專利名稱：一種三瓣殼體附有交替鍍件轉(zhuǎn)架的真空鍍膜裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及真空鍍膜設(shè)備的研發(fā)制造，尤其對真空室和鍍件轉(zhuǎn)架以及磁控蒸發(fā)電極的設(shè)置。
背景技術(shù)：
在低溫等離子體成膜過程中，成膜環(huán)境、濺射靶材或蒸發(fā)電極電源、鍍件轉(zhuǎn)架、人機(jī)工藝控制、定期清機(jī)維護(hù)等等，決定生產(chǎn)過程中成膜質(zhì)量與效率以及穩(wěn)定性。本實(shí)用新型針對成膜環(huán)境的鍍膜室、鍍件轉(zhuǎn)架的設(shè)置提出三瓣殼體組合構(gòu)造成膜室以及可擴(kuò)展連續(xù)交替鍍件轉(zhuǎn)架。以改善和提高成膜質(zhì)量與成膜產(chǎn)品的質(zhì)量穩(wěn)定性與效率。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型提供一種三瓣殼體附有交替鍍件轉(zhuǎn)架的真空鍍膜裝置，其包括三瓣殼體鍍膜室、可擴(kuò)展連續(xù)交替鍍件轉(zhuǎn)架，其特征在于:所述三瓣殼體鍍膜室由固定瓣(Ig)和兩活動瓣(2hl、2h2)組成；固定瓣(Ig)兩軸向邊對稱鉸接兩活動瓣(2hl、2h2)的各相鄰軸向邊，兩個活動瓣(2hl、2h2)交替輪回與固定瓣(Ig)組合成鍍膜室，所述三瓣殼體鍍膜室的三個瓣(Ig)和(2hl、2h2)其軸向截面為半圓殼體，其軸向兩端頭為半圓鼎形狀，其軸向切面附有基體法蘭(11)，基體法蘭附有(a)密封圈溝槽；所述固定瓣(Ig)附有與擴(kuò)散泵或分子泵連接的大閥法蘭接口(12)及密封溝槽，所述固定瓣(Ig)的上端附有磁控或蒸發(fā)電極連接棒口(444)，所述三瓣殼體鍍膜室的內(nèi)壁附有鋼衣；所述可擴(kuò)展連續(xù)交替鍍件轉(zhuǎn)架(3)由調(diào)速電機(jī)驅(qū)動輪(30q)、一次公轉(zhuǎn)輪(3_2)、一次自轉(zhuǎn)介輪(3-3)、固定輪(3-1)、一次自轉(zhuǎn)輪(3-4)、二次公轉(zhuǎn)輪(3-5)、二次自轉(zhuǎn)輪(3-6)、鍍件單元轉(zhuǎn)架(3-7)、鍍件接掛轉(zhuǎn)桿(3-8)、一次自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)桿(3-9)、可擴(kuò)展連續(xù)交替鍍件轉(zhuǎn)架上支撐板輪(5)、磁控或蒸發(fā)電極連接棒(44)組成。三瓣殼體附有交替鍍件轉(zhuǎn)架的真空鍍膜裝置，其特征在于所述鍍件單元轉(zhuǎn)架(3-7)嵌固于二次公轉(zhuǎn)輪(3-5)之上，之下嵌套一次自轉(zhuǎn)輪(3-4)且附有芯軸一次自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)桿(3-9);鍍件單元轉(zhuǎn)架(3-7)徑向任意均布排列3至12個二次自轉(zhuǎn)輪(3-6)并附有芯軸鍍件接掛轉(zhuǎn)桿(3-8) ;二次自轉(zhuǎn)輪(3-6)由二次公轉(zhuǎn)輪(3-5)驅(qū)動；所述(3)可擴(kuò)展連續(xù)交替鍍件轉(zhuǎn)架通過一次公轉(zhuǎn)輪(3-2)的徑向任意均布排列3至12個鍍件單元轉(zhuǎn)架(3-7)、其相應(yīng)配設(shè)對3至12個一次自轉(zhuǎn)介輪(3_3)、一次自轉(zhuǎn)輪(3-4)；所述磁控或蒸發(fā)電極連接棒(44) 一端嵌固于固定輪(3-1)，再固定于或活動瓣(2hl、2h2)上，另一端固定于可擴(kuò)展連續(xù)交替鍍件轉(zhuǎn)架上支撐板輪(5)上與固定瓣(Ig)上的磁控或蒸發(fā)電極連接棒口(444)對接，可多組對3至12個鍍件單元轉(zhuǎn)架(3-7)附設(shè)。本實(shí)用新型解決其技術(shù)問題是:真空鍍膜室、鍍件轉(zhuǎn)架可連續(xù)交替工作，并鍍件轉(zhuǎn)架相對于鍍件可自由擴(kuò)展，節(jié)省能耗，提高效率和穩(wěn)定可靠性。[0010]本實(shí)用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:真空鍍膜室分解由三瓣殼體組合構(gòu)成，由二瓣殼體組合工作，配套雙鍍件轉(zhuǎn)架。受“伯力努”流體理論啟發(fā)，采用半圓柱鼎形二瓣殼體組合鍍膜室；雙鍍件轉(zhuǎn)架引用“行星輪系構(gòu)形”，在輪系的徑向處均布排列鍍件單元轉(zhuǎn)架。本實(shí)用新型的有益效果是:真空鍍膜室分解由三瓣殼體組合構(gòu)成，由二瓣殼體組合工作，配套雙鍍件轉(zhuǎn)架實(shí)現(xiàn)可連續(xù)交替工作。受“伯力努”流體理論啟發(fā)，采用半圓柱鼎形二瓣殼體組合鍍膜室，實(shí)現(xiàn)密閉室體平滑連接消除死角，使真空鍍膜室的密閉型腔無湍流渦浪涌，大程度限制氣浪沖擊，限制真空鍍膜室的升壓率，節(jié)省真空達(dá)標(biāo)時(shí)間。雙鍍件轉(zhuǎn)架引用“行星輪系構(gòu)形”，在輪系的徑向處均布排列鍍件單元轉(zhuǎn)架，實(shí)現(xiàn)自由鍍件轉(zhuǎn)架擴(kuò)展，實(shí)現(xiàn)鍍件轉(zhuǎn)架任意調(diào)速。

圖1是本實(shí)用新型三瓣殼體附有交替鍍件轉(zhuǎn)架的真空鍍膜裝置裝配圖圖2是本實(shí)用新型可擴(kuò)展連續(xù)交替鍍件轉(zhuǎn)架裝配圖
以下結(jié)合附圖對實(shí)用新型進(jìn)一步說明。
具體實(shí)施方式
如圖1所示，三瓣殼體鍍膜室為半圓柱鼎形殼體，由(Ig)固定瓣的(11)基體法蘭兩軸向邊對稱鉸接(2hl、2h2)活動瓣的(11)基體法蘭各軸向邊，兩個(2hl、2h2)活動瓣交替輪回與(Ig)固定瓣組合成鍍膜室，所述三瓣殼體鍍膜室的三個瓣(Ig)和(2hl、2h2)其軸向截面為半圓殼體，其軸向兩端頭為半圓鼎形狀，其軸向切面附有(11)基體法蘭，基體法蘭附有(a)密封圈溝槽；所述(Ig)固定瓣附有與擴(kuò)散泵或分子泵(12)大閥法蘭接口及密封溝槽，所述(Ig)固定瓣的上端附有(444)磁控或蒸發(fā)電極連接棒口，所述三瓣殼體鍍膜室的內(nèi)壁附有鋼衣；如圖2所示，(3)可擴(kuò)展連續(xù)交替鍍件轉(zhuǎn)架附設(shè)于三瓣殼體鍍膜室的兩個(2hl、2h2)活動瓣內(nèi)，交替輪回進(jìn)入鍍膜室工作，所述(3)可擴(kuò)展連續(xù)交替鍍件轉(zhuǎn)架引用“行星輪系構(gòu)形”，由(30q)調(diào)速電機(jī)驅(qū)動輪、(3-2) —次公轉(zhuǎn)輪、(3-3) —次自轉(zhuǎn)介輪、(3_1)固定輪、(3-4) 一次自轉(zhuǎn)輪、(3-5) 二次公轉(zhuǎn)輪、(3-6) 二次自轉(zhuǎn)輪、(3-7)鍍件單元轉(zhuǎn)架、(3_8)鍍件接掛轉(zhuǎn)桿、(3-9) —次自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)桿、(5)可擴(kuò)展連續(xù)交替鍍件轉(zhuǎn)架上支撐板輪、(44)磁控或蒸發(fā)電極連接棒組成；所述(3-7)鍍件單元轉(zhuǎn)架嵌固于(3-5) 二次公轉(zhuǎn)輪之上，之下嵌套(3-4) —次自轉(zhuǎn)輪且附有芯軸(3-9) —次自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)桿；(3-7)鍍件單元轉(zhuǎn)架徑向任意均布排列η個(3-6) 二次自轉(zhuǎn)輪并附有芯軸(3-8)鍍件接掛轉(zhuǎn)桿；(3-6) 二次自轉(zhuǎn)輪由(3-5) 二次公轉(zhuǎn)輪驅(qū)動；所述(3)可擴(kuò)展連續(xù)交替鍍件轉(zhuǎn)架通過(3-2) —次公轉(zhuǎn)輪的徑向任意均布排列η個(3-7)鍍件單元轉(zhuǎn)架、其相應(yīng)配設(shè)η對(3-3) —次自轉(zhuǎn)介輪、(3-4) 一次自轉(zhuǎn)輪；所述(44)磁控或蒸發(fā)電極連接棒一端嵌固于(3-1)固定輪，再固定于(2hl或2h2)活動瓣上，另一端固定于(5)可擴(kuò)展連續(xù)交替鍍件轉(zhuǎn)架上支撐板輪上與(Ig)固定瓣上(444)磁控或蒸發(fā)電極連接棒口對接，可多組對附設(shè)。
權(quán)利要求1.一種三瓣殼體附有交替鍍件轉(zhuǎn)架的真空鍍膜裝置，其包括三瓣殼體鍍膜室、可擴(kuò)展連續(xù)交替鍍件轉(zhuǎn)架，其特征在于: 所述三瓣殼體鍍膜室由固定瓣(Ig)和兩活動瓣(2hl、2h2)組成；固定瓣(Ig)兩軸向邊對稱鉸接兩活動瓣(2hl、2h2)的各相鄰軸向邊，兩個活動瓣(2hl、2h2)交替輪回與固定瓣(Ig)組合成鍍膜室，所述三瓣殼體鍍膜室的三個瓣(Ig)和(2hl、2h2)其軸向截面為半圓殼體，其軸向兩端頭為半圓鼎形狀，其軸向切面附有基體法蘭(11)，基體法蘭附有(a)密封圈溝槽；所述固定瓣(Ig)附有與擴(kuò)散泵或分子泵連接的大閥法蘭接口(12)及密封溝槽，所述固定瓣(Ig)的上端附有磁控或蒸發(fā)電極連接棒口(444)，所述三瓣殼體鍍膜室的內(nèi)壁附有鋼衣； 所述可擴(kuò)展連續(xù)交替鍍件轉(zhuǎn)架(3)由調(diào)速電機(jī)驅(qū)動輪(30q)、一次公轉(zhuǎn)輪(3-2)、一次自轉(zhuǎn)介輪(3-3)、固定輪(3-1)、一次自轉(zhuǎn)輪(3-4)、二次公轉(zhuǎn)輪(3-5)、二次自轉(zhuǎn)輪(3_6)、鍍件單元轉(zhuǎn)架(3-7)、鍍件接掛轉(zhuǎn)桿(3-8)、一次自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)桿(3-9)、可擴(kuò)展連續(xù)交替鍍件轉(zhuǎn)架上支撐板輪(5)、磁控或蒸發(fā)電極連接棒(44)組成。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的三瓣殼體附有交替鍍件轉(zhuǎn)架的真空鍍膜裝置，其特征在于所述鍍件單元轉(zhuǎn)架(3-7)嵌固于二次公轉(zhuǎn)輪(3-5)之上，之下嵌套一次自轉(zhuǎn)輪(3-4)且附有芯軸一次自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)桿(3-9);鍍件單元轉(zhuǎn)架(3-7)徑向任意均布排列3至12個二次自轉(zhuǎn)輪(3-6)并附有芯軸鍍件接掛轉(zhuǎn)桿(3-8) ;二次自轉(zhuǎn)輪(3-6)由二次公轉(zhuǎn)輪(3-5)驅(qū)動； 所述(3)可擴(kuò)展連續(xù)交替鍍件轉(zhuǎn)架通過一次公轉(zhuǎn)輪(3-2)的徑向任意均布排列3至12個鍍件單元轉(zhuǎn)架(3-7)、其相應(yīng)配設(shè)對3至12個一次自轉(zhuǎn)介輪(3-3)、一次自轉(zhuǎn)輪(3-4)； 所述磁控或蒸發(fā)電極連接棒(44) 一端嵌固于固定輪(3-1)，再固定于或活動瓣(2hl、2h2)上，另一端固定于可擴(kuò)展連續(xù)交替鍍件轉(zhuǎn)架上支撐板輪(5)上與固定瓣(Ig)上的磁控或蒸發(fā)電極連接棒口(444)對接，可多組對3至12個鍍件單元轉(zhuǎn)架(3-7)附設(shè)。
專利摘要一種三瓣殼體附有交替鍍件轉(zhuǎn)架的真空鍍膜裝置。它由一固定瓣和兩交替輪換瓣組成真空鍍膜室；兩輪換瓣內(nèi)附有可擴(kuò)展的鍍件轉(zhuǎn)架，其在于鍍件轉(zhuǎn)架上可靈活變換鍍件掛軸數(shù)量以及電極數(shù)量。真空鍍膜室分解由三瓣殼體組合構(gòu)成，由二瓣殼體組合工作，配套雙鍍件轉(zhuǎn)架實(shí)現(xiàn)可連續(xù)交替工作。受“伯力努”流體理論啟發(fā)，采用半圓柱鼎形二瓣殼體組合鍍膜室，實(shí)現(xiàn)密閉室體平滑連接消除死角，使真空鍍膜室的密閉型腔無湍流渦浪涌，大程度限制氣浪沖擊，限制真空鍍膜室的升壓率，節(jié)省真空達(dá)標(biāo)時(shí)間。雙鍍件轉(zhuǎn)架引用“行星輪系構(gòu)形”，在輪系的徑向處均布排列鍍件單元轉(zhuǎn)架，實(shí)現(xiàn)自由鍍件轉(zhuǎn)架擴(kuò)展，實(shí)現(xiàn)鍍件轉(zhuǎn)架任意調(diào)速。
文檔編號C23C14/56GK203034083SQ20122044733
公開日2013年7月3日 申請日期2012年9月4日 優(yōu)先權(quán)日2012年9月4日
發(fā)明者陳娘洲 申請人:深圳市特藝實(shí)業(yè)有限公司