專利名稱：一種蒸鍍設備的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及蒸發(fā)設備，具體是指一種制造有機電致發(fā)光器件的蒸發(fā)設備。
背景技術：
有機電致發(fā)光顯示器(OLED，Organic Light Emitting Diode)，是一種利用載 流子在電場作用下由正、負電極進入有機固體層復合而發(fā)光的現(xiàn)象制成的顯示器件，目前 OLED已廣泛用于手機、MP3、顯示器等多種產(chǎn)品上。OLED包括器件部分和模組部分其中模組部分為連接裝置和驅(qū)動電路，用以驅(qū)動 器件部分發(fā)光。器件部分包括多層材料堆疊的組合結構，該組合結構包括基板、陰極層、陽 極層和位于兩者之間的有機層，有機層包括通電后能夠發(fā)光的有機材料，現(xiàn)有的有機材料 分為兩種，一種為小分子有機材料，一種為高分子有機材料?，F(xiàn)有投入實際使用中的0LED， 基本采用的都是小分子有機材料。OLED器件部分制備包括制備陽極層、制備有機層和陰極層。其中有機層和陰極層 的制備是通過真空蒸鍍過程制備的。真空蒸鍍是指在真空環(huán)境中，將材料加熱使材料升華 后，使之在工件或基片表面析出的過程?，F(xiàn)有有機材料的蒸鍍設備包括腔體、蒸發(fā)源、坩堝、 基板，腔體內(nèi)為真空環(huán)境，蒸發(fā)源對坩堝進行加熱，有機材料蒸發(fā)后在基板上生成有機層。發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，現(xiàn)有技術存在以下缺陷在向坩堝中加入有機材料時，粉末狀的有機 材料間存在微小空隙，加料完畢在真空中加熱時，空隙中的空氣形成氣泡不斷向外涌出，使 得材料伴隨氣泡到處飛濺，飛濺到基板上的材料在基板上留下?lián)p壞點，導致基板損壞，從而 無法在基板上形成合格的有機層。技術方案本實用新型的目的在于克服上述缺陷，提供一種防止有機材料飛濺的蒸發(fā)設備。本實用新型的上述目的是通過如下技術方案予以實現(xiàn)的一種蒸鍍設備，包括蒸鍍室，位于蒸鍍室內(nèi)的坩堝，加熱坩堝的蒸發(fā)源，基板，還包 括有孔的擋板，擋板位于坩堝與基板之間，擋板上設有加熱裝置。其中，所述加熱裝置為加熱絲或加熱管或加熱片。其中，所述擋板通過支撐裝置固定于蒸鍍室內(nèi)。其中，擋板固定于真空室內(nèi)壁上。其中，所述擋板表面積大于所述坩堝開口面積。其中，所述擋板上的孔為以下形狀的一種或多種圓形、規(guī)則多邊形、不規(guī)則多邊形。其中，所述擋板為以下任一種形狀圓形、規(guī)則多邊形、不規(guī)則多邊形。本實用新型提供的蒸鍍設備，通過在坩堝上設置擋板和擋板加熱裝置，有效地防 止蒸發(fā)材料飛濺造成基板損壞的現(xiàn)象，同時防止了蒸發(fā)材料沉積在擋板上，堵塞擋板的孔 的優(yōu)點。
圖1為本實用新型所述蒸鍍設備立體示意圖；圖2為本實用新型所述蒸鍍設備側面透視圖；圖3為本實用新型所述蒸鍍設備擋板俯視結構示意圖；圖4為本實用新型所述蒸鍍設備具有加熱裝置的擋板俯視結構示意圖；圖5為本實用新型不需要支撐裝置的蒸鍍設備結構示意圖。
具體實施方式
下面通過具體實施例對本實用新型作進一步的詳細說明。如圖1，2所示，本專利所述蒸鍍設備包括蒸鍍室1、位于蒸鍍室底部的坩堝2、加熱 坩堝的蒸發(fā)源3，固定于坩堝上方的基板4，設置于坩堝2開口上方的擋板5，擋板表面積大 于所述坩堝開口面積，以能夠遮蓋住整個坩堝。擋板5位于基板4和坩堝2之間，通過擋板 支撐裝置6固定。擋板5結構如圖3所示，擋板5包括邊框51，板身52，孔53。結合圖2所示，對坩 堝中的材料進行加熱時，從坩堝中飛濺出的材料會被擋板5擋住，從而不會飛濺到基板上， 而升華的材料分子則可以穿過擋板上的孔53，到達基板，從而實現(xiàn)有機材料的沉積，形成有機層。基于上述方案的實踐，發(fā)明人還提出一種改進方案，該改進方案對擋板的結構進 行改進，改進后的擋板5還包括加熱裝置54，如圖4所示。加熱裝置的加熱溫度范圍為 室溫--600°C之間。當有機材料蒸發(fā)時，部分有機材料遇到擋板后會遇冷沉積在擋板上，而 無法到達基板，這樣不僅降低了材料的利用率，久而久之，還會造成擋板的孔被沉積材料堵 塞，更使有機材料無法到達基板。增加的加熱裝置通過對擋板進行加熱，使得沉積在擋板上 的材料再次升華，清除了堵塞在擋板上沉積的有機材料，并且，保持加熱狀態(tài)時的擋板使得 升華的有機材料無法附著在擋板上。加熱裝置可以為加熱絲，或加熱管、加熱片等。基于上述方案的實踐，發(fā)明人還提出一種改進方案，如圖5所示，該擋板5’固定于 真空室內(nèi)壁上，在擋板上設有孔53’和板身52’，而不需要支撐裝置。在擋板5’上還可以設 置加熱裝置。本實用新型提供的蒸鍍設備，通過在坩堝上設置擋板和擋板加熱裝置，有效地防 止蒸發(fā)材料飛濺造成基板損壞的現(xiàn)象，同時防止了蒸發(fā)材料沉積在擋板上，堵塞擋板的孔 的優(yōu)點。提高基板上蒸鍍的有機材料的均勻性。雖然本實用新型已以比較佳實施例揭露如上，然而其并非用以限定本實用新型， 任何熟悉此技術人士，在不脫離本實用新型的精神和范圍內(nèi)，當可作各種的更動與潤飾，因 此，本實用新型的保護范圍當以申請的專利范圍所界定為準。
權利要求1.一種蒸鍍設備，包括蒸鍍室，位于蒸鍍室內(nèi)的坩堝，加熱坩堝的蒸發(fā)源，基板，其特征 在于，還包括有孔的擋板，擋板位于坩堝與基板之間，擋板上設有加熱裝置。
2.如權利要求1所述的蒸鍍設備，其特征在于，所述加熱裝置為加熱絲或加熱管或加 熱片。
3.如權利要求1所述的蒸鍍設備，其特征在于，所述擋板通過支撐裝置固定于蒸鍍室內(nèi)。
4.如權利要求1所述的蒸鍍設備，其特征在于，擋板固定于真空室內(nèi)壁上。
5.如權利要求1所述的蒸鍍設備，其特征在于，所述擋板表面積大于所述坩堝開口面積。
6.如權利要求1所述的蒸鍍設備，其特征在于，所述擋板上的孔為以下形狀的一種或 多種圓形、規(guī)則多邊形、不規(guī)則多邊形。
7.如權利要求1所述的蒸鍍設備，其特征在于，所述擋板為以下任一種形狀圓形、規(guī) 則多邊形、不規(guī)則多邊形。
專利摘要本實用新型公開了一種蒸鍍設備，包括蒸鍍室，位于蒸鍍室內(nèi)的坩堝，加熱坩堝的蒸發(fā)源，基板，還包括有孔的擋板，擋板位于坩堝與基板之間，擋板上設有加熱裝置。本實用新型提供的蒸鍍設備，通過在坩堝上設置擋板和擋板加熱裝置，有效地防止蒸發(fā)材料飛濺造成基板損壞的現(xiàn)象，同時防止了蒸發(fā)材料沉積在擋板上，堵塞擋板的孔的優(yōu)點。
文檔編號C23C14/26GK201785478SQ20102020314
公開日2011年4月6日 申請日期2010年5月21日 優(yōu)先權日2010年5月21日
發(fā)明者張嵩, 邱勇 申請人:北京維信諾科技有限公司, 昆山維信諾顯示技術有限公司, 清華大學