo)向栓均插入相對應(yīng)的所述鉆孔內(nèi)，所述側(cè)蓋板裝于所述線性蒸發(fā)源的最外側(cè)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，兩側(cè)的所述坩鍋斷熱塊上各設(shè)有至少一個導(dǎo)向栓，且兩側(cè)的所述坩鍋斷熱塊上設(shè)置的導(dǎo)向栓的數(shù)量相同。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，兩側(cè)的所述坩鍋斷熱塊上設(shè)置的導(dǎo)向栓的位置沿所述坩鍋的中心線左右對稱。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，兩側(cè)的所述坩鍋斷熱塊上各設(shè)有一個導(dǎo)向栓，相應(yīng)地，所述坩鍋上與所述坩鍋斷熱塊對應(yīng)地設(shè)有一鉆孔。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，兩側(cè)的所述坩鍋斷熱塊上各設(shè)有兩個導(dǎo)向栓，兩個所述導(dǎo)向栓上下設(shè)置，相應(yīng)地，所述坩鍋上與所述坩鍋斷熱塊上兩個所述導(dǎo)向栓對應(yīng)地設(shè)有兩個鉆孔。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，每一側(cè)的兩個所述導(dǎo)向栓之間的距離為2_。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，每一側(cè)的兩個所述導(dǎo)向栓之間的距離為6_。
8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，兩側(cè)的所述坩鍋斷熱塊上各設(shè)有三個導(dǎo)向栓，三個導(dǎo)向栓上下設(shè)置，相應(yīng)地，所述坩鍋上與所述坩鍋斷熱塊上的三個所述導(dǎo)向栓對應(yīng)地設(shè)有三個鉆孔。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，每一側(cè)的兩個相鄰的所述導(dǎo)向栓之間的距離均為2mm。
10.根據(jù)權(quán)利要求2所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，兩側(cè)的所述坩鍋斷熱塊上設(shè)置的導(dǎo)向栓的位置不沿所述坩鍋的中心線左右對稱。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，兩側(cè)的所述坩鍋斷熱塊上各設(shè)有兩個導(dǎo)向栓，相應(yīng)地，所述坩鍋上與所述坩鍋斷熱塊上對應(yīng)地設(shè)有兩個鉆孔，其中，一側(cè)的兩個所述導(dǎo)向栓之間的距離為2mm，另一側(cè)的兩個導(dǎo)向栓之間的距離為6mm。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，兩側(cè)的所述坩鍋斷熱塊上設(shè)置的導(dǎo)向栓的數(shù)量不相同。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，一側(cè)的所述坩鍋斷熱塊上設(shè)置一個導(dǎo)向栓，另一側(cè)的所述坩鍋斷熱塊上設(shè)置兩個導(dǎo)向栓。
14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，一側(cè)的所述坩鍋斷熱塊上設(shè)置兩個導(dǎo)向栓，另一側(cè)的所述坩鍋斷熱塊上設(shè)置三個導(dǎo)向栓。
15.根據(jù)權(quán)利要求1至14中任一項(xiàng)所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，每個與所述鉆孔相對所述導(dǎo)向栓的縱截面的形狀為圓形、矩形、正方形、三角形、橢圓形或梯形中的任一種，相應(yīng)地，每個所述鉆孔的縱截面形狀與每個對應(yīng)的所述導(dǎo)向栓的縱截面形狀相同。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，每個與所述鉆孔相對的所述導(dǎo)向栓的縱截面的形狀均相同。
17.根據(jù)權(quán)利要求15所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，每個所述導(dǎo)向栓的長度相同。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，每個所述導(dǎo)向栓的長度為4mm，其深入所述坩鍋斷熱塊部分的長度為1mm，所述鉆孔的深度為3mm。
19.根據(jù)權(quán)利要求15所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，每個與所述鉆孔相對所述導(dǎo)向栓的縱截面的面積都相同。
20.一種蒸鍍設(shè)備，其包括: 腔體； 鍍膜傘架，所述鍍膜傘架位于所述腔體的頂部，固定待鍍膜的基板； 其特征在于，還包括: 根據(jù)權(quán)利I至19中任一項(xiàng)所述的線性蒸發(fā)源，所述線性蒸發(fā)源位于所述鍍膜傘架的下方，其裝有有機(jī)材料，對待鍍`膜基板進(jìn)行加工。
【文檔編號】C23C14/24GK203546136SQ201320636959
【公開日】2014年4月16日 申請日期:2013年10月15日 優(yōu)先權(quán)日:2013年10月15日
【發(fā)明者】蘇志瑋, 王演隆 申請人:上海和輝光電有限公司