一種真空鍍膜加熱裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種真空鍍膜加熱裝置，包括上層加熱模塊、中層加熱模塊和下層加熱模塊，其特征在于，所述上層加熱模塊包括第一加熱絲，所述中層加熱模塊包括第二加熱絲、第三加熱絲和第四加熱絲，所述下層加熱模塊包括第五加熱絲，所述第一加熱絲、所述第二加熱絲、所述第三加熱絲、所述第四加熱絲和所述第五加熱絲上均設(shè)置有熱電偶。本發(fā)明的真空鍍膜加熱裝置，通過提高加熱絲的加熱效率，從而提高產(chǎn)品的生產(chǎn)效率，降低了加熱絲異常帶來的產(chǎn)品品質(zhì)問題,從而提高產(chǎn)品良率；此外，可以使加熱的溫度保持得非常均勻，使得工藝更穩(wěn)定。
【專利說明】一種真空鍍膜加熱裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及真空鍍膜【技術(shù)領(lǐng)域】，特別涉及一種真空鍍膜加熱裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]真空鍍膜加熱模塊是在真空箱體的門板內(nèi)或箱體邊沿內(nèi)安裝加熱模塊，溫度通過熱輻射的方式到基板上，使之達(dá)到相應(yīng)溫度從而滿足產(chǎn)品的性能要求?，F(xiàn)有真空鍍膜裝置采用上中下三層加熱絲的設(shè)計，每層加熱絲有單獨熱電偶測溫，這樣可以調(diào)節(jié)上中下層的溫度來滿足不同工藝的需要，雖然此技術(shù)能夠達(dá)到產(chǎn)品質(zhì)量的保證，但是無法避免在生產(chǎn)過程中加熱絲出現(xiàn)異常的情況所造成的損失。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明提出一種真空鍍膜加熱裝置，通過提高加熱絲的加熱效率，從而提高產(chǎn)品的生產(chǎn)效率，降低了加熱絲異常帶來的產(chǎn)品品質(zhì)問題，從而提高產(chǎn)品良率。本發(fā)明所采用的技術(shù)方案具體是這樣實現(xiàn)的:
本發(fā)明提供了一種真空鍍膜加熱裝置，包括上層加熱模塊、中層加熱模塊和下層加熱模塊，所述上層加熱模塊包括第一加熱絲，所述中層加熱模塊包括第二加熱絲、第三加熱絲和第四加熱絲，所述下層加熱模塊包括第五加熱絲，所述第一加熱絲、所述第二加熱絲、所述第三加熱絲、所述第四加熱絲和所述第五加熱絲上均設(shè)置有熱電偶。
[0004]優(yōu)選地，所述第二加熱絲、所述第三加熱絲和所述第四加熱絲縱向排列。
[0005]優(yōu)選地，所述第二加熱絲、所述第三加熱絲和所述第四加熱絲橫向排列。
[0006]本發(fā)明的真空鍍膜加熱`裝置，通過提高加熱絲的加熱效率，從而提高產(chǎn)品的生產(chǎn)效率，降低了加熱絲異常帶來的產(chǎn)品品質(zhì)問題，從而提高產(chǎn)品良率；此外，可以使加熱的溫度保持得非常均勻，使得工藝更穩(wěn)定；便于維護(hù)與保養(yǎng)，從而縮短維護(hù)時間，提高了產(chǎn)量；加熱絲的壽命大大提高，從而節(jié)約成本。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0007]圖1是本發(fā)明具體實施例的真空鍍膜加熱裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0008]為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點能夠更加明顯易懂，下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的【具體實施方式】做詳細(xì)的說明，使本發(fā)明的上述及其它目的、特征和優(yōu)勢將更加清晰。在全部附圖中相同的附圖標(biāo)記指示相同的部分。并未刻意按比例繪制附圖，重點在于示出本發(fā)明的主旨。
[0009]圖1是本發(fā)明具體實施例的真空鍍膜加熱裝置的結(jié)構(gòu)圖，如圖1所示，本發(fā)明具體實施例的真空鍍膜加熱裝置其包括:上層加熱模塊10、中層加熱模塊20和下層加熱模塊30，上層加熱模塊10包括第一加熱絲1，中層加熱模塊20包括第二加熱絲2、第三加熱絲3和第四加熱絲4，下層加熱模塊30包括第五加熱絲5，第一加熱絲1、第二加熱絲2、第三加熱絲3、第四加熱絲4和第五加熱絲5上均設(shè)置有熱電偶40。
[0010]本發(fā)明中，第二加熱絲2、第三加熱絲3和第四加熱絲4縱向排列或橫向排列。
[0011]本發(fā)明的真空鍍膜加熱裝置，通過提高加熱絲的加熱效率，從而提高產(chǎn)品的生產(chǎn)效率，降低了加熱絲異常帶來的產(chǎn)品品質(zhì)問題，從而提高產(chǎn)品良率；此外，可以使加熱的溫度保持得非常均勻，使得工藝更穩(wěn)定；便于維護(hù)與保養(yǎng)，從而縮短維護(hù)時間，提高了產(chǎn)量；加熱絲的壽命大大提高，從而節(jié)約成本。
[0012]在以上的描述中闡述了很多具體細(xì)節(jié)以便于充分理解本發(fā)明。但是以上描述僅是本發(fā)明的較佳實施例而已，本發(fā)明能夠以很多不同于在此描述的其它方式來實施，因此本發(fā)明不受上面公開的具體實施的限制。同時任何熟悉本領(lǐng)域技術(shù)人員在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案范圍情況下，都可利用上述揭示的方法和技術(shù)內(nèi)容對本發(fā)明技術(shù)方案做出許多可能的變動和修飾，或修改為等同變化的等效實施例。凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本發(fā)明的技術(shù) 實質(zhì)對以上實施例所做的任何簡單修改、等同變化及修飾，均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案保護(hù)的范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種真空鍍膜加熱裝置，包括上層加熱模塊、中層加熱模塊和下層加熱模塊，其特征在于，所述上層加熱模塊包括第一加熱絲，所述中層加熱模塊包括第二加熱絲、第三加熱絲和第四加熱絲，所述下層加熱模塊包括第五加熱絲，所述第一加熱絲、所述第二加熱絲、所述第三加熱絲、所述第四加熱絲和所述第五加熱絲上均設(shè)置有熱電偶。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空鍍膜加熱裝置，其特征在于，所述第二加熱絲、所述第三加熱絲和所述第四加熱絲縱向排列。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空鍍膜加熱裝置，其特征在于，所述第二加熱絲、所述第三加熱絲和所述第四加 熱絲橫向排列。
【文檔編號】C23C14/00GK103710664SQ201310734315
【公開日】2014年4月9日 申請日期:2013年12月27日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月27日
【發(fā)明者】王進(jìn)東 申請人:江蘇宇天港玻新材料有限公司