專利名稱：使用環(huán)筒式超聲輻射器的噴嘴的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種霧化裝置，特別涉及用于金屬制粉的氣流霧化噴嘴裝置。
技術(shù)背景真空霧化制粉是在真空條件下熔煉金屬或金屬合金，在氣體保護(hù)的條件下，金屬液體經(jīng)過保溫坩堝、導(dǎo)流嘴流出、通過噴嘴由高壓保護(hù)氣體流將金屬液體霧化破碎成大量細(xì)小的液滴，細(xì)細(xì)的液滴在飛行中凝固成球形或是亞球形顆粒，由于液滴細(xì)小和熱交換條件好，液滴的冷凝速度一般可達(dá)到100 ΙΟΟΟΟΚ/s，比鑄錠的冷卻高幾個數(shù)量級。因此合金的成分均勻，組織細(xì)小，用它制成的合金材料無宏觀偏析，性能優(yōu)異。真空霧化制粉可以制備大多數(shù)不能采用在空氣中和水霧化方法制造的金屬及其合金粉末，其次，由于凝固快克服了偏析現(xiàn)象，可以制取許多特殊合金的球形或亞球形粉末，最后，采用合適的工藝參數(shù)，可以使粉末粒度達(dá)到一個額定要求的范圍。幾乎所有可被熔化的金屬都可用霧化法生產(chǎn)，尤其適宜生產(chǎn)合金粉末，因此，真空霧化制粉法生產(chǎn)效率高，并易于擴(kuò)大工業(yè)規(guī)模而受到極其廣泛的工業(yè)應(yīng)用。真空霧化制粉法是一個眾多參數(shù)共同作用的復(fù)雜過程，真空霧化粉末的粒度、形狀和結(jié)晶組織和霧化工藝參數(shù)如熔體流直徑、噴嘴結(jié)構(gòu)、噴射介質(zhì)的壓力、流速等緊密相關(guān)。特別是真空霧化的氣流霧化噴嘴結(jié)構(gòu)是最關(guān)鍵的技術(shù)問題之一。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的是提供一種帶有環(huán)筒式超聲輻射器的氣流霧化噴嘴裝置，該氣流霧化噴嘴裝置能使金屬熔液的噴出霧化更加合理，霧化均勻，霧化制粉速度快、效率高、冷卻迅速，可連續(xù)作業(yè)，金屬霧化粉末的粒徑小，產(chǎn)出率高，是十分理想的金屬霧化制粉裝置。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用以下的技術(shù)方案一種使用環(huán)筒式超聲輻射器的噴嘴，所述噴嘴包括主體，在該主體中心設(shè)置的垂直通孔，設(shè)置在所述垂直通孔內(nèi)的輸液管，環(huán)繞所述垂直通孔并且在該主體內(nèi)設(shè)置的高壓氣體駐室，所述環(huán)筒式超聲輻射器環(huán)繞所述垂直通孔并且設(shè)置在高壓氣體駐室下方，在高壓氣體駐室底面設(shè)有氣道，所述氣道連接所述環(huán)筒式超聲輻射器的腔體，在所述腔體底面設(shè)置有斜向下延伸的噴嘴環(huán)，所述噴嘴環(huán)包括多個均勻排列設(shè)置的噴嘴孔，所述噴嘴孔的軸線與輸液管的軸線傾斜相交，所述噴嘴孔的軸線與所述腔體橫截面的中軸線垂直相交。最好，所述腔體為對稱的環(huán)形腔體。最好，所述環(huán)形腔體關(guān)于所述中軸線對稱。

圖1為本發(fā)明噴嘴的半剖視圖，其中特別示出了本實(shí)用新型的環(huán)筒式超聲輻射器。
具體實(shí)施方式
圖1示出了本發(fā)明的噴嘴的半剖視圖，如圖所示，噴嘴包括主體7，設(shè)置在主體7中心的垂直通孔8，安裝在垂直通孔8內(nèi)的輸液管6，環(huán)繞垂直通孔8設(shè)置在所述主體7中的高壓氣體駐室2，以及環(huán)繞該垂直通孔8設(shè)置在高壓氣體駐室2下方的環(huán)筒式超聲輻射器5。如圖1所示，本發(fā)明給出的該環(huán)筒式超聲輻射器5包括對稱設(shè)置的環(huán)形腔體9，在所述腔體9底面設(shè)置有向下方延伸的噴嘴環(huán)10，該噴嘴環(huán)10包括多個均布排列方式設(shè)置的噴嘴孔，所述噴嘴孔的軸線與輸液管6的軸線斜交，所述噴嘴孔的軸線與環(huán)筒式超聲輻射器5的環(huán)形腔體9的橫截面的中軸線垂直相交。從而經(jīng)由所述噴嘴環(huán)10告訴噴出的高壓氬氣或者氮?dú)庵惖臍怏w集中于所述輸液管6流出的金屬液柱上，從而達(dá)到使液體進(jìn)行霧化的目的。正是因?yàn)樗霏h(huán)筒式超聲輻射器5，導(dǎo)致吹出的高壓氣的速度非常高以至金屬溶液的噴出霧化更加合理、均勻，霧化制粉速度快、效率高、冷卻迅速，可連續(xù)作業(yè)，而且金屬霧化粉末的粒徑小，產(chǎn)出率高。
權(quán)利要求1.一種使用環(huán)筒式超聲輻射器的噴嘴，所述噴嘴包括主體，在該主體中心設(shè)置的垂直通孔，設(shè)置在所述垂直通孔內(nèi)的輸液管，環(huán)繞所述垂直通孔并且在該主體內(nèi)設(shè)置的高壓氣體駐室，所述環(huán)筒式超聲輻射器環(huán)繞所述垂直通孔并且設(shè)置在高壓氣體駐室下方，在高壓氣體駐室底面設(shè)有氣道，所述氣道連接所述環(huán)筒式超聲輻射器的腔體，在所述腔體底面設(shè)置有斜向下延伸的噴嘴環(huán)，所述噴嘴環(huán)包括多個均勻排列設(shè)置的噴嘴孔，所述噴嘴孔的軸線與輸液管的軸線傾斜相交，所述噴嘴孔的軸線與所述腔體橫截面的中軸線垂直相交。
2.如權(quán)利要求1所述的使用環(huán)筒式超聲輻射器的噴嘴，其特征在于，所述腔體為對稱的環(huán)形腔體。
3.如權(quán)利要求2所述的使用環(huán)筒式超聲輻射器的噴嘴，其特征在于，所述環(huán)形腔體關(guān)于所述中軸線對稱。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種使用環(huán)筒式超聲輻射器的噴嘴，所述噴嘴包括主體，在該主體中心設(shè)置的垂直通孔，設(shè)置在所述垂直通孔內(nèi)的輸液管，環(huán)繞所述垂直通孔并且在該主體內(nèi)設(shè)置的高壓氣體駐室，所述環(huán)筒式超聲輻射器環(huán)繞所述垂直通孔并且設(shè)置在高壓氣體駐室下方，在高壓氣體駐室底面設(shè)有氣道，所述氣道連接所述環(huán)筒式超聲輻射器的腔體，在所述腔體底面設(shè)置有斜向下延伸的噴嘴環(huán)，所述噴嘴環(huán)包括多個均勻排列設(shè)置的噴嘴孔，所述噴嘴孔的軸線與輸液管的軸線傾斜相交，所述噴嘴孔的軸線與所述腔體橫截面的中軸線重合。
文檔編號B22F9/08GK202894339SQ20122059885
公開日2013年4月24日 申請日期2012年11月13日 優(yōu)先權(quán)日2012年11月13日
發(fā)明者米國發(fā), 歷長云, 王有超, 劉寶忠, 王狂飛, 胡玉昆 申請人:河南理工大學(xué)