專利名稱：一種電容式觸摸屏雙面鍍膜磁控濺射生產(chǎn)線的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種電容式觸摸屏雙面鍍膜磁控濺射生產(chǎn)線。
背景技術(shù)：
電容式觸摸屏是在玻璃表面鍍上一層透明的特殊導(dǎo)電物質(zhì)。當(dāng)手指觸摸在玻璃上時，觸點的電容就會發(fā)生變化，使得與之相連的振蕩器頻率發(fā)生變化，通過測量頻率變化可以獲得確定的觸摸位置信息。電容屏的工作原理是:電容式觸摸屏在觸摸屏四邊均鍍上狹長的電極，在導(dǎo)電體內(nèi)形成一個低電壓交流電場。在觸摸屏幕時，由于人體電場，手指與導(dǎo)體層間會形成一個耦合電容，四邊電極發(fā)出的電流會流向觸點，而電流強(qiáng)弱與手指到電極的距離成正比，位于觸摸屏幕后的控制器便會計算電流的比例及強(qiáng)弱，準(zhǔn)確算出觸摸點的位置。電容觸摸屏的雙玻璃不但能保護(hù)導(dǎo)體及感應(yīng)器，更有效地防止外在環(huán)境因素對觸摸屏造成影響，就算屏幕沾有污穢、塵?；蛴蜐?，電容式觸摸屏依然能準(zhǔn)確算出觸摸位置。近年來，由于電容式觸摸屏具有抗損傷、耐劃傷、易清潔、靈敏度高、可以實現(xiàn)多觸點工作和可開發(fā)性強(qiáng)的特點；美國蘋果公司(Apple)、韓國三星公司(Samsung)、芬蘭諾基亞(Nokia)、中國聯(lián)想(Lenovo)和中國中興(ZTE)等手機(jī)廠商大量采用觸摸屏技術(shù)。觸摸屏的需求量巨大，而現(xiàn)有的生產(chǎn)觸摸屏鍍膜玻璃的生產(chǎn)線大都不能批量化連續(xù)的生產(chǎn)，生產(chǎn)效率低下，難以滿足市場需求。觸摸屏結(jié)構(gòu)內(nèi)具有以下幾種薄膜和相應(yīng)的鍍膜方式:1、氧化銦錫(ITO)透明導(dǎo)電層，采用直流磁控濺射鍍膜方式；2、鑰鋁鑰(MoAlMo)復(fù)合金屬電極層，采用直流磁控濺射鍍膜方式；3、氧化鈮(Nb205)光學(xué)介質(zhì)層，采用中頻磁控濺射鍍膜方式；4、氧化硅(Si02)光學(xué)介質(zhì)層，采用中頻磁控濺射鍍膜方式；5、雙面氧化銦錫(ΙΤ0)鍍膜技術(shù)；6、雙面氧化銀(Nb205)光學(xué)介質(zhì)層和氧化娃(Si02)光學(xué)介質(zhì)層鍍膜技術(shù)?，F(xiàn)有的生產(chǎn)觸摸屏鍍膜玻璃的生產(chǎn)線大都只能滿足一種薄膜材料的鍍膜，而不能同時滿足多種薄膜材料鍍膜的不同工藝的要求，因此生產(chǎn)不同的鍍膜觸摸屏，需要不同的生產(chǎn)線，成本高，不僅如此，最近由于觸摸屏結(jié)構(gòu)設(shè)計的進(jìn)步，采用了 一種雙面透明導(dǎo)電膜玻璃，需要同時進(jìn)行雙面濺射鍍ITO透明導(dǎo)電膜，原有的生產(chǎn)線并不能滿足同時進(jìn)行雙面沉積鍍膜的濺射沉積工藝。

實用新型內(nèi)容為了解決上述問題，本實用新型提供了一種電容式觸摸屏雙面鍍膜磁控濺射生產(chǎn)線，實現(xiàn)了電容式觸摸屏玻璃雙面同時鍍膜的批量連續(xù)生產(chǎn)工藝，且一條生產(chǎn)線不僅可滿足單面生產(chǎn)線的工藝，同時可以進(jìn)行單片玻璃雙面鍍膜。本實用新型采用的技術(shù)方案是:包括多個真空腔體和多個腔體支架，所述的真空腔體安裝在腔體支架上，內(nèi)部設(shè)有內(nèi)傳送系統(tǒng)，真空腔體依次分為進(jìn)口真空段、進(jìn)口緩沖真空段、進(jìn)口過渡真空段、工藝鍍膜真空段、出口過渡真空段、出口緩沖真空段和出口真空段七段；所述的進(jìn)口真空段，進(jìn)口處設(shè)有翻板閥，兩側(cè)設(shè)有腔體維修門，附近設(shè)有由機(jī)械泵與羅茲泵組成的前級抽氣系統(tǒng)，前級抽氣系統(tǒng)通過抽氣管道與進(jìn)口真空段的底部連接；所述的進(jìn)口緩沖真空段與進(jìn)口真空段連接處設(shè)有翻板閥或插板閥，進(jìn)口緩沖真空段一側(cè)設(shè)有六位二裝分子泵高真空抽氣系統(tǒng)，另一側(cè)設(shè)有六位一裝分子泵高真空抽氣系統(tǒng)，進(jìn)口緩沖真空段的底部通過分子泵抽氣連接耦合器分別與前級抽氣連接管道、六位二裝分子泵高真空抽氣系統(tǒng)和六位一裝分子泵高真空抽氣系統(tǒng)連接；進(jìn)口緩沖真空段附近設(shè)有由機(jī)械泵與羅茲泵組成的前級抽氣系統(tǒng)，前級抽氣系統(tǒng)通過抽氣管道與前級抽氣連接管道連接；所述的進(jìn)口過渡真空段與進(jìn)口緩沖真空段連接處設(shè)有翻板閥或插板閥，進(jìn)口過渡真空段的兩側(cè)各安裝有六位一裝分子泵高真空抽氣系統(tǒng)一組，六位一裝分子泵高真空抽氣系統(tǒng)錯位布置，進(jìn)口過渡真空段的底部通過分子泵抽氣連接耦合器分別與分子泵高真空抽氣系統(tǒng)和抽氣連接管道連接；所述的工藝鍍膜真空段包括多個工藝真空模塊和至少一個工藝隔離真空模塊，真空隔離模塊的一側(cè)安裝有六位三裝分子泵門，另一側(cè)安裝有六位二裝分子泵門；真空隔離模塊底部通過分子泵抽氣連接耦合器分別與六位三裝分子泵門、六位二裝分子泵門和抽氣連接管道連接；每個工藝真空模塊的兩側(cè)均安裝有三位一裝分子泵門和雙陰極門，兩側(cè)的三位一裝分子泵門與雙陰極門錯位布置，工藝真空模塊的底部通過分子泵抽氣連接耦合器分別與三位一裝分子泵門和抽氣連接管道連接；工藝鍍膜真空段附近設(shè)有由機(jī)械泵與羅茲泵組成的前級抽氣系統(tǒng)；前級抽氣系統(tǒng)通過抽氣管道與抽氣連接管道連通；所述的出口過渡真空段兩側(cè)設(shè)有六位一裝分子泵高真空抽氣系統(tǒng)，出口過渡真空段的底部通過分子泵抽氣連接耦合器分別與分子泵高真空抽氣系統(tǒng)和抽氣連接管道連接；所述的出口緩沖真空段與出口過渡真空段連接處設(shè)有翻板閥或插板閥，出口緩沖真空段的兩側(cè)設(shè)有六位一裝分子泵高真空抽氣系統(tǒng)，出口緩沖真空段的底部通過分子泵抽氣連接耦合器分別與六位一裝分子泵高真空抽氣系統(tǒng)和前級抽氣連接管道連接；出口緩沖真空段附近設(shè)有由機(jī)械泵與羅茲泵組成的前級抽氣系統(tǒng)，前級抽氣系統(tǒng)通過抽氣管道與前級抽氣連接管道連通；所述的出口真空段與出口緩沖真空段連接處設(shè)有翻板閥或插板閥，出口真空段出口處設(shè)有翻板閥，兩側(cè)設(shè)有腔體維修門，附近設(shè)有由機(jī)械泵與羅茲泵組成的前級抽氣系統(tǒng)，前級抽氣系統(tǒng)通過抽氣管道與出口真空段的底部連接。上述的電容式觸摸屏雙面鍍膜磁控濺射生產(chǎn)線中還包括進(jìn)片架、出片架和回片架，進(jìn)片架設(shè)在進(jìn)口真空段的進(jìn)口附近，進(jìn)片架附近設(shè)有進(jìn)片平移臺；出片架設(shè)在出口真空段的出口附近，出片架附近設(shè)有出片平移臺；所述回片架與真空鍍膜腔體平行，設(shè)置在真空鍍膜腔體附近；所述進(jìn)片架、出片架和回片架上設(shè)有外傳送系統(tǒng)；上述的電容式觸摸屏雙面鍍膜磁控濺射生產(chǎn)線中，所述前級抽氣系統(tǒng)連接的抽氣管道上設(shè)有蝶閥。上述的電容式觸摸屏雙面鍍膜磁控濺射生產(chǎn)線中，所述真空鍍膜腔體采用SUS304不銹鋼焊接而成。上述的電容式觸摸屏雙面鍍膜磁控濺射生產(chǎn)線中，所述內(nèi)傳送系統(tǒng)由內(nèi)摩擦R輪和磁導(dǎo)向組成。上述的電容式觸摸屏雙面鍍膜磁控濺射生產(chǎn)線中，所述外傳送系統(tǒng)由外摩擦R輪、磁導(dǎo)向和安裝支架組成。上述的電容式觸摸屏雙面鍍膜磁控濺射生產(chǎn)線中，還包括純水冷卻供給系統(tǒng)、壓縮空氣供給系統(tǒng)，設(shè)置在真空鍍膜腔體的下方。上述的電容式觸摸屏雙面鍍膜磁控濺射生產(chǎn)線中，真空鍍膜腔體的上端還設(shè)有安裝線槽。本實用新型的技術(shù)效果在于:本實用新型的工藝真空段采用了模塊化設(shè)計，每一組工藝真空模塊相同并可以互換；真空腔體之間采用插板閥隔開，可以實現(xiàn)有效隔斷，穩(wěn)定工藝氣體，密封性更好，更耐用；本實用新型傳動裝置采用磁導(dǎo)向，傳送平穩(wěn)性好；本實用新型適用于電容式觸摸屏用的鑰鋁鑰(MoAlMo)復(fù)合膜層、透明氧化銦錫薄膜(ΙΤ0)、氧化鈮(Nb205)膜和氧化硅(Si02)膜的連續(xù)批量生產(chǎn)，生產(chǎn)效率高，且生產(chǎn)不同鍍膜材料的觸摸屏，不需要另行建設(shè)新的生產(chǎn)線，節(jié)約了成本。

圖1是本實用新型的進(jìn)口真空段的主視圖。圖2是本實用新型的進(jìn)口真空段的俯視圖。圖3是本實用新型的進(jìn)口緩沖真空段的主視圖。圖4是本實用新型的進(jìn)口緩沖真空段的俯視圖。圖5是圖4中A向視圖。圖6是本實用新型的進(jìn)口過渡真空段的主視圖。圖7是本實用新型的進(jìn)口過渡真空段的俯視圖。圖8是圖7中B向視圖。圖9是本實用新型的工藝鍍膜真空段的主視圖。圖10是本實用新型的工藝鍍膜真空段的俯視圖。圖11是圖10中C向視圖。圖12是本實用新型的出口過渡真空段的主視圖。圖13是本實用新型的出口過渡真空段的俯視圖。圖14是圖13中D向視圖。圖15是本實用新型的出口緩沖真空段的主視圖。圖16是本實用新型的出口緩沖真空段的俯視圖。圖17是圖16中E向視圖。圖18是本實用新型的出口真空段的主視圖。圖19是本實用新型的出口真空段的俯視圖。圖20是本實用新型的出口真空段和進(jìn)口真空段的左視圖。圖21是進(jìn)口緩沖真空段、工藝鍍膜真空段和出口緩沖真空段的左視圖。
具體實施方式

以下結(jié)合附圖對本實用新型作進(jìn)一步的說明。由圖f 21所示，本實用新型包括真空鍍膜腔體1、多個腔體支架2和回片架3，所述的真空鍍膜腔體I安裝在多個腔體支架2上，內(nèi)部設(shè)有內(nèi)傳送系統(tǒng)，真空鍍膜腔體I依次分為進(jìn)口真空段11、進(jìn)口緩沖真空段12、進(jìn)口過渡真空段13、工藝鍍膜真空段14、出口過渡真空段15、出口緩沖真空段16和出口真空段17七段。進(jìn)口真空段11的進(jìn)口附近設(shè)有進(jìn)片架4，進(jìn)片架4附近設(shè)有進(jìn)片平移臺5 ;出口真空段17的出口附近設(shè)有出片架6，出片架6附近設(shè)有出片平移臺7 ;所述回片架3與真空鍍膜腔體I平行，設(shè)置在真空鍍膜腔體I附近；所述進(jìn)片架4、出片架6和回片架3上設(shè)有外傳送系統(tǒng)；所述的真空鍍膜腔體I采用SUS304不銹鋼焊接而成。如圖1、2所示，所述的進(jìn)口真空段11，進(jìn)口處設(shè)有翻板閥1-1，兩側(cè)均設(shè)有腔體維修門1-2，如圖20所示，附近設(shè)有由機(jī)械泵與羅茲泵組成的前級抽氣系統(tǒng)1-6，前級抽氣系統(tǒng)1-6通過抽氣管道1-3與進(jìn)口真空段11的底部連接，抽氣管道1-3上設(shè)有蝶閥1-5。如圖3、圖4和圖5所示，所述的進(jìn)口緩沖真空段12與進(jìn)口真空段11連接處設(shè)有翻板閥1-1，進(jìn)口緩沖真空段12 —側(cè)設(shè)有六位二裝分子泵高真空抽氣系統(tǒng)2-1，另一側(cè)設(shè)有六位一裝分子泵高真空抽氣系統(tǒng)2-4 ;進(jìn)口緩沖真空段12的底部通過分子泵抽氣連接耦合器2-3分別與前級抽氣連接管道2-2、六位二裝分子泵高真空抽氣系統(tǒng)2-1和六位一裝分子泵高真空抽氣系統(tǒng)2-4連接；如圖21所示，進(jìn)口緩沖真空段12附近設(shè)有由機(jī)械泵與羅茲泵組成的前級抽氣系統(tǒng)1-6，前級抽氣系統(tǒng)1-6通過帶有蝶閥1-5的抽氣管道1-3與前級抽氣連接管道2-2連接。如圖6、圖7和圖8所示，所述的進(jìn)口過渡真空段13與進(jìn)口緩沖真空段12連接處設(shè)有翻板閥1-1，進(jìn)口過渡真空段13的兩側(cè)各安裝有一組六位一裝分子泵高真空抽氣系統(tǒng)2-4，兩組六位一裝分子泵高真空抽氣系統(tǒng)2-4錯位布置，進(jìn)口過渡真空段13的底部通過分子泵抽氣連接耦合器2-3分別與分子泵高真空抽氣系統(tǒng)2-4和抽氣連接管道3-1連接。如圖9、圖10和圖11所示，所述的工藝鍍膜真空段14包括五個工藝真空模塊14-1和至少一個工藝隔離真空模塊14-2，真空隔離模塊14-2的一側(cè)安裝有六位三裝分子泵門
4-1，另一側(cè)安裝有六位二裝分子泵門4-2，真空隔離模塊14-2的底部通過分子泵抽氣連接耦合器2-3分別與六位三裝分子泵門4-1、六位二裝分子泵門4-2和抽氣連接管道3-1連接；每個工藝真空模塊14-1的兩側(cè)均安裝有三位一裝分子泵門4-3和雙陰極門4-4，兩側(cè)的三位一裝分子泵門4-3與雙陰極門4-4錯位布置；每個工藝真空模塊的底部通過分子泵抽氣連接耦合器2-3分別與三位一裝分子泵門4-3和抽氣連接管道3-1連接；如圖21所示，工藝鍍膜真空段14附近設(shè)有由機(jī)械泵與羅茲泵組成的前級抽氣系統(tǒng)1-6 ;前級抽氣系統(tǒng)1-6通過帶有蝶閥1-5的抽氣管道1-3與抽氣連接管道3-1連通。如圖12、圖13和圖14所示，所述的出口過渡真空段15與工藝鍍膜真空段14連接處設(shè)有插板閥5-1，出口過渡真空段15兩側(cè)均設(shè)有六位一裝分子泵高真空抽氣系統(tǒng)2-4，出口過渡真空段15底部通過分子泵抽氣連接耦合器2-3分別與六位一裝分子泵高真空抽氣系統(tǒng)2-4和抽氣連接管道3-1連接。如圖15、圖16和圖17所示，所述的出口緩沖真空段16與出口過渡真空段15連接處設(shè)有插板閥5-1，出口緩沖真空段16的兩側(cè)均設(shè)有一組六位一裝分子泵高真空抽氣系統(tǒng)2-4，出口緩沖真空段16的底部通過分子泵抽氣連接耦合器2-3分別與六位一裝分子泵高真空抽氣系統(tǒng)2-4和前級抽氣連接管道2-2連接；如圖21所示，出口緩沖真空段16附近設(shè)有由機(jī)械泵與羅茲泵組成的前級抽氣系統(tǒng)1-6，前級抽氣系統(tǒng)1-6通過帶有蝶閥1-5的抽氣管道1-3與前級抽氣連接管道2-2連通。如圖18、19所示，所述的出口真空段17與出口緩沖真空段16連接處設(shè)有插板閥
5-1，出口真空段17出口處設(shè)有翻板閥1-1，兩側(cè)均設(shè)有腔體維修門1-2，如圖20所示，附近設(shè)有由機(jī)械泵與羅茲泵組成的前級抽氣系統(tǒng)1-6，前級抽氣系統(tǒng)1-6通過帶有蝶閥1-5的抽氣管道1-3與出口真空段17的底部連接。如圖20、21所示，上述的所述內(nèi)傳送系統(tǒng)由內(nèi)摩擦R輪10和磁導(dǎo)向21組成，外傳送系統(tǒng)由外摩擦R輪22、磁導(dǎo)向21和安裝支架23組成。所述真空鍍膜腔體I的上端還設(shè)有安裝線槽20，本實用新型還包括純水冷卻供給系統(tǒng)8、壓縮空氣供給系統(tǒng)9，設(shè)置在真空鍍膜腔體I的下方。本實用新型玻璃的裝在方式為立式裝載，尤其適合生產(chǎn)厚度在0.33mm到1.1mm之間的觸摸屏玻璃鍍膜。
權(quán)利要求1.一種電容式觸摸屏雙面鍍膜磁控濺射生產(chǎn)線，其特征是:包括多個真空腔體和多個腔體支架，所述的真空腔體安裝在腔體支架上，內(nèi)部設(shè)有內(nèi)傳送系統(tǒng)，真空腔體依次分為進(jìn)口真空段、進(jìn)口緩沖真空段、進(jìn)口過渡真空段、工藝鍍膜真空段、出口過渡真空段、出口緩沖真空段和出口真空段七段； 所述的進(jìn)口真空段，進(jìn)口處設(shè)有翻板閥，兩側(cè)設(shè)有腔體維修門，附近設(shè)有由機(jī)械泵與羅茲泵組成的前級抽氣系統(tǒng)，前級抽氣系統(tǒng)通過抽氣管道與進(jìn)口真空段的底部連接； 所述的進(jìn)口緩沖真空段與進(jìn)口真空段連接處設(shè)有翻板閥或插板閥，進(jìn)口緩沖真空段一側(cè)設(shè)有六位二裝分子泵高真空抽氣系統(tǒng)，另一側(cè)設(shè)有六位一裝分子泵高真空抽氣系統(tǒng)，進(jìn)口緩沖真空段的底部通過分子泵抽氣連接耦合器分別與前級抽氣連接管道、六位二裝分子泵高真空抽氣系統(tǒng)和六位一裝 分子泵高真空抽氣系統(tǒng)連接；進(jìn)口緩沖真空段附近設(shè)有由機(jī)械泵與羅茲泵組成的前級抽氣系統(tǒng)，前級抽氣系統(tǒng)通過抽氣管道與前級抽氣連接管道連接; 所述的進(jìn)口過渡真空段與進(jìn)口緩沖真空段連接處設(shè)有翻板閥或插板閥，進(jìn)口過渡真空段的兩側(cè)各安裝有六位一裝分子泵高真空抽氣系統(tǒng)一組，六位一裝分子泵高真空抽氣系統(tǒng)錯位布置，進(jìn)口過渡真空段的底部通過分子泵抽氣連接耦合器分別與分子泵高真空抽氣系統(tǒng)和抽氣連接管道連接； 所述的工藝鍍膜真空段包括多個工藝真空模塊和至少一個工藝隔離真空模塊，真空隔離模塊的一側(cè)安裝有六位三裝分子泵門，另一側(cè)安裝有六位二裝分子泵門；真空隔離模塊底部通過分子泵抽氣連接耦合器分別與六位三裝分子泵門、六位二裝分子泵門和抽氣連接管道連接；每個工藝真空模塊的兩側(cè)均安裝有三位一裝分子泵門和雙陰極門，兩側(cè)的三位一裝分子泵門與雙陰極門錯位布置，工藝真空模塊的底部通過分子泵抽氣連接耦合器分別與三位一裝分子泵門和抽氣連接管道連接；工藝鍍膜真空段附近設(shè)有由機(jī)械泵與羅茲泵組成的前級抽氣系統(tǒng)；前級抽氣系統(tǒng)通過抽氣管道與抽氣連接管道連通； 所述的出口過渡真空段兩側(cè)設(shè)有六位一裝分子泵高真空抽氣系統(tǒng)，出口過渡真空段的底部通過分子泵抽氣連接耦合器分別與分子泵高真空抽氣系統(tǒng)和抽氣連接管道連接； 所述的出口緩沖真空段與出口過渡真空段連接處設(shè)有翻板閥或插板閥，出口緩沖真空段的兩側(cè)設(shè)有六位一裝分子泵高真空抽氣系統(tǒng)，出口緩沖真空段的底部通過分子泵抽氣連接耦合器分別與六位一裝分子泵高真空抽氣系統(tǒng)和前級抽氣連接管道連接；出口緩沖真空段附近設(shè)有由機(jī)械泵與羅茲泵組成的前級抽氣系統(tǒng)，前級抽氣系統(tǒng)通過抽氣管道與前級抽氣連接管道連通； 所述的出口真空段與出口緩沖真空段連接處設(shè)有翻板閥或插板閥，出口真空段出口處設(shè)有翻板閥，兩側(cè)設(shè)有腔體維修門，附近設(shè)有由機(jī)械泵與羅茲泵組成的前級抽氣系統(tǒng)，前級抽氣系統(tǒng)通過抽氣管道與出口真空段的底部連接。
2.如權(quán)利要求1所述的電容式觸摸屏雙面鍍膜磁控濺射生產(chǎn)線，其特征是:還包括進(jìn)片架、出片架和回片架，進(jìn)片架設(shè)在進(jìn)口真空段的進(jìn)口附近，進(jìn)片架附近設(shè)有進(jìn)片平移臺；出片架設(shè)在出口真空段的出口附近，出片架附近設(shè)有出片平移臺；所述回片架與真空鍍膜腔體平行，設(shè)置在真空鍍膜腔體附近；所述進(jìn)片架、出片架和回片架上設(shè)有外傳送系統(tǒng)。
3.如權(quán)利要求1所述的電容式觸摸屏雙面鍍膜磁控濺射生產(chǎn)線，其特征是:所述前級抽氣系統(tǒng)連接的抽氣管道上設(shè)有蝶閥。
4.如權(quán)利要求1所述的電容式觸摸屏雙面鍍膜磁控濺射生產(chǎn)線，其特征是:所述真空鍍膜腔體采用SUS304不銹鋼焊接而成。
5.如權(quán)利要求1所述的電容式觸摸屏雙面鍍膜磁控濺射生產(chǎn)線，其特征是:所述內(nèi)傳送系統(tǒng)由內(nèi)摩擦R輪和磁導(dǎo)向組成。
6.如權(quán)利要求1所述的電容式觸摸屏雙面鍍膜磁控濺射生產(chǎn)線，其特征是:真空鍍膜腔體的上端還設(shè)有安裝線槽。
7.如權(quán)利要求1所述的電容式觸摸屏雙面鍍膜磁控濺射生產(chǎn)線，其特征是:所述外傳送系統(tǒng)由外摩擦R輪、磁導(dǎo)向和安裝支架組成。
8.如權(quán)利要求1、2、3、4、5、6或7所述的新型電容式觸摸屏磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線，其特征是:還包括純水冷卻供給系統(tǒng)、`壓縮空氣供給系統(tǒng)，設(shè)置在真空鍍膜腔體的下方。
專利摘要本實用新型公開了一種電容式觸摸屏雙面鍍膜磁控濺射生產(chǎn)線，包括真空鍍膜腔體和多個腔體支架，所述的真空鍍膜腔體安裝在多個腔體支架上，內(nèi)部設(shè)有內(nèi)傳送系統(tǒng)，真空鍍膜腔體依次分為進(jìn)口真空段、進(jìn)口緩沖真空段、進(jìn)口過渡真空段、工藝鍍膜真空段、出口過渡真空段、出口緩沖真空段和出口真空段七段；每段均設(shè)有抽氣系統(tǒng)。本實用新型真空腔體之間采用插板閥或翻板閥隔開，可以實現(xiàn)有效隔斷，穩(wěn)定工藝氣體；傳送系統(tǒng)采用磁導(dǎo)向，平穩(wěn)性好；本實用新型實現(xiàn)了電容式觸摸屏連續(xù)批量生產(chǎn)，生產(chǎn)效率高。
文檔編號C23C14/35GK202913052SQ20122063413
公開日2013年5月1日 申請日期2012年11月27日 優(yōu)先權(quán)日2012年11月27日
發(fā)明者郭愛云, 黃國興, 孫桂紅, 祝海生, 梁紅, 黃樂 申請人:湘潭宏大真空技術(shù)股份有限公司