專利名稱：移動(dòng)式弧光放電離子鍍膜設(shè)備及其應(yīng)用的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及離子鍍膜設(shè)備領(lǐng)域，具體為一種移動(dòng)式弧光放電離子鍍膜設(shè)備及其應(yīng)用，可應(yīng)用到飛機(jī)大型構(gòu)件的功能化處理，也可推廣應(yīng)用到航天飛行器、大型客貨船、軍艦、 快速列車、大型機(jī)械裝備、大型橋梁、大型發(fā)電機(jī)組、核電站等大型或重型器件的表面耐磨、 耐蝕以及各種功能性鍍膜處理。
背景技術(shù)：
目前，普遍使用的固定式離子鍍膜機(jī)一般只能對(duì)那些直接可以安裝到真空室內(nèi)的部件進(jìn)行鍍膜處理。對(duì)于那些無(wú)法裝入鍍膜設(shè)備真空室內(nèi)的大型部件、不能或不宜拆卸搬運(yùn)器件局部鍍膜處理無(wú)法實(shí)現(xiàn)。另外，有些部件雖然可以拆卸搬運(yùn)，但是由于拆裝和往復(fù)搬運(yùn)將浪費(fèi)許多時(shí)間，影響生產(chǎn)周期，給實(shí)際生產(chǎn)帶來(lái)許多不必要的經(jīng)濟(jì)損失。

發(fā)明內(nèi)容
為了解決那些無(wú)法或不便裝入鍍膜設(shè)備真空室內(nèi)的大型部件、不能或不宜拆卸搬運(yùn)器件的局部鍍膜處理，盡量減少由于拆裝和往復(fù)搬運(yùn)所引起的浪費(fèi)時(shí)間，影響生產(chǎn)周期并給實(shí)際生產(chǎn)帶來(lái)的不必要的經(jīng)濟(jì)損失等問(wèn)題。本發(fā)明提供一種移動(dòng)式弧光放電離子鍍膜設(shè)備。該設(shè)備不僅可以沉積單質(zhì)金屬膜、合金膜，而且還可以沉積各類化合物膜。本發(fā)明的技術(shù)方案是一種移動(dòng)式弧光放電離子鍍膜設(shè)備，該設(shè)備設(shè)有真空腔體、真空機(jī)組、蒸發(fā)源、電源控制單元、溫度監(jiān)測(cè)單元、復(fù)合真空計(jì)，抽氣機(jī)組的抽氣口與真空腔體的排氣口相連接， 蒸發(fā)源電源控制單元的正極和負(fù)極分別連接于真空腔體的外殼和蒸發(fā)源的靶材上；偏壓電源的正極和負(fù)極分別連接于真空腔體的外殼和被鍍工件上；復(fù)合真空計(jì)的高、低真空規(guī)探頭分別與安裝在真空腔體底部的離子真空規(guī)管和熱阻規(guī)管相連接；溫度監(jiān)測(cè)單元與安裝在真空腔體底部的熱電偶相連接。所述的移動(dòng)式弧光放電離子鍍膜設(shè)備，真空腔體的下部安裝有平衡支柱。所述的移動(dòng)式弧光放電離子鍍膜設(shè)備，真空腔體材料為不銹鋼，真空腔體壁厚為 8 10毫米，真空腔體內(nèi)徑為0 300 400毫米，真空腔體高度為200 300毫米。所述的移動(dòng)式弧光放電離子鍍膜設(shè)備，真空腔體設(shè)有排氣口、窺視孔、冷卻水管、 工作氣體導(dǎo)入口、熱電偶導(dǎo)入口、蒸發(fā)源安裝法蘭、真空規(guī)管安裝孔，真空腔體的兩側(cè)分別開有排氣口、窺視孔，真空腔體的側(cè)壁為雙層結(jié)構(gòu)，所述雙層結(jié)構(gòu)之間設(shè)有冷卻水管，真空腔體底部開有工作氣體導(dǎo)入口、熱電偶導(dǎo)入口和真空規(guī)管安裝孔，真空腔體設(shè)有蒸發(fā)源安裝法蘭。所述的移動(dòng)式弧光放電離子鍍膜設(shè)備，真空機(jī)組設(shè)有機(jī)械泵、擴(kuò)散泵、擴(kuò)散泵閥、 初級(jí)閥、次級(jí)閥、過(guò)渡連接彎管、真空室放氣閥、泵口電磁充氣閥、真空規(guī)管安裝孔，泵口電磁充氣閥與機(jī)械泵泵口直接相連，機(jī)械泵泵口電磁充氣閥通過(guò)連接管分別與擴(kuò)散泵閥和初級(jí)閥相連接，真空規(guī)管安裝孔置于與擴(kuò)散泵閥連接的連接管圓周上，初級(jí)閥通過(guò)連接管與過(guò)渡連接彎管相連，擴(kuò)散泵閥通過(guò)連接管與擴(kuò)散泵的排氣口相連，次級(jí)閥的一端與擴(kuò)散泵的抽氣口直連、次級(jí)閥的另一端與過(guò)渡連接彎管的一端相連，真空室放氣閥安裝在過(guò)渡連接彎管的圓周上。所述的移動(dòng)式弧光放電離子鍍膜設(shè)備，蒸發(fā)源設(shè)有蒸發(fā)源安裝法蘭、弧源絕緣件、 弧源緊固件、弧源導(dǎo)管、弧源端蓋、冷卻水導(dǎo)入管、冷卻水導(dǎo)入管緊固件、引弧針、弧源磁鐵組件、靶材、屏蔽罩，屏蔽罩絕緣件固定在蒸發(fā)源安裝法蘭內(nèi)側(cè)，并與靶材圓周保持間隙；靶材通過(guò)螺紋與弧源導(dǎo)管相互連接，弧源導(dǎo)管一端通過(guò)密封圈與靶材密封；弧源導(dǎo)管穿過(guò)蒸發(fā)源安裝法蘭中孔，弧源導(dǎo)管與蒸發(fā)源安裝法蘭之間安裝絕緣墊保持絕緣；弧源導(dǎo)管外設(shè)置弧源絕緣件，弧源絕緣件的另一端通過(guò)與弧源導(dǎo)管螺紋連接的弧源緊固件壓緊，弧源緊固件通過(guò)螺紋把弧源導(dǎo)管和靶材固定在蒸發(fā)源安裝法蘭上；弧源端蓋通過(guò)螺紋擰緊在弧源導(dǎo)管的另一端，弧源導(dǎo)管的尾部通過(guò)密封圈與弧源端蓋密封；弧源磁鐵組件通過(guò)螺紋安裝在冷卻水導(dǎo)入管的一端，冷卻水導(dǎo)入管穿越弧源端蓋的中孔，通過(guò)冷卻水導(dǎo)入管緊固件螺紋連接在弧源端蓋上，弧源磁鐵組件通過(guò)置于冷卻水導(dǎo)入管的一端并緊套在冷卻水導(dǎo)入管圓周上的密封圈達(dá)到液體密封；引弧針安裝在蒸發(fā)源安裝法蘭上，引弧針的頭部與靶材表面保持1.5 2毫米的距離。所述的移動(dòng)式弧光放電離子鍍膜設(shè)備，還設(shè)有壓蓋，壓蓋設(shè)于弧源絕緣件一端的臺(tái)肩上，使弧源絕緣件固定于蒸發(fā)源安裝法蘭外側(cè)。所述的移動(dòng)式弧光放電離子鍍膜設(shè)備的應(yīng)用，該設(shè)備應(yīng)用到飛機(jī)大型構(gòu)件的功能化處理，或者推廣應(yīng)用到航天飛行器、大型客貨船、軍艦、快速列車、大型機(jī)械裝備、大型橋梁、大型發(fā)電機(jī)組或核電站的表面耐磨、耐蝕或各種功能性鍍膜處理。本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)及有益效果是1、本發(fā)明移動(dòng)式弧光放電離子鍍膜設(shè)備，該設(shè)備重量輕、體積小，便于搬運(yùn)。2、本發(fā)明不僅可以實(shí)現(xiàn)對(duì)于那些無(wú)法裝入鍍膜設(shè)備真空室內(nèi)的大型部件進(jìn)行局部鍍膜處理，而且還可以將設(shè)備搬運(yùn)到現(xiàn)場(chǎng)對(duì)那些不能或不宜拆卸搬運(yùn)器件進(jìn)行局部鍍膜處理，盡量減少由于拆裝和往復(fù)搬運(yùn)所引起的浪費(fèi)時(shí)間，影響生產(chǎn)周期并給實(shí)際生產(chǎn)帶來(lái)的不必要的經(jīng)濟(jì)損失。3、本發(fā)明操作比較簡(jiǎn)單，設(shè)備可以在360度圓周內(nèi)每隔45度靈活轉(zhuǎn)動(dòng)，便于對(duì)那些無(wú)法拆卸部件的適配。4、本發(fā)明設(shè)備功率比較小(低于6KW)，幾乎是有380伏動(dòng)力電源的地方就可以原地對(duì)部件進(jìn)行鍍膜處理。5、本發(fā)明投入成本低，占地面積小，無(wú)污染。


圖1移動(dòng)式弧光放電離子鍍膜設(shè)備結(jié)構(gòu)原理示意圖。圖中，1、真空腔體；2、真空機(jī)組；3、蒸發(fā)源；4、電源控制單元；5、平衡支柱；6、溫度監(jiān)測(cè)單元；7、復(fù)合真空計(jì)；8、偏壓電源。圖2真空腔體示意圖。圖中，11、排氣口 ；12、窺視孔；13、冷卻水管；14、工作氣體導(dǎo)入口 ；15、熱電偶導(dǎo)入
口 ；16、蒸發(fā)源安裝法蘭；17、真空規(guī)管安裝孔。
圖3真空機(jī)組示意圖。圖中，21、機(jī)械泵；22、電磁充氣閥；23、擴(kuò)散泵閥；24、真空規(guī)管安裝孔；25、初級(jí)閥；26、過(guò)渡連接彎管；27、放氣閥；28、次級(jí)閥；29、擴(kuò)散泵。圖4蒸發(fā)源的組裝示意圖。圖中，301、蒸發(fā)源安裝法蘭；302、弧源絕緣件(聚四氟乙烯)；303、弧源緊固件； 304、弧源導(dǎo)管；305、弧源端蓋；306、冷卻水導(dǎo)入管；307、冷卻水導(dǎo)入管緊固件；308、壓蓋； 309、引弧針；310、弧源磁鐵組件；311、靶材；312、屏蔽罩。圖5大型板材用密封過(guò)渡接頭。圖6大型圓柱體用密封過(guò)渡接頭。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步說(shuō)明。如圖1所示，本發(fā)明移動(dòng)式弧光放電離子鍍膜設(shè)備，主要包括真空腔體1、真空機(jī)組2、蒸發(fā)源3、電源控制單元4、平衡支柱5、溫度監(jiān)測(cè)單元6、復(fù)合真空計(jì)7、偏壓電源8等。 具體結(jié)構(gòu)如下抽氣機(jī)組2的抽氣口與真空腔體1的排氣口相連接，鍍膜真空室開口方向可根據(jù)實(shí)際需求，通過(guò)連接法蘭上的8個(gè)螺栓間隔45度沿圓周旋轉(zhuǎn)；蒸發(fā)源電源控制單元4的正極和負(fù)極分別連接于真空腔體1的外殼和蒸發(fā)源3的靶材上；偏壓電源8的正極和負(fù)極分別連接于真空腔體1的外殼和被鍍工件上；復(fù)合真空計(jì)7的高、低真空規(guī)探頭分別與安裝在真空腔體1底部的離子真空規(guī)管和熱阻規(guī)管相連接；溫度監(jiān)測(cè)單元6與安裝在真空腔體1 底部的熱電偶相連接；平衡支柱5安裝于真空腔體1的下部，以保持鍍膜系統(tǒng)整體的平衡。如圖2所示，本發(fā)明中的真空腔體材料為不銹鋼，腔體壁厚為8 10毫米，腔體內(nèi)徑為Φ 300 400毫米，腔體高度為200 300毫米。本實(shí)施例中，真空腔體1材料為2Crl3 不銹鋼，真空腔體1壁厚為10毫米，真空腔體1內(nèi)徑為C 360毫米，真空腔體1高度為300 毫米。主要包括排氣口 11、窺視孔12、冷卻水管13、工作氣體導(dǎo)入口 14、熱電偶導(dǎo)入口 15、 蒸發(fā)源安裝法蘭16、真空規(guī)管安裝孔17等，其具體結(jié)構(gòu)如下真空腔體1的兩側(cè)分別開有排氣口 11、窺視孔12，真空腔體1的側(cè)壁為雙層結(jié)構(gòu)， 所述雙層結(jié)構(gòu)之間設(shè)有冷卻水管13，真空腔體1底部開有工作氣體導(dǎo)入口 14、熱電偶導(dǎo)入口 15和真空規(guī)管安裝孔17，真空腔體1設(shè)有蒸發(fā)源安裝法蘭16。如圖3所示，真空機(jī)組由4升/秒的機(jī)械泵21、泵口直徑為100毫米的擴(kuò)散泵29、 真空閥門(擴(kuò)散泵閥23、初級(jí)閥25、次級(jí)閥28)、過(guò)渡連接彎管沈、真空室放氣閥27、泵口電磁充氣閥22、真空規(guī)管安裝孔M以及連接管等構(gòu)成，具體結(jié)構(gòu)如下泵口電磁充氣閥22與機(jī)械泵21泵口直接相連，機(jī)械泵泵口電磁充氣閥22通過(guò)連接管分別與擴(kuò)散泵閥23和初級(jí)閥25相連接，真空規(guī)管安裝孔M置于與擴(kuò)散泵閥23連接的連接管圓周上，初級(jí)閥25通過(guò)連接管與過(guò)渡連接彎管沈相連，擴(kuò)散泵閥23通過(guò)連接管與擴(kuò)散泵四的排氣口相連，次級(jí)閥觀的一端與擴(kuò)散泵四的抽氣口直連、次級(jí)閥觀的另一端與過(guò)渡連接彎管沈的一端相連，真空室放氣閥27安裝在過(guò)渡連接彎管四的圓周上。如圖4所示，本實(shí)施例中的蒸發(fā)源由蒸發(fā)源安裝法蘭301、弧源絕緣件302、弧源緊固件303、弧源導(dǎo)管304、弧源端蓋305、冷卻水導(dǎo)入管306、冷卻水導(dǎo)入管緊固件307、壓蓋308、引弧針309、弧源磁鐵組件310、靶材311、屏蔽罩312等構(gòu)成。其具體結(jié)構(gòu)如下屏蔽罩312通過(guò)四個(gè)絕緣件固定在蒸發(fā)源安裝法蘭301內(nèi)側(cè)，并與靶材311圓周保持約1毫米的等距；靶材311通過(guò)螺紋與弧源導(dǎo)管304相互連接，弧源導(dǎo)管304 —端 (前部)通過(guò)密封圈與靶材311密封；弧源導(dǎo)管304穿過(guò)蒸發(fā)源安裝法蘭301中孔，弧源導(dǎo)管304與蒸發(fā)源安裝法蘭301之間安裝絕緣墊保持絕緣，弧源導(dǎo)管304外設(shè)置弧源絕緣件 302，壓蓋308壓設(shè)于弧源絕緣件302 —端的臺(tái)肩上，使弧源絕緣件302固定于蒸發(fā)源安裝法蘭301外側(cè)，弧源絕緣件302的另一端通過(guò)與弧源導(dǎo)管304螺紋連接的弧源緊固件303 壓緊，利用弧源緊固件303通過(guò)螺紋把弧源導(dǎo)管304和靶材311固定在蒸發(fā)源安裝法蘭301 上；將弧源端蓋305通過(guò)螺紋擰緊在弧源導(dǎo)管304的另一端(尾部)，弧源導(dǎo)管304的尾部通過(guò)密封圈與弧源端蓋305密封；弧源磁鐵組件310通過(guò)螺紋安裝在冷卻水導(dǎo)入管306的一端(前端)，冷卻水導(dǎo)入管306穿越弧源端蓋305的中孔，通過(guò)冷卻水導(dǎo)入管緊固件307 螺紋連接在弧源端蓋305上，弧源磁鐵組件310通過(guò)置于冷卻水導(dǎo)入管306的一端(前端) 并緊套在冷卻水導(dǎo)入管306圓周上的密封圈達(dá)到液體密封；引弧針309安裝在蒸發(fā)源安裝法蘭301上，引弧針309的頭部與靶材表面保持1. 5 2毫米的距離。本發(fā)明的工作過(guò)程如下首先，啟動(dòng)機(jī)械泵21，打開擴(kuò)散泵閥23將擴(kuò)散腔體內(nèi)壓力抽至5 以下，然后給擴(kuò)散泵四通冷卻水并加熱，加熱40分鐘后關(guān)擴(kuò)散泵閥23，開初級(jí)閥25將真空腔體內(nèi)壓力抽到5 后，關(guān)初級(jí)閥25，開擴(kuò)散泵閥23，開次級(jí)閥觀，將真空腔體內(nèi)壓力抽到0. OlPa以后， 給真空腔體1和蒸發(fā)源靶材311通冷卻水，接通偏壓電源并調(diào)整到0 200伏，通入高純氬氣使得真空室內(nèi)壓力至約0. 6Pa，啟動(dòng)引弧針309引弧，調(diào)整蒸發(fā)源電流到約50 100安， 鍍膜至所需時(shí)間。對(duì)于大型平板狀器件局部需要鍍膜處理時(shí)，真空室開口端與鍍件之間的密封過(guò)渡接頭如圖5所示，所用材料為聚四氟乙烯，其形狀為一外徑400毫米、內(nèi)徑360毫米、厚度10 毫米的圓環(huán)。以鍍膜部位為中心，將密封過(guò)渡接頭的一面用704硅橡膠(膠黏劑)與板材粘結(jié)在一起，在20°C左右的室溫、空氣中放置1小時(shí)后即可將密封過(guò)渡接頭的另一面與真空室開口端的密封圈相適配，然后使得密封圈與過(guò)渡接頭的接觸平面完全貼緊即可開始抽真空并進(jìn)行鍍膜處理。當(dāng)大型圓柱體器件局部需要鍍膜處理時(shí)，真空室開口端與鍍件之間的密封過(guò)渡接頭如圖6所示，所用材料為聚四氟乙烯，其形狀為外徑420毫米、內(nèi)徑360毫米、高度300毫米的圓柱體(環(huán))，圓柱體一端加工成密封平面，另一端加工成弧面，該弧面半徑與需要鍍膜的圓柱體器件側(cè)面相適配。以鍍膜部位為中心，將密封過(guò)渡接頭的圓柱面用704硅橡膠 (膠黏劑)與圓柱體器件的適配面粘結(jié)在一起，在20°C左右的室溫、空氣中放置1小時(shí)后即可將密封過(guò)渡接頭的平面與真空室開口端的密封圈相適配，使得密封圈與過(guò)渡接頭的接觸平面完全貼緊即可開始抽真空并進(jìn)行鍍膜處理。本發(fā)明的移動(dòng)式弧光放電離子鍍系統(tǒng)的體積小于1.2米XI. 2米XI. 5米，重量低于600公斤，極限真空為3 X 10_3Pa，最大運(yùn)行功率低于6KW，連續(xù)鍍膜時(shí)間可達(dá)120小時(shí)， 鍍膜真空室開口方向可根據(jù)實(shí)際需求，間隔45度進(jìn)行左右旋轉(zhuǎn)，真空室開口端與鍍件之間的密封需根據(jù)鍍膜部位的實(shí)際形狀加工過(guò)渡接頭來(lái)連接和密封。本發(fā)明通過(guò)小型貨車載運(yùn)到實(shí)際需要鍍膜處理部件的現(xiàn)場(chǎng)，解決那些無(wú)法或不便裝入鍍膜設(shè)備真空室內(nèi)的大型部件、不能或不宜拆卸搬運(yùn)器件的局部鍍膜處理，可應(yīng)用到飛機(jī)大型構(gòu)件的功能化處理，也可推廣應(yīng)用到航天飛行器、大型客貨船、軍艦、快速列車、大型機(jī)械裝備、大型橋梁、大型發(fā)電機(jī)組、核電站等大型或重型器件的表面耐磨、耐蝕以及各種功能性鍍膜處理。
權(quán)利要求
1.一種移動(dòng)式弧光放電離子鍍膜設(shè)備，其特征在于該設(shè)備設(shè)有真空腔體、真空機(jī)組、 蒸發(fā)源、電源控制單元、溫度監(jiān)測(cè)單元、復(fù)合真空計(jì)，抽氣機(jī)組的抽氣口與真空腔體的排氣口相連接，蒸發(fā)源電源控制單元的正極和負(fù)極分別連接于真空腔體的外殼和蒸發(fā)源的靶材上；偏壓電源的正極和負(fù)極分別連接于真空腔體的外殼和被鍍工件上；復(fù)合真空計(jì)的高、 低真空規(guī)探頭分別與安裝在真空腔體底部的離子真空規(guī)管和熱阻規(guī)管相連接；溫度監(jiān)測(cè)單元與安裝在真空腔體底部的熱電偶相連接。
2.按照權(quán)利要求1所述的移動(dòng)式弧光放電離子鍍膜設(shè)備，其特征在于真空腔體的下部安裝有平衡支柱。
3.按照權(quán)利要求1所述的移動(dòng)式弧光放電離子鍍膜設(shè)備，其特征在于真空腔體材料為不銹鋼，真空腔體壁厚為8 10毫米，真空腔體內(nèi)徑為C 300 400毫米，真空腔體高度為200 300毫米。
4.按照權(quán)利要求1所述的移動(dòng)式弧光放電離子鍍膜設(shè)備，其特征在于真空腔體設(shè)有排氣口、窺視孔、冷卻水管、工作氣體導(dǎo)入口、熱電偶導(dǎo)入口、蒸發(fā)源安裝法蘭、真空規(guī)管安裝孔，真空腔體的兩側(cè)分別開有排氣口、窺視孔，真空腔體的側(cè)壁為雙層結(jié)構(gòu)，所述雙層結(jié)構(gòu)之間設(shè)有冷卻水管，真空腔體底部開有工作氣體導(dǎo)入口、熱電偶導(dǎo)入口和真空規(guī)管安裝孔，真空腔體設(shè)有蒸發(fā)源安裝法蘭。
5.按照權(quán)利要求1所述的移動(dòng)式弧光放電離子鍍膜設(shè)備，其特征在于真空機(jī)組設(shè)有機(jī)械泵、擴(kuò)散泵、擴(kuò)散泵閥、初級(jí)閥、次級(jí)閥、過(guò)渡連接彎管、真空室放氣閥、泵口電磁充氣閥、真空規(guī)管安裝孔，泵口電磁充氣閥與機(jī)械泵泵口直接相連，機(jī)械泵泵口電磁充氣閥通過(guò)連接管分別與擴(kuò)散泵閥和初級(jí)閥相連接，真空規(guī)管安裝孔置于與擴(kuò)散泵閥連接的連接管圓周上，初級(jí)閥通過(guò)連接管與過(guò)渡連接彎管相連，擴(kuò)散泵閥通過(guò)連接管與擴(kuò)散泵的排氣口相連，次級(jí)閥的一端與擴(kuò)散泵的抽氣口直連、次級(jí)閥的另一端與過(guò)渡連接彎管的一端相連，真空室放氣閥安裝在過(guò)渡連接彎管的圓周上。
6.按照權(quán)利要求1所述的移動(dòng)式弧光放電離子鍍膜設(shè)備，其特征在于蒸發(fā)源設(shè)有蒸發(fā)源安裝法蘭、弧源絕緣件、弧源緊固件、弧源導(dǎo)管、弧源端蓋、冷卻水導(dǎo)入管、冷卻水導(dǎo)入管緊固件、引弧針、弧源磁鐵組件、靶材、屏蔽罩，屏蔽罩絕緣件固定在蒸發(fā)源安裝法蘭內(nèi)側(cè)，并與靶材圓周保持間隙；靶材通過(guò)螺紋與弧源導(dǎo)管相互連接，弧源導(dǎo)管一端通過(guò)密封圈與靶材密封；弧源導(dǎo)管穿過(guò)蒸發(fā)源安裝法蘭中孔，弧源導(dǎo)管與蒸發(fā)源安裝法蘭之間安裝絕緣墊保持絕緣；弧源導(dǎo)管外設(shè)置弧源絕緣件，弧源絕緣件的另一端通過(guò)與弧源導(dǎo)管螺紋連接的弧源緊固件壓緊，弧源緊固件通過(guò)螺紋把弧源導(dǎo)管和靶材固定在蒸發(fā)源安裝法蘭上； 弧源端蓋通過(guò)螺紋擰緊在弧源導(dǎo)管的另一端，弧源導(dǎo)管的尾部通過(guò)密封圈與弧源端蓋密封；弧源磁鐵組件通過(guò)螺紋安裝在冷卻水導(dǎo)入管的一端，冷卻水導(dǎo)入管穿越弧源端蓋的中孔，通過(guò)冷卻水導(dǎo)入管緊固件螺紋連接在弧源端蓋上，弧源磁鐵組件通過(guò)置于冷卻水導(dǎo)入管的一端并緊套在冷卻水導(dǎo)入管圓周上的密封圈達(dá)到液體密封；引弧針安裝在蒸發(fā)源安裝法蘭上，引弧針的頭部與靶材表面保持1. 5 2毫米的距離。
7.按照權(quán)利要求6所述的移動(dòng)式弧光放電離子鍍膜設(shè)備，其特征在于還設(shè)有壓蓋，壓蓋設(shè)于弧源絕緣件一端的臺(tái)肩上，使弧源絕緣件固定于蒸發(fā)源安裝法蘭外側(cè)。
8.按照權(quán)利要求1所述的移動(dòng)式弧光放電離子鍍膜設(shè)備的應(yīng)用，其特征在于該設(shè)備應(yīng)用到飛機(jī)大型構(gòu)件的功能化處理，或者推廣應(yīng)用到航天飛行器、大型客貨船、軍艦、快速列車、大型機(jī)械裝備、大型橋梁、大型發(fā)電機(jī)組或核電站的表面耐磨、耐蝕或各種功能性鍍膜處理。
全文摘要
本發(fā)明涉及離子鍍膜設(shè)備領(lǐng)域，具體為一種移動(dòng)式弧光放電離子鍍膜設(shè)備及其應(yīng)用，可應(yīng)用到飛機(jī)大型構(gòu)件的功能化處理，也可推廣應(yīng)用到航天飛行器、大型客貨船等大型或重型器件的表面耐磨、耐蝕以及各種功能性鍍膜處理。抽氣機(jī)組的抽氣口與真空腔體的排氣口相連接，蒸發(fā)源電源控制單元的正極和負(fù)極分別連接于真空腔體的外殼和蒸發(fā)源的靶材上；偏壓電源的正極和負(fù)極分別連接于真空腔體的外殼和被鍍工件上；復(fù)合真空計(jì)的高、低真空規(guī)探頭分別與安裝在真空腔體底部的離子真空規(guī)管和熱阻規(guī)管相連接；溫度監(jiān)測(cè)單元與安裝在真空腔體底部的熱電偶相連接。本發(fā)明解決不便裝入鍍膜設(shè)備真空室內(nèi)的大型部件、不宜拆卸搬運(yùn)器件的局部鍍膜處理等問(wèn)題。
文檔編號(hào)C23C14/24GK102312196SQ20101021951
公開日2012年1月11日 申請(qǐng)日期2010年7月7日 優(yōu)先權(quán)日2010年7月7日
發(fā)明者于志明, 何宇廷, 崔榮洪, 牛云松 申請(qǐng)人:中國(guó)科學(xué)院金屬研究所