專利名稱：一種vd爐真空罐體密封圈護板的制作方法
技術領域：
本實用新型屬于冶金設備技術領域，涉及一種VD爐真空罐體密封圈用保護裝置，具體涉及一種VD爐真空罐體密封圈護板。
背景技術：
VD真空脫氣爐罐蓋一般是由密封大爐蓋和中心小爐蓋組成。中心小爐蓋的主要作用是屏蔽真空脫氣過程鋼液的高溫輻射和防止鋼渣的直接濺出，保護大爐蓋，減輕高溫對大爐蓋及其配置設備的損壞，確保真空脫氣過程順行；同時，屏蔽爐內(nèi)的熱量，減少熱量散失，起到保溫和避免在VD爐真空脫氣過程中造成鋼液的溫降過大的作用。中心小爐蓋一般由爐蓋外殼及保溫層耐材內(nèi)襯兩部分構成。在真空脫氣過程中，中心小爐蓋由于受高溫氣流沖刷、高溫爐渣、鋼液的輻射，內(nèi)襯溫度高達1400°C -1700°C。精煉結束，罐體爐蓋抬起、開出時溫度900°C -1100°C，在下爐鋼液吊進真空罐體后，罐體爐蓋開進，此時中心屏蔽小爐蓋內(nèi)襯的溫度仍達600°C -900°C。真空罐體的上沿為一環(huán)形凹槽，凹槽內(nèi)設有橡膠質(zhì)密封圈，并注入水，以在罐體爐蓋下落時起到良好的密封、冷卻作用。由于罐體爐蓋車設置在真空罐體的一側；因此，在爐蓋開進、開出的過程中，靠近該側的真空罐體密封圈，受中心小爐蓋高溫內(nèi)襯的輻射、烘烤作用，易發(fā)生變形、開裂，降低密封圈使用壽命、增加生產(chǎn)成本，影響真空罐體的密封及真空精煉效果。

實用新型內(nèi)容本實用新型的目的是針對現(xiàn)有技術的不足，依據(jù)VD爐真空罐體用密封圈在中心小爐蓋內(nèi)襯高溫輻射、烘烤作用下易變形、開裂，導致使用壽命降低，生產(chǎn)成本增加，并影響真空罐體的密封及真空精煉效果的實際，提供一種VD爐真空罐體用密封圈護板，以減輕或避免中心小爐蓋高溫內(nèi)襯對密封一側密封圈的輻射、烘烤作用，提高密封圈壽命，降低生產(chǎn)成本，保證真空罐體的密封及真空精煉效果。一種VD爐真空罐體密封圈護板，包括一個用于覆蓋密封圈的扇環(huán)部。優(yōu)選的，扇環(huán)部外側設置一個用于放置和取出該護板的托持部。優(yōu)選的，所述托持部為矩形。一種VD爐真空罐體密封圈保護裝置，包括護板(4)和護板升降系統(tǒng)，護板(4)包括一個用于覆蓋密封圈的扇環(huán)部，扇環(huán)部外側設置一個用于放置和取出該護板的托持部。本實用新型提供的VD爐真空罐體密封圈護板結構簡單，將其覆蓋在爐蓋開進、開出的一側，有效的減輕或避免了中心小爐蓋高溫內(nèi)襯對密封一側密封圈的輻射、烘烤作用，提高密封圈壽命，降低生產(chǎn)成本，保證了真空罐體的密封及真空精煉效果。

圖I本實用新型VD爐真空罐體密封圈護板的結構示意圖；[0011]圖2是設置有本實用新型提供的護板的VD爐真空罐體密封圈保護裝置結構示意圖；圖3是設置有本實用新型提供的護板的VD爐真空罐體密封圈保護裝置俯視結構示意圖。其中1_立柱，2-支架，3-密封圈，4-護板，5-升降桿，6-連接桿，7-轉動軸，8-支撐桿,9-罐體上沿凹槽，10-升降桿凹槽，11-罐蓋，12-真空罐體，41-扇環(huán)部，42-托持部。
具體實施方式
如圖I所示，一種VD爐真空罐體密封圈護板4，包括一個用于覆蓋密封圈3的扇環(huán)部41。扇環(huán)部41外側設置一個用于放置和取出該護板的托持部42。優(yōu)選的，該托持部42為矩形。護板4可以使用普通鋼板制成，也可以使用任何耐熱材料。一種VD爐真空罐體密封圈保護裝置，包括上述護板4和護板升降系統(tǒng)。護板升降系統(tǒng)的優(yōu)選方案是，如圖2、圖3所示，設置立柱1，立柱I通過支架2與VD爐罐蓋11固定連接，具體的固定方式可以是，支架2焊接在VD爐罐蓋11上；護板升降系統(tǒng)包括升降桿5、連接桿6、轉動軸7、支撐桿8，升降桿5的上端設有凹槽10，為了能夠讓立柱I便于定位，與升降桿5更易結合，優(yōu)選的，立柱I采用圓柱體結構，凹槽10最好采用圓形凹槽。升降桿5的下端通過轉動軸7與支撐桿8的前端轉動連接，支撐桿8的后端固定在真空罐體12外殼上，例如，可以是焊接或者任何其他固定方式；連接桿6的下端固定例如可以是焊接在升降桿5上，優(yōu)選的焊接在升降桿5的中上部，可以實現(xiàn)護板快速升降，使護板升降更加靈敏。連接桿6的上端固定例如可以是焊接在護板4的托持部42的底面。優(yōu)選的，升降桿5上端的圓形凹槽10的內(nèi)徑為立柱I外徑的I. 5-1. 8倍，例如可以是I. 5倍、I. 6倍、I. 7倍或者I. 8倍。護板4扇環(huán)部41的內(nèi)徑為真空罐體12上沿凹槽9內(nèi)徑的O. 8-1. 2倍，例如可以是O. 8倍、O. 9倍、I倍、I. I倍或者I. 2倍。扇環(huán)部41的外徑為真空罐體12上沿凹槽9外徑的1-1. 2倍，例如可以是I倍、I. I倍或者I. 2倍。在正常生產(chǎn)過程中，當需要真空處理的鋼液吊進真空罐體12后，在罐蓋11開進過程中，由于該側密封圈3上部蓋有護板4，可有效減少或避免中心小爐蓋高溫內(nèi)襯的輻射、烘烤作用。在罐蓋11開進到位，下降過程中，焊接在罐蓋外殼上的立柱I與升降桿5的上端接觸，將升降桿5壓下，通過連接桿6帶動護板4升起，以防止影響罐蓋11與真空罐體12上沿的接觸。在真空精煉結束，罐蓋11升起的過程中，立柱I隨罐蓋11上升，升降桿5隨之上升，護板4下降，當立柱I與升降桿5脫離時，護板4在重力作用下下降蓋在真空罐體12上沿凹槽9的頂部。確保在罐蓋開出的過程中，可有效減少或避免中心小爐蓋高溫內(nèi)襯的輻射、烘烤作用，從而提高密封圈壽命，降低生產(chǎn)成本，保證真空罐體的密封及真空精煉效果。
權利要求1.ー種VD爐真空罐體密封圈護板，其特征在于，包括ー個用于覆蓋密封圈的扇環(huán)部。
2.根據(jù)權利要求I所述的VD爐真空罐體密封圈護板，其特征在于，扇環(huán)部外側設置一個用于放置和取出該護板的托持部。
3.根據(jù)權利要求2所述的VD爐真空罐體密封圈護板，其特征在于，所述托持部為矩形。
4.根據(jù)權利要求1-3任意一項所述的VD爐真空罐體密封圈護板，其特征在于，護板的材料是普通鋼板。
專利摘要一種VD爐真空罐體密封圈護板，屬于冶金設備技術領域，包括一個用于覆蓋密封圈的扇環(huán)部。本實用新型結構簡單，將其覆蓋在爐蓋開進、開出的一側，可有效的減輕或避免中心小爐蓋高溫內(nèi)襯對密封一側密封圈的輻射、烘烤作用，提高密封圈壽命，降低生產(chǎn)成本，保證真空罐體的密封及真空精煉效果。
文檔編號C21C7/10GK202643744SQ20122032154
公開日2013年1月2日 申請日期2012年7月4日 優(yōu)先權日2012年7月4日
發(fā)明者李法興, 張君平, 翟正龍, 王學利, 孫永喜, 孟憲華, 于學文, 劉亞麗, 裴建華, 鄭桂蕓, 范黎明, 劉永昌, 盧乃雙 申請人:萊蕪鋼鐵集團有限公司