一種坩堝氣相沉積組件的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種坩堝氣相沉積組件,包括坩堝和安放平臺,所述坩堝倒扣于安放平臺上,所述安放平臺上設(shè)有均勻分布的氣孔,所述坩堝氣相沉積組件還包括至少一根的導(dǎo)氣管,所述導(dǎo)氣管的端部穿過安放平臺延伸至坩堝內(nèi)腔的中上部,所述導(dǎo)氣管的尾部與氣相沉積爐的進氣管相連。本實用新型所述的坩堝氣相沉積組件,結(jié)構(gòu)簡單,導(dǎo)氣管的設(shè)置不但提高了沉積效率,而且可以克服了沉積過程中表面封孔和內(nèi)部沉積不致密的缺陷。
【專利說明】一種坩堝氣相沉積組件
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種沉積組件,具體涉及一種用于化學(xué)氣相沉積爐的坩堝氣相沉積組件。
【背景技術(shù)】
[0002]壓差法及熱梯度法作為兩種常用的化學(xué)氣相沉積方法,被廣泛應(yīng)用于坩堝化學(xué)氣相沉積中,然而,采用壓差法一般只適合于面積較大的薄壁制品,且由于沉積過程中,預(yù)制體表面氣體濃度高于內(nèi)部,會導(dǎo)致表面封孔和密度不均勻的現(xiàn)象產(chǎn)生,導(dǎo)致沉積提前結(jié)束。而采用熱梯度法,雖然避免了預(yù)制體表面結(jié)殼,但是隨著沉積過程的進行,輻射到預(yù)制體外表面的熱量增多,熱梯度減小,導(dǎo)致制品的密度和組織結(jié)構(gòu)不均勻,最后制作出來的坩堝內(nèi)部增密效果差,機械性能達不到使用要求。
實用新型內(nèi)容
[0003]本實用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種結(jié)構(gòu)簡單、沉積效率高的坩堝氣相沉積組件。
[0004]為實現(xiàn)上述目的,本實用新型通過以下技術(shù)方案實現(xiàn):
[0005]一種坩堝氣相沉積組件,包括坩堝和安放平臺,所述坩堝倒扣于安放平臺上,所述安放平臺上設(shè)有均勻分布的氣孔,所述坩堝氣相沉積組件還包括至少為一根導(dǎo)氣管,所述導(dǎo)氣管的端部穿過安放平臺延伸至坩堝內(nèi)腔的中上部,所述導(dǎo)氣管的尾部與氣相沉積爐的進氣管相連。
[0006]優(yōu)選的是:所述安放平臺為碳碳板材或石墨板材。
[0007]優(yōu)選的是:所述導(dǎo)氣管為2根。
[0008]優(yōu)選的是:所述導(dǎo)氣管為“Y”型。
[0009]相對于現(xiàn)有技術(shù),本實用新型的有益效果在于,在安放平臺上設(shè)置了通往坩堝內(nèi)腔的導(dǎo)氣管,且導(dǎo)氣管的另一端與化學(xué)氣相沉積爐的進氣管相連,使得導(dǎo)氣管能不斷地給坩堝內(nèi)腔空間送氣,形成爐腔和坩堝內(nèi)腔壓差,而碳源氣體通過坩堝壁上的氣孔和安裝平臺上的氣孔滲透到沉積爐腔,這符合了壓差法CVI的技術(shù)條件,有利于提高沉積效果,而且氣相沉積爐內(nèi)的溫度通過輻射的傳導(dǎo)方式,傳遞到坩堝上,使坩堝內(nèi)外表面都溫度升高,但是,不斷通入的碳源氣體有對坩堝內(nèi)表面降溫的作用,使得坩堝實際外表面溫度高于內(nèi)表面溫度,從而在坩堝壁上形成溫度差,這又符合了熱梯度CVI的技術(shù)條件,對沉積有益,不但進一步提高了沉積效率,而且可以克服了沉積過程中出現(xiàn)的表面封孔和內(nèi)部沉積不致密的缺陷。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0010]圖1示出了本實用新型所述坩堝氣相沉積組件的結(jié)構(gòu)示意圖?!揪唧w實施方式】
[0011]下面結(jié)合附圖對本實用新型的【具體實施方式】做進ー步說明。
[0012]如附圖1所示,本實用新型所述的坩堝氣相沉積組件,包括坩堝I和安放平臺2,所述坩堝I倒扣于安放平臺2上,所述安放平臺2上設(shè)有均勻分布的氣孔21,在沉積過程中,坩堝I內(nèi)腔的氣體可通過氣孔21滲透到沉積爐腔中,以減小坩堝I內(nèi)腔與沉積爐腔的壓差。本實施例中,所述安放平臺2可采用碳碳板材或石墨板材。本實用新型所述的坩堝氣相沉積組件,還包括若干根導(dǎo)氣管3,所述導(dǎo)氣管3的端部31穿過安放平臺2上延伸至坩堝I內(nèi)腔的中上部,所述導(dǎo)氣管3的尾部與氣相沉積爐的進氣管(圖中未示出)相連,本實施例中,所述的導(dǎo)氣管設(shè)置為2根,且作為一個優(yōu)選的實施方式,所述導(dǎo)氣管3為“Y”型,其端部31的“V”型結(jié)構(gòu)進一步擴大了從導(dǎo)氣管3出來的氣體與坩堝I內(nèi)腔的接觸面積,以利于提升沉積的致密性。
[0013]綜上所述僅為本實用新型較佳的實施例,并非用來限定本實用新型的實施范圍。即凡依本實用新型申請專利范圍的內(nèi)容所作的等效變化及修飾,皆應(yīng)屬于本實用新型的技術(shù)范疇。
【權(quán)利要求】
1.一種坩堝氣相沉積組件,其特征在于:包括坩堝和安放平臺,所述坩堝倒扣于安放平臺上,所述安放平臺上設(shè)有均勻分布的氣孔,所述坩堝氣相沉積組件還包括至少一根的導(dǎo)氣管,所述導(dǎo)氣管的端部穿過安放平臺延伸至坩堝內(nèi)腔的中上部,所述導(dǎo)氣管的尾部與氣相沉積爐的進氣管相連。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的坩堝氣相沉積組件,其特征在于:所述安放平臺為碳碳板材或石墨板材。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的坩堝氣相沉積組件,其特征在于:所述導(dǎo)氣管為2根。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的坩堝氣相沉積組件,其特征在于:所述導(dǎo)氣管為“Y”型。
【文檔編號】C23C16/455GK203411609SQ201320475408
【公開日】2014年1月29日 申請日期:2013年8月5日 優(yōu)先權(quán)日:2013年8月5日
【發(fā)明者】李恒文, 楊水萍, 張開祥, 龍禮妹 申請人:東莞市凱鵬復(fù)合材料有限公司