提高氧化焙燒球團(tuán)強(qiáng)度的實(shí)驗(yàn)裝置制造方法
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種提高氧化焙燒球團(tuán)強(qiáng)度的實(shí)驗(yàn)裝置，包括球盤(pán)，所述球盤(pán)的盤(pán)底開(kāi)有氣孔。利用本實(shí)用新型，能夠使氧氣從氣孔進(jìn)入球堆內(nèi)部，使得球堆表面和內(nèi)部的球團(tuán)指標(biāo)差值顯著減小，與現(xiàn)場(chǎng)生產(chǎn)數(shù)據(jù)比較接近，保證了實(shí)驗(yàn)室數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性和代表性，對(duì)指導(dǎo)現(xiàn)場(chǎng)生產(chǎn)具有重要意義。
【專(zhuān)利說(shuō)明】提高氧化焙燒球團(tuán)強(qiáng)度的實(shí)驗(yàn)裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種實(shí)驗(yàn)裝置，具體說(shuō)，涉及一種提高氧化焙燒球團(tuán)強(qiáng)度的實(shí)驗(yàn)
>J-U ρ?α裝直。
【背景技術(shù)】
[0002]在實(shí)驗(yàn)室制備氧化球團(tuán)過(guò)程中，待焙燒的預(yù)熱球堆放在球盤(pán)上，由于待焙燒的預(yù)熱球堆放在球盤(pán)上，焙燒過(guò)程中通入的氧氣僅僅可以將球堆表面球中的Fe3O4氧化成為Fe203。球堆表面球在1250~1280°C的焙燒溫度下焙燒10~15min，使Fe2O3再結(jié)晶逐漸完善，球團(tuán)能夠達(dá)到所要求的強(qiáng)度。
[0003]球堆內(nèi)部的球由于與氧氣的接觸條件差，造成了局部弱氧化性氣氛，從而導(dǎo)致Fe3O4氧化不完全，殘存較多的Fe3O4，再結(jié)晶不完全，最終使球堆內(nèi)部球團(tuán)比球堆表面球團(tuán)強(qiáng)度差，造成了實(shí)驗(yàn)結(jié)果不均勻，影響了實(shí)驗(yàn)結(jié)果的準(zhǔn)確性。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0004]本實(shí)用新型所解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種提高氧化焙燒球團(tuán)強(qiáng)度的實(shí)驗(yàn)裝置，能夠使氧氣從氣孔進(jìn)入球堆內(nèi)部，使球堆內(nèi)部和表面球團(tuán)指標(biāo)達(dá)到一致。
[0005]技術(shù)方案如下:
[0006]一種提高氧化焙燒球`團(tuán)強(qiáng)度的實(shí)驗(yàn)裝置，包括球盤(pán)，所述球盤(pán)的盤(pán)底開(kāi)有氣孔。
[0007]進(jìn)一步:所述球盤(pán)包括盤(pán)邊、氣孔和盤(pán)底，所述盤(pán)邊設(shè)置在所述盤(pán)底的四個(gè)邊沿處，所述氣孔開(kāi)在所述盤(pán)底上。
[0008]進(jìn)一步:所述盤(pán)底上開(kāi)有5個(gè)氣孔，所述氣孔均勻分布于所述盤(pán)底的四個(gè)角和中心。
[0009]進(jìn)一步:所述氣孔的直徑為10mm。
[0010]進(jìn)一步:所述盤(pán)底為寬度100mm、厚度IOmm的四邊形結(jié)構(gòu)，所述盤(pán)邊的高度是30mmo
[0011]進(jìn)一步:所述盤(pán)底下部?jī)蓚?cè)墊有厚度為20mm的磚塊。
[0012]技術(shù)效果包括:
[0013]1、利用本實(shí)用新型，能夠使氧氣從氣孔進(jìn)入球堆內(nèi)部，從而達(dá)到球堆內(nèi)部和表面球團(tuán)指標(biāo)一致的目的。
[0014]2、本實(shí)用新型的使用，使得球堆表面和內(nèi)部的球團(tuán)指標(biāo)差值顯著減小，與現(xiàn)場(chǎng)生產(chǎn)數(shù)據(jù)比較接近，保證了實(shí)驗(yàn)室數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性和代表性，對(duì)指導(dǎo)現(xiàn)場(chǎng)生產(chǎn)具有重要意義。
【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0015]圖1是本實(shí)用新型中氣孔在球盤(pán)底部的分布示意圖；
[0016]圖2是本實(shí)用新型中球盤(pán)沿A-A向的剖面圖；
[0017]圖3是本實(shí)用新型中球盤(pán)的使用狀態(tài)圖?！揪唧w實(shí)施方式】
[0018]下面參考附圖和優(yōu)選實(shí)施例，對(duì)本實(shí)用新型技術(shù)方案作詳細(xì)說(shuō)明。
[0019]如圖1所示，是本實(shí)用新型中氣孔在球盤(pán)底部的分布示意圖；如圖2所示，是本實(shí)用新型中球盤(pán)沿A-A向的剖面圖。
[0020]球盤(pán)的結(jié)構(gòu)包括:盤(pán)邊1、氣孔2、盤(pán)底3 ;盤(pán)底3為寬度100mm、厚度IOmm的四邊形結(jié)構(gòu)，盤(pán)邊I設(shè)置在盤(pán)底3的四個(gè)邊沿處，氣孔2開(kāi)在盤(pán)底3上。盤(pán)邊I的高度是30mm。
[0021]本優(yōu)選實(shí)施例中，盤(pán)底3上開(kāi)有5個(gè)直徑大小為IOmm的氣孔2,氣孔2均勻地分布于盤(pán)底3的四個(gè)角和中心。
[0022]如圖3所示，是本實(shí)用新型中球盤(pán)的使用狀態(tài)圖。
[0023]將精礦、皂土按照試驗(yàn)要求進(jìn)行配料，充分混勻后在Φ 1000mm造球盤(pán)上造球，生球粒徑為10~16_。將生球裝入焙燒用球盤(pán)。生球經(jīng)干燥、預(yù)熱后放入焙燒爐，焙燒溫度設(shè)定為1280°C，焙燒時(shí)間lOmin，通氧氣流量為10L/min，焙燒后對(duì)球團(tuán)進(jìn)行檢測(cè)分析，得出球團(tuán)FeO含量與抗壓強(qiáng)度等指標(biāo)。
[0024]放置球盤(pán)時(shí)，在盤(pán)底3下部?jī)蓚?cè)用20mm厚的磚塊5將球盤(pán)墊高，使盤(pán)底3脫離焙燒爐爐體，從而使焙燒過(guò)程中氧氣能夠從盤(pán)底3的氣孔2進(jìn)入球堆4的內(nèi)部，達(dá)到提高球堆4內(nèi)部球團(tuán)強(qiáng)度的目的，使球堆4的內(nèi)部和表面球團(tuán)的指標(biāo)和性能保持一致，保證實(shí)驗(yàn)結(jié)果的準(zhǔn)確性和代表性。
[0025]表1現(xiàn)有技術(shù)的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)
`[0026]
【權(quán)利要求】
1.一種提高氧化焙燒球團(tuán)強(qiáng)度的實(shí)驗(yàn)裝置，包括球盤(pán)，其特征在于:所述球盤(pán)的盤(pán)底開(kāi)有氣孔。
2.如權(quán)利要求1所述提高氧化焙燒球團(tuán)強(qiáng)度的實(shí)驗(yàn)裝置，其特征在于:所述球盤(pán)包括盤(pán)邊、氣孔和盤(pán)底，所述盤(pán)邊設(shè)置在所述盤(pán)底的四個(gè)邊沿處，所述氣孔開(kāi)在所述盤(pán)底上。
3.如權(quán)利要求2所述提高氧化焙燒球團(tuán)強(qiáng)度的實(shí)驗(yàn)裝置，其特征在于:所述盤(pán)底上開(kāi)有5個(gè)氣孔，所述氣孔均勻分布于所述盤(pán)底的四個(gè)角和中心。
4.如權(quán)利要求3所述提高氧化焙燒球團(tuán)強(qiáng)度的實(shí)驗(yàn)裝置，其特征在于:所述氣孔的直徑為10mm。
5.如權(quán)利要求3所述提高氧化焙燒球團(tuán)強(qiáng)度的實(shí)驗(yàn)裝置，其特征在于:所述盤(pán)底為寬度100mm、厚度IOmm的四邊形結(jié)構(gòu),所述盤(pán)邊的高度是30mm。
6.如權(quán)利要求3所述提高氧化焙燒球團(tuán)強(qiáng)度的實(shí)驗(yàn)裝置，其特征在于:所述盤(pán)底下部?jī)蓚?cè)墊有厚度為20mm的磚塊。
【文檔編號(hào)】C22B1/02GK203625448SQ201320498946
【公開(kāi)日】2014年6月4日 申請(qǐng)日期:2013年8月15日 優(yōu)先權(quán)日:2013年8月15日
【發(fā)明者】李玉柱, 鄔虎林, 呂志義, 白曉光, 劉周利, 付國(guó)偉, 張永, 孫睿 申請(qǐng)人:內(nèi)蒙古包鋼鋼聯(lián)股份有限公司