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用于研磨拋光設備上的配重裝置制造方法

文檔序號:3301762閱讀:171來源:國知局
用于研磨拋光設備上的配重裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種用于研磨拋光設備上的配重裝置,包括上定盤和下定盤;所述的上定盤的上表面上安裝有至少三條滑道,每條滑道上都匹配有可以在滑道上移動的配重塊;配重塊上設置有一個或兩個以上的螺孔和與螺孔匹配的限位螺釘,配重塊通過限位螺釘與滑道限位。本實用新型與現(xiàn)有技術相比,具有以下優(yōu)點和效果:增加這個配重裝置后,可以通過配重塊在滑軌上滑動來微調(diào)上定盤的重心,待測定好上定盤與下定盤各個位置的距離均相等后,讓上定盤落下,此時可保證整個上定盤的盤面與下定盤的盤面同時接觸,從而不會損傷被加工件,提高了材料利用率,節(jié)約成本。
【專利說明】用于研磨拋光設備上的配重裝置
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種調(diào)節(jié)裝置,具體為一種用于研磨拋光設備上的配重裝置,屬于研磨拋光設備【技術領域】。
【背景技術】
[0002]研磨拋光設備廣泛應用于1C、IT行業(yè)中如碳化硅、蘭寶石、壓電晶體、壓電陶瓷、鑰片、半導體芯片、硅片以及光學光電子、液晶顯示及LED、手機配件(金屬、玻璃)、記憶硬盤、金屬加工制造等硬脆易碎材料的研磨和拋光。
[0003]通常的研磨拋光設備一般包括包括操作面板,收容控制電路、多個驅(qū)動電機和減速機的機柜,機柜頂部為與驅(qū)動電機輸出軸傳動連接的水平下定盤,機柜的兩側(cè)設置有支撐柱,支撐柱的上方為水平的橫梁;所述的橫梁上豎直固定有主氣缸,主氣缸頂桿在橫梁的下方做豎直方向移動,主氣缸頂桿端部為副氣缸,副氣缸頂桿端部與上定盤上方安裝的上盤懸吊板剛性連接,上盤懸吊板與上定盤之間通過定盤支柱固定和連接。
[0004]目前常用的研磨拋光設備在運行過程中,緩慢放下上定盤部時,上定盤會因為自身原因,盤面會傾斜著落下,與下定盤的盤面不平行。這樣極易損壞被加工件,增加了產(chǎn)品的損耗量,降低了資源利用率。
實用新型內(nèi)容
[0005]本實用新型提供一種結(jié)構(gòu)設計合理,使用方便的用于研磨拋光設備上的配重裝置。以克服現(xiàn)有技術中存在的上述不足。
[0006]本實用新型的目的是通過以下技術方案來實現(xiàn)的:
[0007]用于研磨拋光設備上的配重裝置,包括上定盤和下定盤;所述的上定盤的上表面上安裝有至少三條滑道,每條滑道上都匹配有可以在滑道上移動的配重塊;配重塊上設置有一個或兩個以上的螺孔和與螺孔匹配的限位螺釘,配重塊通過限位螺釘與滑道限位。
[0008]所述的滑道為線性軌道,并且大小相同,均勻分布于上定盤上。
[0009]更進一步地,所述的線性滑道繞上定盤的軸心呈徑向排布。
[0010]本實用新型與現(xiàn)有技術相比,具有以下優(yōu)點和效果:增加這個配重裝置后,可以通過配重塊在滑軌上滑動來微調(diào)上定盤的重心,待測定好上定盤與下定盤各個位置的距離均相等后,讓上定盤落下,此時可保證整個上定盤的盤面與下定盤的盤面同時接觸,從而不會損傷被加工件,提高了材料利用率,節(jié)約成本。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0011]圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖;(圖中省略了其他未改進的部位)
[0012]圖中:1、上定盤2、下定盤3、滑軌4、配重塊5、限位螺釘。
【具體實施方式】[0013]下面結(jié)合附圖與具體實施例進一步闡述本實用新型的結(jié)構(gòu)特點:
[0014]如圖1所示,用于研磨拋光設備上的配重裝置,包括上定盤I和下定盤2 ;所述的上定盤I的上表面上安裝有至少三條滑道3,每條滑道3上都匹配有可以在滑道3上移動的配重塊4 ;配重塊4上設置有一個或兩個以上的螺孔和與螺孔匹配的限位螺釘5,配重塊4通過限位螺釘5與滑道3限位。
[0015]所述的滑道3為線性軌道,并且大小相同,均勻分布于上定盤I上。
[0016]更進一步地,所述的線性滑道3繞上定盤I的軸心呈徑向排布。
[0017]使用時,先通過配重塊4在滑軌3上滑動來微調(diào)上定盤I的重心,待測定好上定盤I與下定盤2各個位置的距離均相等后,旋緊限位螺釘5。此時再讓上定盤I落下,這樣可保證整個上定盤I的盤面與下定盤2的盤面同時接觸,不會損傷被加工件,提高了材料利用率,節(jié)約成本。
【權(quán)利要求】
1.用于研磨拋光設備上的配重裝置,包括上定盤和下定盤;其特征在于:所述的上定盤的上表面上安裝有至少三條滑道,每條滑道上都匹配有可以在滑道上移動的配重塊;配重塊上設置有一個或兩個以上的螺孔和與螺孔匹配的限位螺釘,配重塊通過限位螺釘與滑道限位。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于研磨拋光設備上的配重裝置,其特征在于:所述的滑道為線性軌道,并且大小相同,均勻分布于上定盤上。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于研磨拋光設備上的配重裝置,其特征在于:所述的線性滑道繞上定盤的軸心呈徑向排布。
【文檔編號】B24B37/34GK203418419SQ201320507861
【公開日】2014年2月5日 申請日期:2013年8月19日 優(yōu)先權(quán)日:2013年8月19日
【發(fā)明者】石會會 申請人:浙江森永光電設備有限公司
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