濺射靶和濺射方法
【專利摘要】本公開涉及濺射靶和濺射方法。特定而言，描述濺射靶和對(duì)于高度均勻的濺射沉積使用常規(guī)濺射靶以及本文中描述的濺射靶的濺射方法。
【專利說明】濺射靶和濺射方法
[0001]相關(guān)申請(qǐng)案的交叉引用
[0002]本申請(qǐng)根據(jù)35U.S.C.§ 119(e)要求2011年6月30日提交的美國臨時(shí)申請(qǐng)第61 / 503，547號(hào)的優(yōu)先權(quán)權(quán)利，其以引用的方式并入本文中。
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0003]本公開涉及濺射靶。特定而言，描述濺射靶和對(duì)于高度均勻的濺射沉積使用常規(guī)濺射靶以及本文中描述的濺射靶的濺射方法。
[0004]發(fā)明背景
[0005]濺射是用高能粒子連續(xù)轟擊固體靶材料的過程，且結(jié)果，靶材料的原子被從靶逐出。濺射通常在許多高科技應(yīng)用中用于薄膜沉積。通常，使用氬等離子體來從靶濺射材料，且將所述材料沉積 到基板上。
[0006]隨著濺射技術(shù)的改進(jìn)，許多工業(yè)正朝其上實(shí)行薄膜沉積的更大面積的基板發(fā)展。例如，在半導(dǎo)體工業(yè)中，處理更大的半導(dǎo)體晶片基板提供用于制造計(jì)算機(jī)芯片和相關(guān)電路設(shè)備的更高的裸芯片產(chǎn)量。在另一實(shí)例中，薄膜涂層對(duì)于具有高科技涂層的太陽能電池和窗戶使用于大幅面的玻璃基板上，如由玻璃或其它透明基板上沉積的材料堆制成的用于制造電致變色(EC)窗戶的電致變色設(shè)備。許多這些應(yīng)用需要高度均勻的涂層，以制造表現(xiàn)良好的太陽能設(shè)備或電致變色設(shè)備。隨著技術(shù)發(fā)展，這種涂層變得越來越薄，且因此構(gòu)成這些涂層的層的均勻性必須相應(yīng)地更高。
[0007]濺射沉積層的非均勻性隨著使用更大的基板變得更是問題，因?yàn)橐砸恢碌母呔鶆蛐酝坎驾^大區(qū)域是個(gè)挑戰(zhàn)。例如，沉積材料的形態(tài)、覆蓋度和/或厚度在基板的不同區(qū)域中可能不同。這些變化可能是由于等離子體密度上的對(duì)應(yīng)變化，其在一些情況中可能與濺射靶中的非均勻性和/或使用分區(qū)的濺射靶相關(guān)。
發(fā)明概要
[0008]本文中描述的實(shí)施方案包括派射祀和派射方法。一個(gè)實(shí)施方案是一種派射革巴總成，其包括:(a)背部支撐件；和(b)在所述背部支撐件上組裝的兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)，所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)的組裝界定靶區(qū)域，其包括在所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)之間的至少一個(gè)間隙或接縫。所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)被構(gòu)造使得從背部支撐件到兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)的前面在垂直于背部支撐件的表面的方向上，在任何兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)之間沒有視線。即，從直接看(垂直于平行于濺射靶和/或基板的平面，因?yàn)槠湓跒R射期間是大體上平行的)濺射靶總成的視角而言，其上執(zhí)行濺射沉積的基板隨著其經(jīng)過濺射靶總成而無法“看到”背部支撐件。在一些實(shí)施方案中，背部支撐件可以是背部板(例如，對(duì)于平面濺射靶總成)或背部管(例如，對(duì)于圓柱形濺射靶總成)。在各種實(shí)施方案中，兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)被構(gòu)造使得其不彼此物理接觸，但是具有重疊邊緣區(qū)，其防止從垂直于背部支撐件和/或基板和/或?yàn)R射靶分區(qū)的濺射表面的方向的視線。在某些實(shí)施方案中，在兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)之間從垂直于濺射表面的平面或垂直于圓柱形靶總成的縱軸的平面中的任何角度到背部支撐件都沒有視線。
[0009]各種實(shí)施方案包括具有兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)的濺射靶總成，所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)包括用于濺射沉積鎳鎢氧化物的材料。這種材料可包括鎳鎢合金和/或燒結(jié)的鎳鎢復(fù)合物。
[0010]某些實(shí)施方案包括將材料濺射沉積到基板上的方法。一個(gè)這種實(shí)施方案是一種當(dāng)使用包括兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)的濺射靶總成時(shí)將材料濺射沉積到基板上的方法，所述方法包括:(a)將所述基板提供于濺射腔中；和(b)當(dāng)將所述材料濺射到所述基板的工作表面上時(shí)將所述基板傳遞經(jīng)過所述濺射靶總成；其中所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)被構(gòu)造使得所述基板的大體上所有工作表面以與濺射沉積期間濺射靶表面區(qū)域與兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)(基板被暴露到所述濺射靶分區(qū))之間的任何非濺射靶區(qū)域和/或接縫的相同比率被暴露。
[0011]另一實(shí)施方案是一種當(dāng)使用包括兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)的濺射靶總成時(shí)將材料濺射沉積到基板上的方法，所述方法包括:(a)將所述基板提供于濺射腔中；和(b)當(dāng)將所述材料濺射到所述基板的工作表面上時(shí)將所述基板傳遞經(jīng)過所述濺射靶總成。所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)被構(gòu)造使得基板的大體上所有工作表面以與濺射沉積期間構(gòu)成濺射靶總成的靶區(qū)域的輻射率范圍相同比率的輻射率被暴露。
[0012]另一實(shí)施方案是一種當(dāng)使用包括兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)的濺射靶總成時(shí)將材料濺射沉積到基板上的方法，所述方法包括:(a)將所述基板提供于濺射腔中；和(b)當(dāng)將所述材料濺射到所述基板的工作表面上時(shí)將所述基板傳遞經(jīng)過所述濺射靶總成。所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)配置在背部支撐件上，且濺射靶總成的靶區(qū)域中的背部支撐件的任何暴露的區(qū)域用具有與兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)大體上相同輻射率的材料涂布，使得基板的工作表面以與兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)和背部支撐件的暴露區(qū)域大體上相同的輻射率被暴露。
[0013]如所描述的濺射總成可使用于本文中描述的方法中。這些和其它實(shí)施方案在下文中更詳細(xì)地描述。
[0014]附圖簡述
[0015]圖1A和圖1B是濺射靶總成的透視圖。
[0016]圖1C是關(guān)于圖1A和圖1B所描述的濺射靶總成的側(cè)視圖的截面。
[0017]圖2A是濺射靶總成的透視圖。
[0018]圖2B是關(guān)于圖2A所描述的濺射靶總成的側(cè)視圖的截面。
[0019]圖3A描繪許多濺射靶總成的側(cè)視圖的截面。
[0020]圖3B是圓柱形濺射靶總成的透視圖。
[0021 ] 圖4A至圖4H是各種濺射靶總成的透視圖。
[0022]圖5A和圖5B是圓柱形濺射靶總成的透視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0023] 濺射沉積中的非均勻性
[0024]濺射沉積的材料中的非均勻性可以許多方式出現(xiàn)。例如，濺射沉積材料中的非均勻性可源自濺射靶的表面中的非均勻性，濺射靶周圍的區(qū)域和或?yàn)R射靶的各個(gè)分區(qū)(如果所述靶包括這種分區(qū))中形成的寄生等離子體，構(gòu)成濺射靶的材料中的非均勻性，等等。雖然這些都是重要的考慮因素，但是出于本描述的目的，由于暴露到包括構(gòu)成濺射靶總成的兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)的濺射靶總成，主要重點(diǎn)在于濺射沉積材料中的非均勻性。明確而言，這些濺射靶分區(qū)通常在背部支撐件上組裝，其中靶的各個(gè)分區(qū)之間具有一些分離，因?yàn)橥ǔ＞哂性试S容易安裝靶分區(qū)的一些公差。即使靶分區(qū)鄰接在一起，在靶分區(qū)匯合的濺射靶表面中也可具有一些非均勻性。因此，濺射靶之間的這些接縫(無論是小間隙或沒有間隙)建立了相對(duì)于以納米厚數(shù)量級(jí)的濺射涂層的均勻性需求而言可能不完全或非高度均勻的靶區(qū)域。
[0025]本文中的實(shí)施方案按照電致變色(EC)窗戶技術(shù)來描述，例如，從濺射靶總成將材料濺射沉積到玻璃基板上，其可以具有已經(jīng)沉積于其上的一層或多層，以在玻璃基板上形成EC設(shè)備的層。這僅是為方便起見。本文中描述的實(shí)施方案不限于任何特定設(shè)備技術(shù)或基板；相反，本文中描述的實(shí)施方案可應(yīng)用于期望高度均勻沉積所濺射材料的任何濺射沉積工藝。為了理解由本文中描述的實(shí)施方案所解決的一些問題，在圖1A至圖1C中示出典型濺射靶總成的描述。
[0026]圖1A以透視圖描繪具有背部板100的典型(平面)濺射靶總成110，許多濺射靶段(或塊)105附接到所述背部板100。在本實(shí)例中，四個(gè)濺射靶段105粘附或以其它方式組裝于背部板100上。背部板100通常被栓到或以其它方式粘附到陰極(未示出)。在某些實(shí)施方案中，背部支撐件也用作陰極和/或是陰極的部分。在一個(gè)實(shí)例中，濺射靶段可以是鎳鎢合金或鎳鎢燒結(jié)的材料，通過在存在氧氣時(shí)濺射靶而用于濺射(例如)鎳鎢氧化物。這僅是出于討論目的的代表性材料。實(shí)質(zhì)上任何濺射材料都可應(yīng)用于本文中描述的裝置和方法被開發(fā)來解決的問題。適當(dāng)濺射材料的實(shí)例包括W、Mo、V、T1、N1、Cu、Al、S1、Ta和Nb，包括其每個(gè)的合金、化合物、氧化物和氮化物，且包括如氧化銦錫、氧化招鋅、氧化銦鋅、Li和Li化合物的材料。
[0027]隨著組裝在濺射 靶總成110上，濺射靶分區(qū)105接近彼此而定位，且與彼此寄存。靶總成(如110)例如當(dāng)濺射涂布較大基板時(shí)使用，即，在不方便或不切實(shí)際具有單片靶，反而組裝共同形成較大靶表面區(qū)域的靶的子分區(qū)時(shí)使用。在本文描述的實(shí)例中，背部支撐件總是描繪在濺射靶材料的后方，使得可能在濺射靶的周界周圍和靠近背部支撐件處形成的寄生等離子體降到最少。濺射靶分區(qū)105可接觸，或如圖1A中所描繪，其可在其之間具有間隙130以負(fù)責(zé)容易將靶分區(qū)組裝在背部板上和/或負(fù)責(zé)濺射期間的熱膨脹，等等。
[0028]如圖1A中擴(kuò)大的截面X中所描繪，在本實(shí)例中，分區(qū)105具有矩形區(qū)域和橫截面。分區(qū)105之間的間隙可為非常小，以毫米或小于毫米的數(shù)量級(jí)。盡管如此，這個(gè)間隙可在基板上的濺射沉積膜中導(dǎo)致非均勻性問題。這個(gè)非均勻性的實(shí)例圖示在圖1B中。圖1B再次以如圖1A中的透視圖描繪濺射靶總成110。在本描繪中，透明基板115(例如，大幅面玻璃基板，如建筑玻璃)在濺射沉積操作期間經(jīng)過濺射靶總成110。取決于特定沉積，一個(gè)或多個(gè)靶總成110可為了基板115面對(duì)濺射靶分區(qū)105的工作表面的更有效濺射覆蓋而呈直線定位。由于濺射靶分區(qū)105之間的接縫和/或間隙，在基板115的工作表面上的濺射沉積膜中具有形成的非均勻性的區(qū)125。區(qū)125近似于濺射靶分區(qū)105之間的接縫的形狀和定向，因?yàn)樵跒R射沉積期間基板115直接在這些接縫上經(jīng)過。
[0029]區(qū)125可表示由于靠近濺射靶分區(qū)105之間的接縫的較小濺射粒子密度和/或膜上的密度變化和/或其它均勻性問題的厚度變化。已觀察到，當(dāng)電致變色設(shè)備使用濺射靶(如靶總成110)制造時(shí)，區(qū)125當(dāng)EC設(shè)備從漂白狀態(tài)轉(zhuǎn)變到有色狀態(tài)時(shí)變得顯然。因此，如對(duì)比于EC膜的剩余部分，區(qū)125 (其對(duì)應(yīng)于濺射靶分區(qū)之間的接縫)中的膜的質(zhì)量顯然
有一些差異。
[0030]雖然不希望被理論約束，但是據(jù)信，非均勻區(qū)可能通過濺射靶材料和接縫中暴露的背部板區(qū)域的輻射率的差異而形成。材料的輻射率(通常寫成e或e)是材料表面通過輻射發(fā)射能量的相對(duì)能力。其是由特定材料輻射的能量與理論上的黑體(在相同溫度下)輻射的能量的比率。即，黑體將具有￡=1，而任何實(shí)際物體將具有￡〈1。一般而言，材料越暗且越黑，其輻射率越接近I。材料反射性越強(qiáng)，其輻射率越低。舉例而言，高度拋光的銀具有約0.02的輻射率。輻射率(因?yàn)槠淇赡苌婕俺练e層的非均勻性)關(guān)于圖1C更詳細(xì)解釋。
[0031]圖1C描繪間隙130所在的區(qū)中的濺射靶總成110的側(cè)視截面圖。雖然沒有按比例繪制，但是圖1C描繪沉積期間來自靶分區(qū)105在靶分區(qū)與基板115之間的區(qū)域中的濺射材料的粒子135。因?yàn)殚g隙`130具有高度H，所以在背部板100處于間隙130中的部分與基板115之間具有直接視線(垂直于背部板主表面，濺射靶分區(qū)組裝于其上)。在本實(shí)例中，靶分區(qū)105由金屬或合金制成，如燒結(jié)的鎳鎢或鎳鎢合金，其具有高度反射性且因此具有低輻射率。同時(shí)，背部板100由具有很大不同輻射率的材料制成，例如銅合金或其它材料。據(jù)信，靶分區(qū)與背部板之間的輻射率差異可至少部分解釋沉積膜中的區(qū)125的形成。在某些實(shí)施方案中，背部支撐件被暴露的表面用具有近似濺射靶材料的輻射率的輻射率的材料涂布。關(guān)于圖1C，這將是背部板100在間隙130中的暴露部分。
[0032]當(dāng)使用多于一個(gè)濺射靶總成，如總成110時(shí)，錯(cuò)開或偏移總成之間的接縫是有幫助的，其使得當(dāng)基板在靶總成上經(jīng)過時(shí)，每個(gè)濺射靶總成的接縫不彼此對(duì)齊。然而，這并不直接解決非均勻性問題，也不解決視線問題。在某些情況中，可僅使用具有單一主體的濺射靶，即，不包括濺射靶分區(qū)。然而，隨著使用越來越大面積的基板，這變得不切實(shí)際；在許多情況中，由于物理和材料約束，例如，燒結(jié)和擠壓大面積濺射靶可能不可行。本文中的實(shí)施方案涉及具有兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)的濺射靶總成，所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)被組裝來建立濺射靶總成“靶區(qū)域”，其包括每個(gè)濺射靶分區(qū)的(濺射)表面區(qū)域和在其之間毗鄰或最接近濺射靶分區(qū)的任何接縫或間隔。
[0033]濺射靶總成
[0034]圖2A以透視圖描繪濺射靶總成200。濺射靶總成200還包括背部板100。然而，總成200還包括濺射靶分區(qū)205，其被構(gòu)造來在濺射沉積期間防止前文提及的背部板與基板之間的視線。如圖2A的擴(kuò)大截面Y中所描繪，在濺射靶分區(qū)205之間仍然有間隙210，但是在本實(shí)例中，最接近彼此以形成間隙210的分區(qū)邊緣被成形使得段205的部分重疊。在本實(shí)例中，在段205的邊緣處采用非90度的角a和P，使得一個(gè)邊緣可越過另一邊緣并阻擋背部板100與基板115之間的直接垂直視線。這圖示于圖2A中。靶分區(qū)的濺射表面(面)是矩形，如由90度的角度e和0所顯示。
[0035]圖2B描繪間隙210所在的區(qū)中的濺射靶總成200的側(cè)視截面圖。雖然沒有按比例繪制，但是圖2B描繪沉積期間來自靶分區(qū)205 (在本實(shí)例中由與靶分區(qū)105相同的材料制造)在靶分區(qū)與基板115之間的區(qū)域中的濺射材料的粒子135。雖然間隙210具有高度Z，但是在背部板100處于間隙210中的部分220與基板115之間沒有直接(垂直)視線。因此，從垂直于面對(duì)濺射靶分區(qū)205的基板115的工作表面的視角來看，即使存在間隙210，基板115還是“看到”連續(xù)的濺射靶表面。
[0036]在圖2A和圖2B描繪的實(shí)例中，角度α小于90度且角度β大于90度。在本特定實(shí)例中，角度是互補(bǔ)角；然而這并非必需如此。另外，濺射靶分區(qū)205的邊緣被描繪為直線的，但是這并非必需如此。同樣地，靶分區(qū)的濺射表面被繪制為平面，且與彼此共面；但是這僅是實(shí)例。本領(lǐng)域一般技術(shù)人員將了解，具有使濺射靶分區(qū)具有至少一些重疊區(qū)的許多不同構(gòu)造，使得背部支撐件不暴露或暴露最少(即，在背部支撐件與基板沉積表面之間沒有垂直視線)。取決于濺射等離子體密度變化，靶分區(qū)的濺射表面也可以不共面。在本文描述的實(shí)例中，其是大體上平面且大體上共面的。因而，本領(lǐng)域一般技術(shù)人員也將了解，可設(shè)想大量的邊緣構(gòu)造以消除如上文描述的任何垂直視線。一些這些構(gòu)造在圖3Α中示出。 [0037]圖3Α描繪背部板100上的濺射靶分區(qū)之間的間隙區(qū)的許多側(cè)視截面圖。例如，濺射靶總成300包括濺射靶分區(qū)305。濺射靶分區(qū)305的每個(gè)具有與其它靶分區(qū)的至少一個(gè)重疊邊緣部分。在本實(shí)例中，通過采用90度角而形成重疊邊緣部分。濺射靶分區(qū)305之間的間隙360是防止背部板100與將與濺射靶表面對(duì)置的沉積基板(未示出)之間的清楚視線(垂直或其它)的圓形路徑。濺射靶總成320的側(cè)視截面圖示出濺射靶分區(qū)310，其也防止背部板100與沉積基板之間的直接視線。如濺射靶總成325和330的側(cè)視截面圖所示出，濺射靶分區(qū)315和345的重疊邊緣部分分別可包括直線和彎曲部分兩者，以建立防止清楚視線的路徑。濺射靶分區(qū)之間的間隙的尺寸可小達(dá)小于Imm或大于1mm，例如，幾毫米或更大，且間隙貫穿從背部支撐件(例如，背部板100)的表面和濺射靶分區(qū)表面處的間隙開口(例如，如濺射靶總成330的側(cè)視截面圖中所描繪)的路徑不需要是均勻的。如由濺射靶總成335和340的側(cè)視截面圖所示出，濺射靶分區(qū)350和355的重疊邊緣部分分別可僅包括彎曲的部分以建立防止清楚視線的路徑。
[0038]濺射靶并非總是平面。本文中描述的實(shí)施方案也適用于非平面靶，即，具有曲面的靶，例如圓柱形靶。圖3B描繪濺射靶總成365，其包括濺射靶分區(qū)370。在本實(shí)例中，濺射靶總成365是圓柱形的(另一實(shí)例將是橢圓柱形的濺射靶總成)。通常這種圓柱形濺射靶總成包括背部支撐件，如背部管(未描繪)，濺射靶分區(qū)370在其上組裝。其它組件可包括磁體、陰極組件和類似物以產(chǎn)生等離子體(未示出)。在本實(shí)例中，濺射靶分區(qū)370被構(gòu)造使得當(dāng)其在背部支撐件上組裝時(shí)，最接近彼此的邊緣重疊，如例如關(guān)于圖2A和圖2B和/或圖3A所描述。在本實(shí)例中，靶分區(qū)370可具有突出唇部375，其被插入到鄰近靶分區(qū)上的凹部380中。靶分區(qū)當(dāng)組裝時(shí)可以接觸或可以不接觸(例如，可在分區(qū)370之間使用間隔器)。在本實(shí)例中，當(dāng)組裝時(shí)，其不直接接觸，因此當(dāng)組裝時(shí)其橫截面看起來很像圖3A中的總成325的橫截面(其中背部管將對(duì)應(yīng)于背部板100)。因此，濺射靶分區(qū)370的重疊部分在濺射沉積期間防止背部支撐件與基板(未示出)之間的清楚視線。本領(lǐng)域一般技術(shù)人員將了解，就像關(guān)于圖2A和圖2B和/或圖3A中所描述的平面靶分區(qū)，重疊分區(qū)可具有(例如)關(guān)于圖3A所描述的任何數(shù)量的構(gòu)造。
[0039]因此，根據(jù)上文的描述，一個(gè)實(shí)施方案是一種濺射靶總成，其包括:(a)背部支撐件；和(b)組裝在所述背部支撐件上的兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)。所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)被構(gòu)造使得在濺射沉積期間在所述背部支撐件的表面(兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)組裝于其上)與基板工作表面之間沒有直接垂直視線。在一個(gè)實(shí)施方案中，背部支撐件是背部板，且其中所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)的每個(gè):i)粘附到所述背部板；和ii)具有大體上為平面的濺射表面，與兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)的另一分區(qū)或多個(gè)分區(qū)大體上共面。在一個(gè)實(shí)施方案中，兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)被構(gòu)造使得其不彼此接觸，但是具有防止濺射沉積期間在背部支撐件的表面(兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)組裝于其上)與基板工作表面之間的直接垂直視線的重疊邊緣區(qū)。在一個(gè)實(shí)施方案中，靶分區(qū)之間使用至少一個(gè)間隔器以防止靶分區(qū)彼此接觸。在某些實(shí)施方案中，濺射沉積期間在背部支撐件的表面(兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)組裝于其上)與基板工作表面之間沒有清楚視線。
[0040]在一個(gè)實(shí)施方案中，背部支撐件是背部管且兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)各為圓柱形套筒段。圓柱形套筒段可被構(gòu)造使得其不彼此物理接觸，但具有防止濺射沉積期間在背部管的表面(兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)組裝于其上)與基板工作表面之間的直接垂直視線的重疊邊緣區(qū)。在某些實(shí)施方案中，濺射沉積期間在背部支撐件的表面(兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)組裝于其上)與基板工作表面之間沒有清楚視線。
[0041]如所提及，在一些實(shí)施方案中，兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)包括用于濺射沉積鎳鎢氧化物的材料。這種材料可以是鎳鎢合金或燒結(jié)的鎳鎢復(fù)合物。這種復(fù)合物可以例如通過熱等靜壓鎳和鎢粒子而形成。這些濺射靶材料適用于本文中描述的所有實(shí)施方案，不論方法的實(shí)施方案還是裝置的實(shí)施方案。
[0042]解決非均勻性的靶構(gòu)造
[0043]本文中描述的方法包括使用具有常規(guī)間隙(其中濺射沉積期間背部支撐件具有與基板的直接垂直視線)的靶總成，和/或使用本文中描述的濺射靶總成。
[0044]如上文所描述，當(dāng)使用常規(guī)濺射靶總成時(shí)，如對(duì)比于EC膜的剩余部分，在對(duì)應(yīng)于濺射靶分區(qū)之間的接縫或間隙的區(qū)中的沉積EC膜的質(zhì)量顯然有一些差異。此外，如上文所描述，雖然不希望受到理論約束，但是據(jù)信，非均勻區(qū)可能通過濺射靶材料和接縫中暴露的背部板區(qū)域的輻射率上的差 異而形成。
[0045]因此，一個(gè)實(shí)施方案是一種當(dāng)使用包括兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)的濺射靶總成時(shí)將材料濺射沉積到基板上的方法，所述方法包括:(a)將所述基板提供于濺射腔中；和(b)當(dāng)將所述材料濺射到所述基板的工作表面上時(shí)將所述基板傳遞經(jīng)過所述濺射靶總成。兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)被構(gòu)造使得在濺射沉積期間，基板的大體上所有工作表面以與構(gòu)成濺射靶總成的靶區(qū)域的輻射率范圍的相同比率的輻射率被暴露。
[0046]如上文所描述，在某些實(shí)施方案中，背部支撐件被暴露的表面用具有近似濺射靶材料的輻射率的輻射率的材料涂布。
[0047]另一實(shí)施方案是當(dāng)使用包括兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)的濺射靶總成時(shí)將材料濺射沉積到基板上的方法，所述方法包括:(a)將所述基板提供于濺射腔中；和(b)當(dāng)將所述材料濺射到所述基板的工作表面上時(shí)將所述基板傳遞經(jīng)過所述濺射靶總成。所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)配置于背部支撐件上，且濺射靶總成的靶區(qū)域中的背部支撐件的任何暴露區(qū)域都用具有與兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)大體上相同輻射率(或近似輻射率)的材料涂布，使得基板的工作表面以與兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)和背部支撐件的暴露區(qū)域大體上相同的輻射率被暴露。再次參考關(guān)于圖1C的一個(gè)實(shí)例，背部板100在間隙130中的部分用具有近似靶分區(qū)105的輻射率的輻射率的材料涂布。只要在靶分區(qū)之間具有對(duì)背部板的視線，那么這些方法就是適用的，例如，關(guān)于圖4A和圖4B中描述的總成400中的背部板用具有近似靶分區(qū)405的輻射率的輻射率的材料涂布。
[0048]無論濺射沉積的膜均勻性上的變化潛在的原因是什么，是輻射率、等離子體密度變化、濺射靶厚度，等等，清楚的是非均勻性對(duì)應(yīng)于(且因此可相關(guān)于)濺射靶分區(qū)之間的間隙和/或接縫。因此，解決濺射靶總成的靶區(qū)域中的非均勻性(如間隙和/或接縫)的另一和/或額外方式是構(gòu)造總成的濺射靶分區(qū)，使得當(dāng)基板經(jīng)過靶區(qū)域上時(shí)，將發(fā)生沉積的基板上的所有區(qū)域以與濺射靶分區(qū)表面區(qū)域與靶區(qū)域中的任何接縫和/或間隙的區(qū)域的大體上相同的比率被暴露。
[0049]因此，一個(gè)這種實(shí)施方案是一種當(dāng)使用包括兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)的濺射靶總成時(shí)將材料濺射沉積到基板上的方法，所述方法包括:(a)將所述基板提供于濺射腔中；和
(b)當(dāng)將所述材料濺射到所述基板的工作表面上時(shí)將所述基板傳遞經(jīng)過所述濺射靶總成。所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)被構(gòu)造使得基板的大體上所有工作表面以濺射沉積期間濺射靶表面區(qū)域與兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)(基板被暴露到所述濺射靶分區(qū))之間的任何非濺射靶區(qū)域和/或接縫的相同比率被暴露。
[0050]本文中描述的方法可適用于本文中描述的濺射靶總成或常規(guī)濺射靶總成。出于本描述的目的，“當(dāng)將所述材料濺射到所述基板的工作表面時(shí)將所述基板傳遞經(jīng)過所述濺射靶總成”意味著涵蓋濺射期間基板與靶總成之間的相對(duì)運(yùn)動(dòng)。這包括將基板移動(dòng)經(jīng)過靜止的濺射靶，將濺射靶和基板兩者移動(dòng)經(jīng)過彼此，等等。在特定實(shí)施方案中，在濺射沉積期間基板被前后移動(dòng)經(jīng)過靜止濺射靶多次以將材料層沉積于基板工作表面上。這有時(shí)稱為基板經(jīng)過濺射靶的“恰恰(cha-cha)”運(yùn)動(dòng)，即，往復(fù)平移運(yùn)動(dòng)。在某些實(shí)施方案中，使用圓柱形靶。在圓柱形靶的上下文中，“當(dāng)將材料濺射到基板的工作表面上時(shí)將基板傳遞經(jīng)過濺射靶總成”意味著包括在濺射沉積期間使圓柱形濺射總成繞其縱軸旋轉(zhuǎn)和使基板移動(dòng)經(jīng)過圓柱形濺射靶總成和/或使圓柱形濺射總成平移經(jīng)過基板工作表面。
[0051]圖4A描繪濺射靶總成 400，其被構(gòu)造來實(shí)行本文中描述的方法。總成400包括背部板100，其上組裝了濺射靶分區(qū)405。擴(kuò)大的截面(由虛線圓W所指示)示出雖然靶分區(qū)405之間的間隙憑借角度a和P是90度而確實(shí)允許背部板100與基板115之間的直接垂直視線(見圖4B)，但靶分區(qū)憑借角度e是小于90度且角度0是大于90度而在其面上具有呈角度的邊緣。因此，濺射靶分區(qū)405之間的間隙相對(duì)于靶總成的周界側(cè)而呈角度。
[0052]參考圖4B，靶分區(qū)405被構(gòu)造使得靶表面區(qū)域與沉積期間基板暴露到的間隙或接縫區(qū)域的比率與隨著基板經(jīng)過濺射靶總成時(shí)基板的所有面積大體上相同。因此，在沉積期間，基板的整個(gè)沉積區(qū)域與間隙“看到”溉射靶材料的大體相同區(qū)域。在本實(shí)例中，一個(gè)接縫的底部和下一接縫的頂部沿著水平線被構(gòu)造使得沿著所述理論上的線經(jīng)過的基板115部分基本上看到單個(gè)間隙(基板區(qū)域的剩余部分隨著其經(jīng)過靶總成時(shí)也同樣)。因此，本文中描述的濺射靶總成包括具有常規(guī)間隙(允許濺射沉積期間在背部支撐件與基板之間的垂直視線的間隙)的濺射靶分區(qū)，但是其包括兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)，其被構(gòu)造使得基板的大體上所有工作表面以與濺射沉積期間在濺射靶表面區(qū)域與兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)之間的任何非濺射靶區(qū)域和/或接縫相同的比率被暴露。圖4B的后一部分(在濺射靶總成前面經(jīng)過的基板的前視圖)描繪如由加粗虛線箭頭所指示的“恰恰”運(yùn)動(dòng)。即，在濺射沉積期間，基板115有時(shí)在濺射靶前面前后平移。
[0053]兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)被構(gòu)造使得基板的大體上所有工作表面以與濺射沉積期間濺射靶表面區(qū)域與兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)(基板暴露到所述濺射靶分區(qū))之間的任何非濺射靶區(qū)域和/或接縫相同的比率被暴露的實(shí)施方案有效地使基板相對(duì)于濺射靶表面“看到”什么對(duì)比于濺射靶分區(qū)之間的接縫或間隙的差異變得無效。即，濺射靶區(qū)域與接縫和/或間隙的比率是1:1，或約為1:1。
[0054]返回參考圖1B，區(qū)域(幅區(qū))125是濺射靶分區(qū)之間的水平接縫的結(jié)果。更明確而言，隨著基板115經(jīng)過濺射靶分區(qū)105之間的接縫，憑借運(yùn)動(dòng)路徑，在整個(gè)濺射過程期間基板115上具有與接縫相對(duì)的僅被暴露到接縫的區(qū)域。即，對(duì)于基板的這些區(qū)域，濺射靶表面區(qū)域與基板看到的兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)之間的任何非濺射靶區(qū)域和/或接縫的比率約為O:1，因?yàn)橹辽購拇怪钡囊暯强?，這些區(qū)域看不到濺射靶表面區(qū)域。當(dāng)考慮濺射期間在濺射靶總成與基板的接縫區(qū)域之間可能有一些濺射等離子體時(shí)，基板不接收一些濺射沉積，但是對(duì)比于基板的剩余部分，這些區(qū)域(例如，區(qū)域125)中的均勻性不同。因此，通過構(gòu)造靶分區(qū)使得比率約為1:1，接縫區(qū)域?qū)鶆蛐缘娜魏斡绊懚蓟旧蠠o效，因?yàn)榛宓乃袇^(qū)域都看到與其看到濺射靶表面區(qū)域相同量的接縫。
[0055]接縫對(duì)濺射沉積的影響也可以改善到跨基板的均勻性的任何差異都不明顯的程度，例如，在EC設(shè)備中沒有非均勻性的光學(xué)辨識(shí)。即，代替使均勻性由于接縫造成的任何差異都完全無效(通過使基板的所有區(qū)域看到靶與接縫的相同比率(1:1)，如上文所描述)，在某些實(shí)施方案中，接縫對(duì)均勻性的影響在一定程度上被改善。因此，在某些實(shí)施方案中，濺射靶分區(qū)被構(gòu)造 使得濺射沉積期間濺射靶表面區(qū)域與兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)(基板暴露到所述濺射靶分區(qū))之間的任何非濺射靶區(qū)域和/或接縫的比率從垂直視角而言大于
O:1但小于1:1。在一個(gè)實(shí)施方案中，所述比率介于約0.1:1與約0.9:1之間；在另一實(shí)施方案中，介于約0.25:1與約0.75:1之間；在另一實(shí)施方案中約0.5:1。
[0056]在實(shí)踐中，實(shí)施此的實(shí)施方案的實(shí)例將是接縫以某一角度定向之處，例如，如關(guān)于圖4B所描繪，但是一個(gè)接縫的底部和下一接縫的頂部并非沿著如關(guān)于圖4B所描述的水平線構(gòu)造。圖4E至圖4H中描繪的少許這些實(shí)例示出靶總成450、460、470、480和490。例如，參考圖4E，隨著基板115經(jīng)過靶總成450，如所指示的虛線之間具有看不到接縫的區(qū)域115a。這些帶115a之間的基板115區(qū)域在濺射沉積期間暴露到接縫。因此，濺射沉積期間濺射靶表面區(qū)域與兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)(基板暴露到所述濺射靶分區(qū))之間的任何非濺射靶區(qū)域和/或接縫的比率大于O:1但小于1:1。取決于濺射條件，包括被沉積的材料、期望的厚度、材料的功能等等，所述比率可能需要例如更接近1:1，或更低的比率將足夠，例如，如由圖4F的濺射總成460所描繪。在本實(shí)例中，接縫的間距(從水平的角度)比在總成450中小。圖4G描繪濺射靶總成470，其在濺射靶分區(qū)之間具有彎曲的接縫或間隙。在本實(shí)例中，在濺射沉積期間，指示115b的區(qū)域沒有“看見”接縫或間隙，而其之間的區(qū)域能看見。圖4H中的總成480和490示出所述接縫和因此濺射靶分區(qū)可采用多種形狀。
[0057]如上文所討論，某些實(shí)施方案包括具有濺射靶分區(qū)的濺射靶總成，所述濺射靶分區(qū)具有在濺射沉積期間防止背部支撐件與基板之間的垂直或任何視線的重疊部分，例如邊緣部分。這種濺射靶分區(qū)還可以被構(gòu)造使得基板的大體上整個(gè)工作表面以與濺射沉積期間濺射靶表面區(qū)域與兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)之間的任何非濺射靶區(qū)域和/或接縫相同的比率被暴露。這示例于圖4C和圖4D中。
[0058]取決于沉積需求，在一個(gè)實(shí)施方案中，單次濺射沉積期間在基板上使用如本文中描述的兩個(gè)或多個(gè)濺射總成。在一個(gè)實(shí)施方案中，兩個(gè)或多個(gè)濺射靶上的接縫的圖案和間距相同，在另一實(shí)施方案中，單次濺射沉積中使用具有不同接縫圖案的靶總成。在一個(gè)實(shí)例中，完成此使得一個(gè)總成的接縫圖案對(duì)均勻性的影響在設(shè)計(jì)上用于補(bǔ)償憑借另一濺射靶總成的接縫圖案而施加的非均勻性。
[0059]圖4C描繪被構(gòu)造來實(shí)行本文中描述的方法的濺射靶總成410。總成410包括背部板100，其上組裝濺射靶分區(qū)415。擴(kuò)大的截面(由虛線圓T指示)示出靶分區(qū)415之間的間隙憑借角度a和P是非90度角而不允許到背部板100的直接垂直(例如，對(duì)靶(濺射)表面)視線。另外，至于靶總成400，憑借角度e小于90度且角度0大于90度，靶分區(qū)在其面上具有呈角度的邊緣。因此，對(duì)于濺射靶總成410，濺射靶分區(qū)415之間的間隙相對(duì)于靶總成的周界側(cè)呈角度，且其相對(duì)于垂直于靶濺射表面和/或背部板的平面而呈角度。[0060]圖4D描繪類似的濺射靶總成420，其中濺射靶分區(qū)425被組裝以建立分區(qū)425之間具有間隙的靶區(qū)域。在本實(shí)例中，靶分區(qū)的邊緣以凸起或凹進(jìn)的方式彎曲(因此當(dāng)組裝時(shí)其橫截面看起來很像圖3A中的總成340的橫截面)以當(dāng)組裝時(shí)提供重疊。這示例于擴(kuò)大的截面Q中。這是沒有到背部板的視線的實(shí)例。本領(lǐng)域一般技術(shù)人員將了解，如關(guān)于圖4D所描述的靶總成可具有例如圖3A中描繪的任何橫截面。即，具有將從視線上掩蓋背部支撐件(即，防止通過濺射靶分區(qū)之間的接縫到背部支撐件的視線)(從沉積期間暴露到濺射等離子體的基板區(qū)域的視角而言)的任何數(shù)量的靶邊緣重疊區(qū)的構(gòu)造。
[0061]如關(guān)于圖3B所描述，濺射靶總成可以是圓柱形。根據(jù)所描述的濺射靶分區(qū)被構(gòu)造使得基板的大體上所有工作表面以與濺射沉積期間濺射靶表面區(qū)域與兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)之間的任何非濺射靶區(qū)域和/或接縫相同的比率被暴露的方法，圓柱形濺射靶分區(qū)可如關(guān)于圖5A和圖5B所描述般被構(gòu)造。
[0062]圖5A描繪濺射靶總成500，其包括濺射靶分區(qū)505。在本實(shí)例中，濺射靶總成500是圓柱形(另一實(shí)例將是橢圓柱形濺射靶總成)。通常，這種圓柱形濺射靶總成包括背部支撐件，如背部管(未示出)，濺射靶分區(qū)505組裝于其上。在本實(shí)例中，濺射靶分區(qū)505是圓柱形套筒段，其具有圓柱楔形或斜柱形。如圖5B中所描繪，在濺射沉積期間，濺射靶總成隨著基板115經(jīng)過濺射靶總成而旋轉(zhuǎn)。本領(lǐng)域一般技術(shù)人員將了解，就像關(guān)于圖3B所描述的圓柱形靶分區(qū)，最接近彼此的濺射靶分區(qū)505的邊緣(在該情況中具有橢圓體表面)可具有重疊部分(例如，如關(guān)于圖2A和圖2B，以及圖3A和圖3B所描述)，使得沒有到背部支撐件的垂直視線或任何視線。分區(qū)505當(dāng)組裝時(shí)可以彼此接觸或可以不彼此接觸。
[0063]本領(lǐng)域一般技術(shù)人員將了解，本描述中預(yù)期涵蓋上文實(shí)施方案的多種組合。例如，濺射靶總成可包括具有重疊邊緣區(qū)以及不重疊邊緣區(qū)的濺射靶分區(qū)。例如，在不重疊的邊緣區(qū)中，背部板的一部分可被暴露；暴露的部分可視需要用近似濺射靶材料的輻射率的材料涂布。
[0064]雖然前文已經(jīng)以一些細(xì)節(jié)描述以促進(jìn)理解，但是所描述的實(shí)施方案應(yīng)被視為說明性而非限制性的。本領(lǐng)域一般技術(shù)人員將顯見，在隨附權(quán)利要求的范疇內(nèi)可實(shí)踐某些變化和修改。
【權(quán)利要求】
1.一種濺射靶總成，其包括: (a)背部支撐件；和 (b)組裝在所述背部支撐件上的兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)，兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)的所述組裝界定靶區(qū)域，其包括所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)之間的任何間隙或接縫； 其中所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)被構(gòu)造使得在垂直于所述背部支撐件的表面和/或所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)的濺射表面的方向上，在任何所述兩個(gè)或多個(gè)測間沒有到所述背部支撐件的視線。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濺射靶總成，其中所述背部支撐件是背部板且其中所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)的每個(gè): i)粘附到所述背部板；和 ii)具有大體上為平面的濺射表面，其與所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)的另一分區(qū)或多個(gè)分區(qū)大體上共面。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的濺射靶總成，其中所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)被構(gòu)造使得其不彼此物理接觸，但是具有防止到所述背部板的所述視線的重疊邊緣區(qū)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的濺射靶總成，其中從所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)的所述濺射表面到所述背部板，在任何所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)之間到所述背部板的任何方向上沒有視線。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濺射靶總成，其中所述背部支撐件是背部管，且其中所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)各為圓柱形套筒段，其當(dāng)組裝時(shí)形成圓柱形靶總成。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的濺射靶總成，其中所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)被構(gòu)造使得其不彼此物理接觸，但是具有防止到所述背部管的所述視線的重疊邊緣區(qū)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的濺射靶總成，其中從所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)的所述濺射表面到所述背部管，在任何所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)之間到所述背部管的任何方向上沒有視線。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的濺射靶總成，其中所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)包括用于濺射沉積鎳鎢氧化物的靶材料。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的濺射靶總成，其中所述靶材料是鎳鎢合金。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的濺射靶總成，其中所述靶材料是燒結(jié)鎳鎢復(fù)合物。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的濺射靶總成，其中所述靶材料通過熱等靜壓鎳和鎢粒子而形成。
12.一種當(dāng)使用包括兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)的濺射靶總成時(shí)將材料濺射沉積到基板上的方法，所述方法包括: (a)將所述基板提供于濺射腔中；和 (b)當(dāng)將所述材料濺射到所述基板的工作表面上時(shí)將所述基板傳遞經(jīng)過所述濺射靶總成； 其中所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)被構(gòu)造使得所述基板的大體上所有所述工作表面以與濺射沉積期間濺射靶區(qū)域與所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)之間的任何非濺射靶區(qū)域和/或接縫(所述基板被暴露到所述濺射靶分區(qū))相同的比率被暴露。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其中所述濺射靶總成還包括背部支撐件，所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)組裝于所述背部支撐件上，且其中所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)被構(gòu)造使得在垂直于所述背部支撐件的表面和/或所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)的濺射表面的方向上，在任何所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)之間沒有到所述背部支撐件的視線。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，其中所述背部支撐件是背部板，且其中所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)的每個(gè): i)粘附到所述背部板；和 ?)具有大體上為平面的濺射表面，其與所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)的另一分區(qū)大體上共面。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)被構(gòu)造使得其不彼此物理接觸，但是具有防止到所述背部板的所述視線的重疊邊緣區(qū)。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法，其中從所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)的所述濺射表面到所述背部板，在任何所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)之間到所述背部板的任何方向上沒有視線。
17.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，其中所述背部支撐件是背部管，且其中所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)各為圓柱形套筒段，其當(dāng)組裝時(shí)形成圓柱形靶總成。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的方法，其中所述圓柱形套筒段的每個(gè)具有圓柱楔形或斜柱形。
19.根據(jù)權(quán)利要求17所述的方法，其中所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)被構(gòu)造使得其不彼此物理接觸，但是具有防止到所述背部管的所述視線的重疊邊緣區(qū)。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的方法`，其中所述圓柱形套筒段的每個(gè)具有圓柱楔形或斜柱形。
21.根據(jù)權(quán)利要求19所述的方法，其中從所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)的所述濺射表面到所述背部管，在任何所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)之間到所述背部管的任何方向上沒有視線。
22.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其中(b)包括往復(fù)平移運(yùn)動(dòng)。
23.根據(jù)權(quán)利要求12至22中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)包括用于濺射沉積鎳鎢氧化物的靶材料。
24.根據(jù)權(quán)利要求23所述的方法，其中所述靶材料是鎳鎢合金。
25.根據(jù)權(quán)利要求23所述的方法，其中所述靶材料是燒結(jié)的鎳鎢復(fù)合物。
26.根據(jù)權(quán)利要求25所述的方法，其中所述靶材料通過熱等靜壓鎳和鎢粒子而形成。
27.一種當(dāng)使用包括兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)的濺射靶總成時(shí)將材料濺射沉積到基板上的方法，所述方法包括: (a)將所述基板提供于濺射腔中；和 (b)當(dāng)將所述材料濺射到所述基板的工作表面上時(shí)將所述基板傳遞經(jīng)過所述濺射靶總成； 其中所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)被構(gòu)造使得所述基板的大體上所有所述工作表面以與濺射沉積期間構(gòu)成所述濺射靶總成的靶區(qū)域的輻射率范圍相同比率的輻射率被暴露。
28.根據(jù)權(quán)利要求27所述的方法，其中所述濺射靶總成還包括背部支撐件，所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)組裝于所述背部支撐件上。
29.根據(jù)權(quán)利要求28所述的方法，其中所述背部支撐件是背部板，且其中所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)的每個(gè): i)粘附到所述背部板；和 ii)具有大體上為平面的濺射表面，其與所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)的另一分區(qū)大體上共面； 其中所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)被構(gòu)造使得在垂直于所述背部板的表面和/或所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)的所述濺射表面的方向上，在任何所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)之間沒有到所述背部板的視線。
30.根據(jù)權(quán)利要求29所述的方法，其中所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)被構(gòu)造使得其不彼此物理接觸，但是具有防止到所述背部板的所述視線的重疊邊緣區(qū)。
31.根據(jù)權(quán)利要求30所述的方法，其中從所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)的所述濺射表面到所述背部板，在任何所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)之間到所述背部板的所述表面的任何方向上沒有視線。
32.根據(jù)權(quán)利要求28所述的方法，其中所述背部支撐件是背部管，且其中所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)各為圓柱形套筒段，其當(dāng)組裝時(shí)形成圓柱形靶總成。
33.根據(jù)權(quán)利要求32所述的方法，其中所述圓柱形套筒段的每個(gè)具有圓柱楔形或斜柱形。
34.根據(jù)權(quán)利要求32所述的方法，其中所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)被構(gòu)造使得其不彼此物理接觸，但是具有重`疊邊緣區(qū)，且其中從所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)的濺射表面到所述背部管，在任何所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)之間到所述背部管沒有垂直視線。
35.根據(jù)權(quán)利要求34所述的方法，其中所述圓柱形套筒段的每個(gè)具有圓柱楔形或斜柱形。
36.根據(jù)權(quán)利要求34所述的方法，其中從所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)的所述濺射表面到所述背部管，在任何所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)之間到所述背部管的所述表面的任何方向上沒有到所述背部管的視線。
37.根據(jù)權(quán)利要求27所述的方法，其中(b)包括往復(fù)平移運(yùn)動(dòng)。
38.根據(jù)權(quán)利要求27至37中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)包括用于濺射沉積鎳鎢氧化物的靶材料。
39.根據(jù)權(quán)利要求38所述的方法，其中所述靶材料是鎳鎢合金。
40.根據(jù)權(quán)利要求38所述的方法，其中所述靶材料是燒結(jié)的鎳鎢復(fù)合物。
41.根據(jù)權(quán)利要求40所述的方法，其中所述靶材料通過熱等靜壓鎳和鎢粒子而形成。
42.一種當(dāng)使用包括兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)的濺射靶總成時(shí)將材料濺射沉積到基板上的方法，所述方法包括: (a)將所述基板提供于濺射腔中；和 (b)當(dāng)將所述材料濺射到所述基板的工作表面上時(shí)將所述基板傳遞經(jīng)過所述濺射靶總成； 其中所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)配置在背部支撐件上，且所述濺射靶總成的靶區(qū)域中的所述背部支撐件的任何暴露區(qū)域都用具有與所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)大體上相同輻射率的輻射材料涂布，使得所述基板的所述工作表面以與所述兩個(gè)或多個(gè)濺射靶分區(qū)和所述背部支撐件的所述暴露區(qū)域大體上相同的輻射率被暴露。
43.根據(jù)權(quán)利要求42所述的方法，其中(b)包括往復(fù)平移運(yùn)動(dòng)。
【文檔編號(hào)】C23C14/34GK103717782SQ201280037352
【公開日】2014年4月9日 申請(qǐng)日期:2012年6月14日 優(yōu)先權(quán)日:2011年6月30日
【發(fā)明者】羅納德·M·帕克, 羅伯特·T·羅茲比金 申請(qǐng)人:唯景公司