專利名稱：Oled蒸鍍罩及其加工方法
技術領域：
本發(fā)明涉及OLED顯示屏制造技術領域，特別涉及一種OLED蒸鍍罩及其加工方法。
背景技術：
有機電致發(fā)光器件，具有自發(fā)光、反應時間快、視角廣、成本低、制造工藝簡單、分辨率佳及高亮度等多項優(yōu)點，被認為是下一代的平面顯示器新興應用技術。在OLED(Organic Light-Emitting Diode,有機電致發(fā)光二極管)技術中，真空蒸鍍中的掩模板技術是一項非常重要和關鍵的技術， 該技術的等級直接影響OLED產品的質量和制造成本。在應用于蒸鍍時，傳統(tǒng)工藝的蒸鍍用掩模板一般采用正反同時蝕刻工藝，雖然可以制作出帶有一定錐度的開口，但由于側蝕的原因，使得掩模板貼緊蒸鍍ITO玻璃基板的銦錫氧化物接觸面的銦錫氧化物接觸面開口存在倒錐度，該種倒錐角的存在，產生死角區(qū)域，由于該死角區(qū)域的存在，無法達到蒸鍍厚度要求，導致蒸鍍材料的成膜均勻性降低，影響蒸鍍質量，延長了蒸鍍時間，增加制造成本。一般蒸鍍用蔭罩(即掩模板)的厚度在100 μ m左右，而需蒸鍍的有機材料膜的厚度在IOOnm左右，蔭罩上的開口尺寸最小可以是10 μ m,所以無錐度開口的側壁勢必會在蒸鍍過程中產生遮擋。另一方面，如果通過減薄蔭罩的厚度的方法來降低蔭罩的遮擋程度，又會影響蔭罩的使用壽命，因為蔭罩過薄，易變形，影響的蔭罩的使用，降低蒸鍍質量。

發(fā)明內容
本發(fā)明的主要目的在于，針對上述現(xiàn)有技術中的不足，提供一種OLED蒸鍍罩及其加工方法，具有能提高有機發(fā)光材料的使用率和成膜率，延長蒸鍍罩的使用壽命和節(jié)約制造成本等優(yōu)點。為實現(xiàn)上述發(fā)明目的，本發(fā)明采用以下技術方案。本發(fā)明提供一種OLED蒸鍍罩，包括蒸鍍板，所述蒸鍍板包括ITO接觸面和蒸鍍面，所述蒸鍍板上設置有多個呈中心對稱狀的蒸鍍孔，所述蒸鍍孔自所述蒸鍍面貫穿至所述ITO接觸面，且截面呈逐漸縮小態(tài)勢。優(yōu)選地，所述蒸鍍孔包括同軸的第一段和第二段，所述第一段呈喇叭狀，第二段呈喇叭狀或錐形。優(yōu)選地，所述蒸鍍板的厚度為18 190 μ m。優(yōu)選地，所述蒸鍍孔在第一段的傾角為35 45度。優(yōu)選地，所述第二段為錐形，且錐角為Γ10度。優(yōu)選地，所述第二段的垂直深度為8 20 μ m。優(yōu)選地，所述第二段的垂直深度不大于第一段的垂直深度。優(yōu)選地，所述蒸鍍板的材料為鎳鈷合金、鎳鐵合金、銦瓦合金中的任意一種，厚度為 18 45 μ m。本發(fā)明還提供一種OLED蒸鍍罩的加工方法，所述OLED蒸鍍罩包括蒸鍍板，蒸鍍板包括ITO接觸面和蒸鍍面，所述蒸鍍板上設置有多個呈中心對稱狀的蒸鍍孔，所述蒸鍍孔自所述蒸鍍面貫穿至所述ITO接觸面，包括第一段和第二段，所述加工方法包括以下步驟采用蝕刻工藝在所述蒸鍍面上加工出所述蒸鍍孔的第一段；
采用激光工藝在所述第一段末端向所述ITO接觸面加工出所述第二段，并使所述第一段與第二段同軸設置。優(yōu)選地，所述蒸鍍板的厚度為18 190 μ m ;所述蒸鍍孔在第一段的傾角為35 45度，所述第二段為錐形，且錐角為Γ10度。本發(fā)明先采用蝕刻工藝在蒸鍍面上加工出第一段蒸鍍孔，再采用激光工藝沿著第一段的末端向ITO接觸面繼續(xù)加工出第二段蒸鍍孔，并使第一段和第二段同軸設置，使蒸鍍孔的尺寸在蒸鍍板上呈現(xiàn)出逐漸縮小的態(tài)勢，克服了傳統(tǒng)工藝中出現(xiàn)的死角區(qū)域，使得在應用于蒸鍍時，有機發(fā)光顆?？梢暂^大限度地到達玻璃基板上的預定位置，從而提高了OLED顯示屏的質量，提高了有機發(fā)光材料的使用率和成膜率，降低了 OLED顯示屏的制造成本，并可有效延長蒸鍍罩的使用壽命。


圖I是本發(fā)明實施例中OLED蒸鍍罩的結構示意圖。圖2是本發(fā)明實施例中OLED蒸鍍罩的實施效果圖。本發(fā)明目的的實現(xiàn)、功能特點及優(yōu)點將結合實施例，參照附圖做進一步說明。
具體實施例方式以下將結合附圖及具體實施例詳細說明本發(fā)明的技術方案，以便更清楚、直觀地理解本發(fā)明的發(fā)明實質。圖I是本發(fā)明實施例中OLED蒸鍍罩的結構示意圖；圖2是本發(fā)明實施例中OLED蒸鍍罩的實施效果圖。參照圖I和圖2所示，本實施例提供一種OLED蒸鍍罩，其包括蒸鍍板I，蒸鍍板I包括ITO接觸面11和蒸鍍面12，蒸鍍板I上設置有多個呈中心對稱狀的蒸鍍孔2，蒸鍍孔2自蒸鍍面12貫穿至ITO接觸面11，且截面呈逐漸縮小態(tài)勢。具體地，蒸鍍孔2包括同軸設置的第一段21和第二段22，其中，第一段21呈喇叭狀，并位于蒸鍍面12的一側；第二段22呈喇叭狀或錐形，位于ITO接觸面11的一側。在蒸鍍時，ITO接觸面11朝上，與需要蒸鍍有機發(fā)光材料的玻璃基板貼合，蒸鍍面12朝下，面對蒸發(fā)源3，蒸發(fā)源3內的有機發(fā)光材料顆粒從各種方向進入蒸鍍孔2，并經該蒸鍍孔2沾附于玻璃基板的ITO (氧化銦錫)層上，形成蒸鍍膜。蒸鍍膜的形狀和厚薄均勻度直接影響OLED顯示屏的輝度和分辨率，因此，對蒸鍍孔2的形狀和規(guī)格都有非常嚴格的要求。本實施例的蒸鍍孔2設計為截面尺寸自蒸鍍面12向ITO接觸面11呈逐漸縮小的態(tài)勢，使蒸鍍孔2的整體形狀為上窄下寬的喇叭狀，有利于以更寬的角度接收有機發(fā)光材料顆粒，從而能使蒸鍍膜的厚薄均勻度和形狀都能滿足設計要求。此外，本實施例的蒸鍍板I的厚度為18 190 μ m,既可保證蒸鍍罩的強度，避免因過薄導致蒸鍍孔2變形而縮短蒸鍍罩的使用壽命，又可避免因過厚影響蒸鍍膜的成膜率。本實施例的蒸鍍孔2在第一段21的傾角為35 45度，同時，蒸鍍罩為鎳鈷合金、鎳鐵合金、銦瓦合金中的任意一種材料制成，且厚度設置為18 45μπι。為保證良品率、提高加工效率、降低加工成本，最好將第一段21的傾角設置為35 45度，將第二段22的錐角設置為Γ10度，在滿足實際生產要求的情況下，最大限度地降低生產成本。而且，本實施例的第二段22的垂直深度為8 20 μ m，且第二段22的垂直深度不大于第一段21的垂直深度。由于第一段21呈喇叭狀，第二段22呈喇叭狀或錐形狀，而且，第二段22在ITO接觸面11上的尺寸精度要求非常高，因此，可以采用蝕刻工藝加工第一段21，再利用激光工藝加工出第二段22。由于激光工藝的加工精度高，但激光工藝加工的孔，其傾角較小，故第二段22的垂直深度不宜過大。考慮到蒸鍍罩的精度和強度，第二段22的垂直深度又不宜過小，以免影響蒸鍍孔2在ITO接觸面11上的形狀和尺寸。此外，本實施例還提供一種OLED蒸鍍罩的加工方法，該加工方法是可以加工出圖I所示實施例中的OLED蒸鍍罩，即本實施例的OLED蒸鍍罩包括蒸鍍板，蒸鍍板包括ITO接觸面和蒸鍍面，蒸鍍板上設置有多個呈中心對稱狀的蒸鍍孔，蒸鍍孔自蒸鍍面貫穿至ITO接觸面，包括第一段和第二段。且蒸鍍板的厚度為18 190 μ m ;蒸鍍孔在第一段的傾角為35 45度，第二段為錐形，錐角為4 10度。 本實施例的加工方法包括以下步驟
1:采用蝕刻工藝在蒸鍍面上加工出蒸鍍孔的第一段；
2:采用激光工藝在第一段末端向ITO接觸面加工出第二段，并使第一段與第二段同軸設置。由于蝕刻藥水的濃度不斷減小，采用蝕刻工藝可以侵蝕出傾角較大的開口壁，使得在蒸鍍面一側的蒸鍍孔的尺寸較大，而越往內部尺寸就越小，形成喇叭狀。而采用激光工藝刻制蒸鍍孔時，由于激光能量強度的衰減較小，可以形成Γιο度的錐度，因此，第一段采用蝕刻工藝加工，第二段采用激光工藝沿第一段的加工方向繼續(xù)加工，且第二段的垂直深度應越小越好。但考慮到蒸鍍罩的強度要求，第二段的垂直深度不宜過小，以免因第二段過薄導致在ITO接觸面上所加工出的蒸鍍孔發(fā)生變形，故第二段的垂直深度為8 20 μ m為佳。采用上述工藝所加工出的蒸鍍孔的形狀基本接近于理想的八字形或在錐角的錐形形狀，因而可以蒸鍍出質量較好的蒸鍍膜，從而生產出較高質量的OLED顯示屏。綜上所述，本發(fā)明先采用蝕刻工藝在蒸鍍面上加工出第一段蒸鍍孔，再采用激光工藝沿著第一段的末端向ITO接觸面繼續(xù)加工出第二段蒸鍍孔，并使第一段和第二段同軸設置，使蒸鍍孔的尺寸在蒸鍍板上呈現(xiàn)出逐漸縮小的態(tài)勢，克服了傳統(tǒng)工藝中出現(xiàn)的死角區(qū)域，使得在應用于蒸鍍時，有機發(fā)光顆粒可以較大限度地到達玻璃基板上的預定位置，從而提高了 OLED顯示屏的質量，提高了有機發(fā)光材料的使用率和成膜率，降低了 OLED顯示屏的制造成本，并可有效延長蒸鍍罩的使用壽命。以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實施例，并非因此限制其專利范圍，凡是利用本發(fā)明說明書及附圖內容所作的等效結構和流程變換，直接或間接運用在其他相關的技術領域，均同理包括在本發(fā)明的專利保護范圍內。
權利要求
1.一種OLED蒸鍍罩，包括蒸鍍板，所述蒸鍍板包括ITO接觸面和蒸鍍面，所述蒸鍍板上設置有多個呈中心對稱狀的蒸鍍孔，其特征在于所述蒸鍍孔自所述蒸鍍面貫穿至所述ITO接觸面，且截面呈逐漸縮小態(tài)勢。
2.如權利要求I所述的OLED蒸鍍罩，其特征在于所述蒸鍍孔包括同軸的第一段和第二段，所述第一段呈喇叭狀，第二段呈喇叭狀或錐形。
3.如權利要求2所述的OLED蒸鍍罩，其特征在于所述蒸鍍板的厚度為18 190μ m。
4.如權利要求2所述的OLED蒸鍍罩，其特征在于所述蒸鍍孔在第一段的傾角為35 45度。
5.如權利要求2所述的OLED蒸鍍罩，其特征在于所述第二段為錐形，且錐角為Γ10度。
6.如權利要求5所述的OLED蒸鍍罩，其特征在于所述第二段的垂直深度為8 20 μ m0
7.如權利要求6所述的OLED蒸鍍罩，其特征在于所述第二段的垂直深度不大于第一段的垂直深度。
8.如權利要求2所述的OLED蒸鍍罩，其特征在于所述蒸鍍板的材料為鎳鈷合金、鎳鐵合金、銦瓦合金中的任意一種，厚度為18 45 μ m。
9.一種OLED蒸鍍罩的加工方法，OLED蒸鍍罩包括蒸鍍板，蒸鍍板包括ITO接觸面和蒸鍍面，所述蒸鍍板上設置有多個呈中心對稱狀的蒸鍍孔，其特征在于所述蒸鍍孔自所述蒸鍍面貫穿至所述ITO接觸面，包括第一段和第二段，所述加工方法包括以下步驟 采用蝕刻工藝在所述蒸鍍面上加工出所述蒸鍍孔的第一段； 采用激光工藝在所述第一段末端向所述ITO接觸面加工出所述第二段，并使所述第一段與第二段同軸設置。
10.如權利要求9所述的加工方法，其特征在于所述蒸鍍板的厚度為18 190μ m ;所述蒸鍍孔在第一段的傾角為35 45度，所述第二段為錐形，且錐角為Γ10度。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種OLED蒸鍍罩及其加工方法，包括蒸鍍板，蒸鍍板包括ITO接觸面和蒸鍍面，蒸鍍板上設置有多個呈中心對稱狀的蒸鍍孔，蒸鍍孔自蒸鍍面貫穿至所述ITO接觸面，且截面呈逐漸縮小態(tài)勢。本發(fā)明克服了傳統(tǒng)工藝中出現(xiàn)的死角區(qū)域，使得在應用于蒸鍍時，有機發(fā)光顆?？梢暂^大限度地到達玻璃基板上的預定位置，從而提高了OLED顯示屏的質量，提高了有機發(fā)光材料的使用率和成膜率，降低了OLED顯示屏的制造成本，并可有效延長蒸鍍罩的使用壽命。
文檔編號C23C14/04GK102978568SQ201210569638
公開日2013年3月20日 申請日期2012年12月25日 優(yōu)先權日2012年12月25日
發(fā)明者唐軍 申請人:唐軍, 錢超