專利名稱：連續(xù)式鍍膜設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種不銹鋼板等金屬基材的連續(xù)式鍍膜設(shè)備。
背景技術(shù)：
為增加金屬基材的耐磨損、耐腐蝕性能及改善金屬表面的美觀，會(huì)在金屬基材表面鍍一層耐磨損、耐腐蝕的貴重金屬膜，如鈦、鈷、金等，或者鍍一層貴重金屬的碳化物或氮化物。近幾十年來(lái)，采用真空多弧離子鍍膜，成為金屬鍍膜的重要技術(shù)。由于多弧真空離子鍍膜技術(shù)是無(wú)污染，膜層牢固美觀，所以得到廣泛應(yīng)用，但是現(xiàn)在真空鍍膜設(shè)備是在一個(gè)真空爐中，把待鍍工件掛置于真空爐內(nèi)，在真空爐內(nèi)完成抽真空、離子發(fā)射、充氮?dú)饣蛞胰?氣等程序，每爐約需30分鐘，其中鍍膜只需3分鐘左右的時(shí)間，因此生產(chǎn)效率低下。另外每一個(gè)爐鍍膜的工件容易產(chǎn)生色差，很難使產(chǎn)品顏色一致。鑒于上述原因，可以發(fā)現(xiàn)，現(xiàn)有的真空多弧離子鍍膜設(shè)備，存在工序麻煩、容量小、能耗聞、效率低、生廣廣品質(zhì)量差等缺點(diǎn)。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型目的在于提供一種操作簡(jiǎn)便、產(chǎn)量大、效率高的連續(xù)式鍍膜設(shè)備。為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型提供一種連續(xù)式鍍膜設(shè)備，包含有多弧離子源、真空裝置、進(jìn)氣裝置和溫控裝置的真空鍍膜機(jī)構(gòu)，由有進(jìn)料口的進(jìn)料室、有出料口的出料室和真空鍍膜室構(gòu)成耐壓的密封空間，所述的真空鍍膜室兩端分別與進(jìn)料室、出料室密封連接，所述的真空鍍膜機(jī)構(gòu)設(shè)在真空鍍膜室，其中，所述的進(jìn)料室設(shè)有放卷軸，放卷軸上設(shè)有剎車機(jī)構(gòu)；所述的出料室設(shè)有收卷軸，收卷軸由電機(jī)帶動(dòng)；所述的真空鍍膜室內(nèi)設(shè)有張力輥，用于張緊待鍍膜金屬基材。由于本實(shí)用新型為連續(xù)式鍍膜設(shè)備，能不間斷地進(jìn)行金屬基材離子鍍膜，因此操作簡(jiǎn)單、產(chǎn)量大、效率高、節(jié)能。在上述方案基礎(chǔ)上，所述的進(jìn)料室和出料室均為圓形、橢圓形、矩形等形狀，放卷軸、收卷軸安裝在不低于圓形、橢圓形、矩形中軸位置，進(jìn)料室的進(jìn)料口和出料室的出料口設(shè)在放卷軸、收卷軸的同一端，由帶密封的門密閉，方便操作。在上述方案基礎(chǔ)上，所述的進(jìn)料室的放卷軸一側(cè)外端連接剎車機(jī)構(gòu)，另一側(cè)設(shè)置進(jìn)料口 ；所述的出料室的收卷軸一側(cè)外端與電機(jī)軸連接，另一側(cè)設(shè)置有出料口，通過(guò)設(shè)在收卷軸的電機(jī)帶動(dòng)金屬基材上卷，在出料室不設(shè)驅(qū)動(dòng)電動(dòng)，不用擔(dān)心二軸的轉(zhuǎn)動(dòng)的同步性，結(jié)構(gòu)更簡(jiǎn)單，性能更穩(wěn)定。為進(jìn)一步擴(kuò)大本實(shí)用新型所述設(shè)備的產(chǎn)量和效率，還可以擴(kuò)展真空鍍膜室的長(zhǎng)度，在上述方案基礎(chǔ)上，所述的真空鍍膜室由若干個(gè)真空傳送區(qū)段密封連接構(gòu)成，每I 6m為一個(gè)真空傳送區(qū)段。在上述方案基礎(chǔ)上，在所述的真空傳送區(qū)段上設(shè)置真空裝置、進(jìn)氣裝置、充氣閥和溫控裝置構(gòu)成的真空鍍膜機(jī)構(gòu)，真空度可通過(guò)調(diào)節(jié)閥調(diào)節(jié)。[0011]在上述方案基礎(chǔ)上，所述的真空鍍膜室的外殼由鋼板拼接構(gòu)成，在鋼板上設(shè)有網(wǎng)狀加強(qiáng)筋，用于防止設(shè)備在真空狀態(tài)運(yùn)行時(shí)塌陷、皺扁。為設(shè)備穩(wěn)定，方便安裝，在上述方案基礎(chǔ)上，在所述的真空傳送區(qū)段的下端，均勻安裝有若干個(gè)多弧離子源。本實(shí)用新型的連續(xù)式鍍膜設(shè)備能不間斷地進(jìn)行金屬基材離子鍍膜，因此本裝置操作簡(jiǎn)單、工序簡(jiǎn)便、產(chǎn)量大、效率高。

圖I為本實(shí)用新型的連續(xù)式鍍膜設(shè)備結(jié)構(gòu)的俯視示意圖；圖2為本實(shí)用新型的連續(xù)式鍍膜設(shè)備結(jié)構(gòu)的主視示意圖；圖中標(biāo)號(hào)說(shuō)明I一進(jìn)料室；2—出料室；3—真空鍍膜室；4一離子源；5一加強(qiáng)筋；6—左張力棍；7一右張力棍；8—鋼板卷；9一剎車系統(tǒng)；10—電機(jī)；11—真空裝置；12 —進(jìn)氣裝置；13—進(jìn)料口 ；14一出料口 ；15—溫控裝置；16—放卷軸；17—收卷軸；18—充氣閥。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖，對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步描述。本實(shí)用新型提供一種連續(xù)式鍍膜設(shè)備，以不銹鋼板多弧真空離子鍍膜為例，如圖I為本實(shí)用新型的連續(xù)式鍍膜設(shè)備結(jié)構(gòu)的俯視示意圖和圖2為本實(shí)用新型的連續(xù)式鍍膜設(shè)備結(jié)構(gòu)的主視示意圖所示，該設(shè)備由進(jìn)料室I、出料室2、真空鍍膜室3、多弧離子源4、加強(qiáng)筋5、左張力輥6、右張力輥7、鋼板卷8、剎車系統(tǒng)9、電機(jī)10、真空裝置11、進(jìn)氣裝置12、進(jìn)料口 13、出料口 14、溫控裝置15、放卷軸16、收卷軸17、充氣閥18組成，其特征在于由有進(jìn)料口 13的進(jìn)料室I、有出料口 14的出料室2和真空鍍膜室3構(gòu)成鍍膜設(shè)備，所述的真空鍍膜室3兩端分別與進(jìn)料室I、出料室2密封連接，其中，所述的進(jìn)料室I設(shè)有放卷軸16，放卷軸16上設(shè)有剎車機(jī)構(gòu)9 ;所述的出料室2設(shè)有收卷軸17，收卷軸17由電機(jī)10帶動(dòng)。進(jìn)料室I和出料室2可為圓形、橢圓形、鉅形等幾何形狀，放卷軸16、收卷軸17安裝在不低于進(jìn)料室和出料室的中軸位置，進(jìn)料室I的進(jìn)料口 13和出料室2的出料口 14設(shè)在同一端，由帶密封的門密閉。進(jìn)料室I的放卷軸16 —側(cè)外端連接剎車機(jī)構(gòu)9，另一側(cè)設(shè)置進(jìn)料口 13 ;所述的出料室2的收卷軸17 —側(cè)外端與電機(jī)10軸連接，另一側(cè)設(shè)置有出料口 14。真空鍍膜室3由若干個(gè)真空傳送區(qū)段密封連接構(gòu)成，每I 6m為一個(gè)真空傳送區(qū)段，任意組合。真空傳送區(qū)段上設(shè)置真空裝置11、進(jìn)氣裝置12、溫控裝置15、充氣閥18。[0032]真空鍍膜室3的外殼由鋼板拼接構(gòu)成，在鋼板上設(shè)有網(wǎng)狀加強(qiáng)筋5，用于防止設(shè)備真空狀態(tài)運(yùn)行時(shí)，真空鍍膜室的塌陷、皺扁。真空傳送區(qū)段的下端，均勻安裝有若干個(gè)多弧離子源4。所述連續(xù)式鍍膜設(shè)備的生產(chǎn)工藝，依序按下述步驟第一，將待鍍鋼板卷8放入進(jìn)料室的放卷軸16上，將待鍍鋼板卷8頭部牽引端從進(jìn)料室I經(jīng)真空鍍膜室3被牽引至出料室2的收卷軸17上，待鍍鋼板卷的頭端到達(dá)真空鍍膜室3的尾端，并被張力輥6、7張緊；第二，關(guān)閉進(jìn)料口 13和出料口 14，對(duì)真空鍍膜室3進(jìn)行加熱和抽真空，到2X10_2Pa，打開(kāi)多弧離子源4，充氮?dú)夂?或乙炔氣，在真空鍍膜室3完成鍍膜，電機(jī)10開(kāi)動(dòng)，帶動(dòng)收卷軸17勻速收卷；第三，待鍍鋼板卷8放卷至尾端時(shí)，關(guān)閉收卷軸17的電機(jī)10，關(guān)閉所有氣體閥、弧 電源和真空系統(tǒng)；第四，打開(kāi)充氣閥充入空氣至常壓時(shí)，開(kāi)啟出料室的門取出鍍膜鋼板卷，完成一個(gè)生產(chǎn)周期。每個(gè)多弧離子源4的參數(shù)電壓是20V，電流是50 400A，溫度是80 300攝氏度，鋼板收卷的速度為O. 5 60米/分鐘。從上述描述中可知，本設(shè)備能不間斷地給鋼板卷鍍膜，因此本裝置操作簡(jiǎn)單、工序簡(jiǎn)便、產(chǎn)量大、效率高。為進(jìn)一步擴(kuò)大本設(shè)備的產(chǎn)量和效率，還可以擴(kuò)展真空鍍膜室，用若干個(gè)真空傳送區(qū)段密封連接即可。
權(quán)利要求1.一種連續(xù)式鍍膜設(shè)備，包含有多弧離子源、真空裝置、進(jìn)氣裝置和溫控裝置的真空鍍膜機(jī)構(gòu)，其特征在于由有進(jìn)料口的進(jìn)料室、有出料口的出料室和真空鍍膜室構(gòu)成耐壓的密封空間，所述的真空鍍膜室兩端分別與進(jìn)料室、出料室密封連接，所述的真空鍍膜機(jī)構(gòu)設(shè)在真空鍍膜室，其中，所述的進(jìn)料室設(shè)有放卷軸，放卷軸上設(shè)有剎車機(jī)構(gòu)；所述的出料室設(shè)有收卷軸，收卷軸由電機(jī)帶動(dòng)；所述的真空鍍膜室內(nèi)設(shè)有張力輥。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的連續(xù)式鍍膜設(shè)備，其特征在于所述的進(jìn)料室和出料室均為圓形、橢圓形或矩形，放卷軸、收卷軸安裝在不低于圓形、橢圓形、矩形中軸位置，進(jìn)料室的進(jìn)料口和出料室的出料口設(shè)在放卷軸、收卷軸的一端，由帶密封的門密閉。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的連續(xù)式鍍膜設(shè)備，其特征在于所述的進(jìn)料室的放卷軸一側(cè)外端連接剎車機(jī)構(gòu)，另一側(cè)設(shè)置進(jìn)料口 ；所述的出料室的收卷軸一側(cè)外端與電機(jī)軸連接，另一側(cè)設(shè)置有出料口。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的連續(xù)式鍍膜設(shè)備，其特征在于所述的真空鍍膜室由若干個(gè)真空傳送區(qū)段密封連接構(gòu)成，每I 6m為一個(gè)真空傳送區(qū)段。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的連續(xù)式鍍膜設(shè)備，其特征在于在所述的真空傳送區(qū)段上設(shè)置真空裝置、進(jìn)氣裝置、充氣閥和溫控裝置。
6.根據(jù)權(quán)利要求I或4所述的連續(xù)式鍍膜設(shè)備，其特征在于所述的真空鍍膜室的外殼由鋼板拼接構(gòu)成，在鋼板上設(shè)有網(wǎng)狀加強(qiáng)筋。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種連續(xù)式鍍膜設(shè)備，其特征在于在所述的真空傳送區(qū)段的下端，均勻安裝有若干個(gè)多弧離子源。
專利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)一種連續(xù)式鍍膜設(shè)備，包含有多弧離子源、真空裝置、進(jìn)氣裝置和溫控裝置的真空鍍膜機(jī)構(gòu)，由有進(jìn)料口的進(jìn)料室、有出料口的出料室和真空鍍膜室構(gòu)成耐壓的密封空間，所述的真空鍍膜室兩端分別與進(jìn)料室、出料室密封連接，所述的真空鍍膜機(jī)構(gòu)設(shè)在真空鍍膜室，其中，所述的進(jìn)料室設(shè)有放卷軸，放卷軸上設(shè)有剎車機(jī)構(gòu)；所述的出料室設(shè)有收卷軸，收卷軸由電機(jī)帶動(dòng)；所述的真空鍍膜室內(nèi)設(shè)有張力輥。本實(shí)用新型的連續(xù)式鍍膜設(shè)備能不間斷地進(jìn)行金屬基材離子鍍膜，且本設(shè)備操作簡(jiǎn)單、工序簡(jiǎn)便、產(chǎn)量大、效率高，節(jié)約能源達(dá)70%以上，節(jié)約勞動(dòng)力為80%以上。
文檔編號(hào)C23C14/56GK202558929SQ20122014189
公開(kāi)日2012年11月28日 申請(qǐng)日期2012年4月6日 優(yōu)先權(quán)日2012年4月6日
發(fā)明者應(yīng)偉達(dá) 申請(qǐng)人:上海千達(dá)不銹鋼有限公司