專(zhuān)利名稱(chēng)：無(wú)塵室中逆轉(zhuǎn)濺鍍涂覆系統(tǒng)進(jìn)料的方法及裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及逆轉(zhuǎn)濺鍍涂覆系統(tǒng)進(jìn)料的裝置以及方法。
背景技術(shù)：
我們的每天必需品所附屬的大量科技裝置在生產(chǎn)期間需要濺鍍涂覆，我們可以在計(jì)算機(jī)硬盤(pán)、CD儲(chǔ)存媒體以及LCD平面屏幕、濺鍍軸承、現(xiàn)代熱保護(hù)玻璃、鏡子、商素發(fā)射器、或汽車(chē)頭燈中發(fā)現(xiàn)這些層，所有這些有用的事情皆無(wú)法在沒(méi)有利用濺鍍的涂覆的情形下實(shí)現(xiàn)。英文用辭濺鍍(“to sputter","sputtering")表示陰極濺鍍程序，在此情形下， 氬離子撞擊陰極(所謂的標(biāo)靶)，在此，會(huì)出現(xiàn)500伏特的典型電壓。當(dāng)離子撞擊時(shí)，原子自該陰極中釋出，并聚集在周?chē)?，此則可導(dǎo)致層的成長(zhǎng)，濺鍍涂覆的重要構(gòu)件是所謂的磁電管 (與磁力系統(tǒng)整合在一起的陰極)以及真空腔室(接收器腔室)。在許多情況下，要進(jìn)行涂覆的材料是大玻璃片。當(dāng)生產(chǎn)具有相對(duì)而言較大設(shè)計(jì)的平面屏幕時(shí)以及在量大時(shí)，也需要生產(chǎn)及進(jìn)一步處理如此大型的、對(duì)沖擊敏感的片狀物?，F(xiàn)在平面屏幕逐漸地取代老式的映像管屏幕，并且，也變得越來(lái)越便宜。它們所根據(jù)的是TFT/IXD技術(shù)，在此背景中，IXD(液晶顯示器)表示在屏幕的個(gè)別像素中使用液晶，以及TFT代表薄膜晶體管。TFTs是非常小的晶體管組件，其控制液晶的方位，以及因此，液晶的光運(yùn)輸。平面屏幕顯示器是由眾多的像素所構(gòu)成，每一個(gè)像素依序由對(duì)應(yīng)于顏色紅、綠、以及藍(lán)的3個(gè)LCD細(xì)胞(子像素)所構(gòu)成，一個(gè)(以對(duì)角線(xiàn)測(cè)量的)15寸的屏幕包含大約 800000個(gè)像素、或大約2. 4百萬(wàn)個(gè)IXD細(xì)胞。然而，光伏組件的生產(chǎn)也需要濺鍍系統(tǒng)?，F(xiàn)代的玻璃正面毫無(wú)爭(zhēng)議地是現(xiàn)代建筑的象征，然而，在許多情形中，它們并不僅是結(jié)構(gòu)的功能組件而已，而是在事實(shí)上也漸增地作為產(chǎn)生太陽(yáng)能之用。定做的太陽(yáng)能模塊使其能夠與建筑物框格以及外型精準(zhǔn)地整合。除了半透明太陽(yáng)能電池以外，具有透明區(qū)域的不透光太陽(yáng)能電池也能讓光伏鑲嵌玻璃充滿(mǎn)光線(xiàn)。在此，太陽(yáng)能電池通常具有抵抗太陽(yáng)以及強(qiáng)光的所需保護(hù)效果。如此的光伏系統(tǒng)的生產(chǎn)需要的操作條件正如主要在生產(chǎn)半導(dǎo)體以及積體電子電路時(shí)為習(xí)知的那些。然而，在生產(chǎn)光伏系統(tǒng)時(shí)，這些所謂的無(wú)塵室條件卻額外地使得掌控具有大表面積的沖擊敏感玻璃片變得必須。光伏組件以及TFT屏幕兩者的生產(chǎn)需要所謂的無(wú)塵室。無(wú)塵室、或超凈室(ultraclean room)，是落塵粒子的濃度受到控制的房間，其所建構(gòu)以及使用的方式是，導(dǎo)入房間的粒子數(shù)量、或是在房間中所產(chǎn)生以及沉淀的粒子數(shù)量盡可能的小，并且，例如，溫度、濕度、或空氣壓力等其它的參數(shù)，亦根據(jù)要求進(jìn)行控制。然而，即使在超凈室中，大屏幕的生產(chǎn)亦需要特殊的機(jī)器來(lái)掌控于此情形中所需要的大表面薄玻璃片。
為了這個(gè)目的，其主要有可能地是使用多軸工業(yè)機(jī)器手臂，在生產(chǎn)各種產(chǎn)品的技術(shù)中，多軸工業(yè)機(jī)械手臂技術(shù)的各種實(shí)施例的使用可由習(xí)知技術(shù)中收集得到。此型態(tài)的工業(yè)機(jī)械手臂大部分是用于大型大樓中運(yùn)輸龐大且笨重的負(fù)載，但亦可以具優(yōu)勢(shì)地用在生產(chǎn)較小的機(jī)器部件。在所有的情形中，重要地是，各自抓取操作、運(yùn)輸移動(dòng)、以及安置操作等動(dòng)作順序的可再現(xiàn)精準(zhǔn)度。在此，發(fā)生這些動(dòng)作順序的環(huán)境在許多情形下是不重要的，舉例而言，最無(wú)關(guān)緊要地是，如此的一動(dòng)作順序造成的噪音發(fā)射、或是如此的一操作是否關(guān)連于灰塵的移動(dòng)、或潤(rùn)滑劑的較多或較少泄漏，造成摩擦力的移動(dòng)機(jī)器部件時(shí)無(wú)可避免的耗損亦對(duì)絕大多數(shù)的情形而言是不重要的。相較之下，當(dāng)于具污染風(fēng)險(xiǎn)的環(huán)境中運(yùn)作時(shí)，舉例而言，在食品加工工業(yè)中、在制藥工業(yè)中、或是甚至在于無(wú)塵室里進(jìn)行的半導(dǎo)體生產(chǎn)中，就必須要考慮此種型態(tài)的自然后果。因此，EP 1 541 296 Al揭示一種使用于具污染風(fēng)險(xiǎn)環(huán)境中的操作器，例如，工業(yè)機(jī)械手臂，其在該操作器的驅(qū)動(dòng)單元區(qū)域中具有一些可充以清除介質(zhì)的清除室。如此之裝置的例子中，其欲解決問(wèn)題是，如何更進(jìn)一步地發(fā)展該裝置，以使得該操作器可以結(jié)構(gòu)上簡(jiǎn)單的方式，以及因此，特別地是，以低成本的方式，而在一具污染風(fēng)險(xiǎn)的環(huán)境中安全地使用。 此問(wèn)題是透過(guò)關(guān)連于多個(gè)驅(qū)動(dòng)單元群組中每一個(gè)的專(zhuān)屬清除室而獲得解決(權(quán)利要求1)。雖然如此的工業(yè)機(jī)械手臂所欲使用的環(huán)境，對(duì)于污染更為敏感，以及因此，相較于正常環(huán)境，亦對(duì)設(shè)計(jì)架構(gòu)有更高的需求，但此型態(tài)的特殊需求卻無(wú)法與無(wú)塵室中所規(guī)定的條件相比較。DE 10 2007 009 924 Al更進(jìn)一步揭示一連續(xù)涂覆系統(tǒng)，一種產(chǎn)生結(jié)晶薄膜以及太陽(yáng)能電池的方法，以及一種太陽(yáng)能電池。此已知的連續(xù)涂覆系統(tǒng)解決了提供適合沉積高質(zhì)量結(jié)晶薄膜以及適合大量生產(chǎn)高質(zhì)量結(jié)晶硅層的連續(xù)涂覆系統(tǒng)的問(wèn)題，其中，必要處理步驟的數(shù)量不會(huì)非常高。此問(wèn)題是通過(guò)一連續(xù)涂覆系統(tǒng)的方式解決，所述系統(tǒng)包括a)真空腔室，具有一供應(yīng)開(kāi)口，以供應(yīng)待涂覆基板，以及排出開(kāi)口，以排出已涂覆的基質(zhì)；b)物理蒸氣沉積單元，用于涂覆該基板的表面；C)激光結(jié)晶系統(tǒng)，以用于利用至少一激光光束同時(shí)照射基板表面的已于當(dāng)前涂覆部分區(qū)域的至少一子部分區(qū)域；以及d)包括運(yùn)輸單元，用于將該基板朝饋通方向而自該供應(yīng)開(kāi)口運(yùn)輸至該排出開(kāi)口， 以及用于連續(xù)地、或非連續(xù)地在其涂覆期間朝饋通方向移動(dòng)該基板。然而，一些濺鍍程序必須重復(fù)地施加具有不同、或相同成分的濺鍍材料。為了這個(gè)目的，接著所必須的就是連續(xù)設(shè)置的多個(gè)不同的濺鍍系統(tǒng)，但以空間的觀點(diǎn)來(lái)看，它們需要相當(dāng)大量的空間，相較之下，若不同的濺鍍系統(tǒng)以空間上接近在一起的緊縮方式而進(jìn)行配置時(shí)，則不僅是空間，能量同樣可以獲得節(jié)省。然而，在此情形中，待涂覆的基板為了要再次進(jìn)入另一濺鍍系統(tǒng)的區(qū)域中卻必須要旋轉(zhuǎn)。無(wú)法由DE 10 2007 009 924 Al的已知系統(tǒng)而推論出在相同濺鍍系統(tǒng)中對(duì)相同基
板進(jìn)行更新涂覆的運(yùn)輸裝置。
DE 695 04 716 T2敘述一種適合高真空以及具有旋轉(zhuǎn)單元的基板掌控裝置，一基板載體被置入后者之中，且通過(guò)運(yùn)送裝置，例如，滾筒的方式，而被運(yùn)輸至單獨(dú)的處理室。在此，并未明確地?cái)⑹鲇糜趯?duì)準(zhǔn)該旋轉(zhuǎn)單元的裝置以及用于檢查濺鍍程序的偵測(cè)單元，再者， 該份文件亦未考慮到重復(fù)地提供具有不同、或相同成分的濺鍍材料的問(wèn)題。因此，DE 695 04 716 T2并未顯示任何解決本發(fā)明所處理問(wèn)題的建議。類(lèi)似地，DE 197 15 151 Al敘述一種用于通過(guò)一旋轉(zhuǎn)/推擠機(jī)制而將一基板載體
運(yùn)輸進(jìn)入一處理室的裝置。該份文件同樣并未考慮到重復(fù)供應(yīng)濺鍍材料。DE 20 2008 004 228 Ul (出自于本案申請(qǐng)人)揭示在無(wú)塵室中于滾筒上運(yùn)輸?shù)?br> 基板載體。其中并未討論如何定位欲進(jìn)行重復(fù)濺鍍程序的基板的特殊問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容
因此，根據(jù)本發(fā)明的裝置以及根據(jù)本發(fā)明的方法所處理的問(wèn)題是，當(dāng)在無(wú)塵室條件下運(yùn)輸大且薄的玻璃片至一濺鍍系統(tǒng)以及自一濺鍍系統(tǒng)運(yùn)輸大且薄的玻璃片時(shí)，如何致能可簡(jiǎn)單執(zhí)行的旋轉(zhuǎn)，為了重復(fù)供應(yīng)濺鍍材料而對(duì)第一濺鍍程序以及對(duì)相同濺鍍系統(tǒng)的更新供應(yīng)的檢查，或一生產(chǎn)系統(tǒng)的一些其它部分。此問(wèn)題可通過(guò)根據(jù)權(quán)利要求1的裝置以及根據(jù)權(quán)利要求6的方法而獲得解決。根據(jù)本發(fā)明的裝置于接下來(lái)以更詳盡的方式進(jìn)行敘述。


圖1 其顯示根據(jù)本發(fā)明的裝置的透視圖；圖2 其顯示根據(jù)本發(fā)明的裝置的側(cè)視圖；圖3 其顯示根據(jù)本發(fā)明的裝置的剖面圖；圖4 其顯示一仰視圖；以及圖5 其顯示位在不同導(dǎo)軌的集合中的根據(jù)本發(fā)明的裝置。
具體實(shí)施例方式圖1舉例說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明的裝置由可偵測(cè)基板晶圓側(cè)的透視圖，其實(shí)質(zhì)上是由一框架結(jié)構(gòu)所構(gòu)成，其中，旋轉(zhuǎn)單元的旋轉(zhuǎn)基座1以及旋轉(zhuǎn)單元的框架2標(biāo)示于圖1中。圖2為根據(jù)本發(fā)明的裝置的窄邊區(qū)域側(cè)視圖，根據(jù)顯示于圖1中的旋轉(zhuǎn)單元的該旋轉(zhuǎn)基座1，可于中心發(fā)現(xiàn)位在該旋轉(zhuǎn)單元內(nèi)的轉(zhuǎn)臺(tái)4，其中，該旋轉(zhuǎn)單元的一垂直支撐3在此舉例說(shuō)明中可分別配置在該轉(zhuǎn)臺(tái)4的左邊以及右邊，以及其中，右手邊的垂直支撐標(biāo)以相對(duì)應(yīng)參考符號(hào)，該旋轉(zhuǎn)單元的齒輪機(jī)構(gòu)5描繪于該轉(zhuǎn)臺(tái)4的下方。在二個(gè)垂直支撐3的每一個(gè)中，都可發(fā)現(xiàn)對(duì)稱(chēng)于該轉(zhuǎn)臺(tái)4的中心線(xiàn)的運(yùn)輸滾筒驅(qū)動(dòng)9，顯示為剖面的運(yùn)輸滾筒載體8，以及設(shè)置在內(nèi)部的運(yùn)輸滾筒7。正如可由圖4中的舉例說(shuō)明看出一樣，在每一側(cè)上，僅一個(gè)滾筒7分別被提供具有運(yùn)輸滾筒驅(qū)動(dòng)9，然而，較佳地是，四個(gè)運(yùn)輸滾筒7的每一個(gè)皆具有專(zhuān)用的運(yùn)輸滾筒驅(qū)動(dòng)9(伺服驅(qū)動(dòng)(serodrive))。圖2的左手側(cè)僅舉例說(shuō)明伴隨著一基板晶圓19設(shè)置于其中的運(yùn)輸框架11的剖面。在此情況下，該運(yùn)輸框架11進(jìn)入左手邊運(yùn)輸滾筒7 (在此未標(biāo)示)上的下部區(qū)域，并且， 于上部區(qū)域中受到其導(dǎo)軌12的引導(dǎo)，為了偵測(cè)該運(yùn)輸框架11在運(yùn)輸滾筒7區(qū)域中的位置， 在圖2的左手側(cè)，使用了后端位置傳感器10，以及在右手側(cè)使用了前端位置傳感器6。由于在圖2的舉例說(shuō)明中，分別的位置傳感器是位在彼此的后方，所以，在每個(gè)情形中皆?xún)H能顯示一個(gè)傳感器。在圖2的右手側(cè)，所舉例說(shuō)明的是固定于引導(dǎo)與固定裝置的頭端框架15上的后端固定圓柱13以及前端固定圓柱14，其在此并未固定一運(yùn)輸框架。為了清楚表示，并未于圖 2的左手側(cè)標(biāo)示該些固定圓柱，偵測(cè)單元18位在一垂直支撐3的每一側(cè)上，而正如可在圖2 中舉例說(shuō)明的左手側(cè)發(fā)現(xiàn)，其面對(duì)具有所抓住的一基板晶圓19的一運(yùn)輸框架11，該偵測(cè)單元18具有與一基板晶圓19 (在圖2的舉例說(shuō)明中僅可見(jiàn)其高度)相同的面積，以及具有可檢查先前濺鍍程序結(jié)果的掃瞄組件，掃瞄組件能夠以?huà)呙槠鞯姆绞讲僮?、或是利用光技術(shù)檢查一基板晶圓19的整體面積，在轉(zhuǎn)臺(tái)4下方所舉例說(shuō)明的是接觸連接22，其一方面致能轉(zhuǎn)動(dòng)單元的未干擾旋轉(zhuǎn)，以及另一方面確認(rèn)該偵測(cè)單元18與傳感器所供應(yīng)的數(shù)據(jù)以及一般控制數(shù)據(jù)的無(wú)干擾傳送。圖3顯示根據(jù)本發(fā)明的裝置的縱向剖面圖，除了已經(jīng)敘述的轉(zhuǎn)臺(tái)4，整個(gè)面積的基板晶圓19，以及接觸連接22，在此的舉例說(shuō)明顯示該轉(zhuǎn)動(dòng)單元的轉(zhuǎn)動(dòng)框架載體20以及驅(qū)動(dòng) 17，轉(zhuǎn)動(dòng)單元的已定義控制對(duì)轉(zhuǎn)動(dòng)傳感器16而言是偵測(cè)轉(zhuǎn)動(dòng)角度所不可或缺。圖4顯示整個(gè)旋轉(zhuǎn)單元的仰視圖，此舉例說(shuō)明主要在于展現(xiàn)具有控制電纜以及供應(yīng)電力用電纜的供應(yīng)管21。圖5顯示根據(jù)本發(fā)明的裝置位在導(dǎo)軌集合中，而運(yùn)輸框架11以及分別的基板晶圓 19是一起經(jīng)由逆轉(zhuǎn)濺鍍系統(tǒng)沈用于進(jìn)料的旋轉(zhuǎn)單元而在導(dǎo)軌上運(yùn)輸，在此情形中，二軌離開(kāi)導(dǎo)軌27首先將基板晶圓19引導(dǎo)至另一生產(chǎn)程序，接著，再將已完成最終濺鍍程序的基板晶圓19再次引導(dǎo)至另一生產(chǎn)程序，該二軌導(dǎo)軌25將基板晶圓引導(dǎo)自以及至濺鍍系統(tǒng)沈，所有的導(dǎo)軌皆具有規(guī)律間隔的運(yùn)輸滾筒7，在此，運(yùn)輸滾筒可成群、或者個(gè)別地驅(qū)動(dòng)，為了清楚表示，在圖5中并未舉例說(shuō)明運(yùn)輸滾筒7，由于濺鍍系統(tǒng)沈以及因此導(dǎo)軌25與旋轉(zhuǎn)單元之間的溫度差異可以非常大，因此，傳感器23以及M被提供于此點(diǎn)，在此情況下，傳感器23 偵測(cè)導(dǎo)軌25與該旋轉(zhuǎn)單元的分別導(dǎo)軌間的對(duì)準(zhǔn)，傳感器M額外地偵測(cè)導(dǎo)軌25的二個(gè)路徑的熱變形，相對(duì)應(yīng)地，同樣的情形亦可應(yīng)用于分別運(yùn)輸框架11的引導(dǎo)軌道12的引導(dǎo)，省略了對(duì)于在此所需測(cè)量的分別舉例，因?yàn)檫@對(duì)本領(lǐng)域具通常知識(shí)者而言為顯而易見(jiàn)，所需要的校正是通過(guò)利用旋轉(zhuǎn)單元的驅(qū)動(dòng)17的精細(xì)調(diào)整而實(shí)行。圖5的左下角所描繪地是另外的導(dǎo)軌27的實(shí)例，在此區(qū)域所描繪的雙箭所舉例說(shuō)明地事實(shí)是，除了上述的導(dǎo)軌25 J6之外，甚至另外的導(dǎo)軌27也可受到根據(jù)本發(fā)明裝置的操作，這相當(dāng)?shù)闹匾?，因?yàn)闉榱嗽跓o(wú)塵室中獲得無(wú)塵室條件導(dǎo)致了高成本，以及因此在如此的房間中空間總是短缺，所以，顯示為較大系統(tǒng)的部分的旋轉(zhuǎn)單元可額外地作為眾多另外程序順序的連結(jié)站，因此，讓裝載有大基板片19的運(yùn)輸框架11可精準(zhǔn)且快速地對(duì)準(zhǔn)不同方向?qū)к壍目赡苄?，是根?jù)本發(fā)明的裝置的很重要使用領(lǐng)域。綜上所述，所敘述的測(cè)量確保了運(yùn)輸框架11可在不折曲如此的框架以及因此無(wú)損害基板晶圓19的風(fēng)險(xiǎn)下運(yùn)輸自以及至濺鍍系統(tǒng)26。所敘述的動(dòng)作順序的復(fù)雜控制需要特殊的控制程序。
組件符號(hào)表
(1)旋轉(zhuǎn)單元的旋轉(zhuǎn)基座
(2)旋轉(zhuǎn)單元的框架
(3)旋轉(zhuǎn)單元的垂直支撐
(4)轉(zhuǎn)臺(tái)
(5)旋轉(zhuǎn)單元的齒輪機(jī)構(gòu)
(6)前端位置傳感器(滾筒)
(7)運(yùn)輸滾筒
(8)運(yùn)輸滾筒載體
(9)運(yùn)輸滾筒驅(qū)動(dòng)(伺服馬達(dá))
(10)后端位置傳感器(滾筒)
(11)運(yùn)輸框架
(12)引導(dǎo)軌道
(13)后端固定圓柱
(14)前端固定圓柱
(15)引導(dǎo)與固定單元的頭端框架
(16)轉(zhuǎn)動(dòng)角度及緊急停止傳感器
(17)轉(zhuǎn)動(dòng)單元的驅(qū)動(dòng)(伺服馬達(dá))
(18)基板晶圓的偵測(cè)單元
(19)基板晶圓
(20)旋轉(zhuǎn)框架載體
(21)供應(yīng)管
(22)接觸連接
(23)偵測(cè)導(dǎo)軌對(duì)準(zhǔn)傳感器
(24)偵測(cè)熱變形傳感器
(25)導(dǎo)軌
(26)濺鍍系統(tǒng)
(27)離開(kāi)導(dǎo)軌
權(quán)利要求
1.一種逆轉(zhuǎn)濺鍍涂覆系統(tǒng)進(jìn)料的裝置，以用于重復(fù)地在無(wú)塵室中供應(yīng)具有不同、或相同成分的濺鍍材料，該裝置包括下列特征a)運(yùn)輸框架(11)，用以接收一基板晶圓(19)；b)旋轉(zhuǎn)單元，具有旋轉(zhuǎn)所述運(yùn)輸框架(11)的裝置，以及具有將所述運(yùn)輸框架(11)運(yùn)輸至不同導(dǎo)軌(25、27)上的裝置；c)用以精準(zhǔn)地使所述旋轉(zhuǎn)單元對(duì)準(zhǔn)所述濺鍍涂覆系統(tǒng)的裝置；d)偵測(cè)單元(18)，用以檢查一濺鍍程序；e)用以設(shè)置矩形運(yùn)輸框架(11)的裝置，所述矩形運(yùn)輸框架(11)由在左邊以及右邊的上部區(qū)域中的后端固定圓柱(1 以及前端固定圓柱(14)、以及在左邊以及右邊的下部區(qū)域中二運(yùn)輸滾筒(7)上的拖架所組成，其中，每一個(gè)滾筒(7)皆具備專(zhuān)屬伺服馬達(dá)，以及機(jī)械移動(dòng)部件以無(wú)發(fā)射方式包裹，且由抗磨損材質(zhì)制成。
2.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，用于旋轉(zhuǎn)所述運(yùn)輸框架(11)的裝置由伺服馬達(dá)(17)組成，連結(jié)偵測(cè)轉(zhuǎn)動(dòng)角度的傳感器(16)。
3.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，用于運(yùn)輸所述運(yùn)輸框架(11)的裝置由下部區(qū)域中配備有規(guī)則間隔運(yùn)輸滾筒(7)的導(dǎo)軌(25，27)組成，其中，在上部區(qū)域中以規(guī)則間隔安裝的固定圓柱(13，14)利用所述運(yùn)輸滾筒(7)提供引導(dǎo)。
4.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，用于精準(zhǔn)地將所述旋轉(zhuǎn)單元對(duì)準(zhǔn)分別的所述導(dǎo)軌的裝置是以多個(gè)傳感器(23，24)所決定的測(cè)量數(shù)值作為基礎(chǔ)而受控于所述旋轉(zhuǎn)單元的驅(qū)動(dòng)(17)的一精準(zhǔn)調(diào)整，其中，所述傳感器(23，24)額外地偵測(cè)所述導(dǎo)軌0 路徑的熱變形。
5.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，所述基板晶圓(19)的定位額外地利用激光及/或相對(duì)應(yīng)的傳感器的方式進(jìn)行監(jiān)測(cè)。
6.一種逆轉(zhuǎn)濺鍍涂覆系統(tǒng)進(jìn)料的方法，以用于重復(fù)地在無(wú)塵室中供應(yīng)具有不同、或相同成分的濺鍍材料，所述方法包括下列特征a)待涂覆基板晶圓(19)利用一運(yùn)輸裝置運(yùn)送進(jìn)入運(yùn)輸框架(11)，以及接著進(jìn)入旋轉(zhuǎn)單元；b)矩形運(yùn)輸框架(11)通過(guò)位在上部區(qū)域中左邊以及右邊的二個(gè)固定圓柱(13，14)，以及在下部區(qū)域中左邊以及右邊的運(yùn)輸滾筒(7)上的拖架而設(shè)置于所述旋轉(zhuǎn)單元中；c)所述運(yùn)輸框架(11)透過(guò)合并于所述旋轉(zhuǎn)單元的所述框架中的驅(qū)動(dòng)(17)的方式而進(jìn)行旋轉(zhuǎn)；d)所述運(yùn)輸框架(11)透過(guò)可在不同方向的多個(gè)導(dǎo)軌上引導(dǎo)的運(yùn)輸滾筒驅(qū)動(dòng)(9)的方式而進(jìn)行運(yùn)輸；e)經(jīng)由所述旋轉(zhuǎn)單元的所述驅(qū)動(dòng)(17)，所述旋轉(zhuǎn)單元透過(guò)所述傳感器(23，24)的方式而精準(zhǔn)地對(duì)準(zhǔn)所述導(dǎo)軌05，27)；以及f)濺鍍程序，利用偵測(cè)單元(18)的方式進(jìn)行檢查，其中，此至少存在于運(yùn)輸框架(11) 的每一個(gè)儲(chǔ)藏所的所述旋轉(zhuǎn)單元中，以及間隔組件可以?huà)呙槠鞯姆绞讲僮鳌⒒蚩梢岳霉饧夹g(shù)檢查基板晶圓(19)的整體面積。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述基板晶圓(19)的定位額外地利用激光及/或相對(duì)應(yīng)的傳感器的方式進(jìn)行監(jiān)測(cè)。
8.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，為了獲得無(wú)塵室條件，機(jī)械移動(dòng)部件以無(wú)發(fā)射方式包裹以及由抗磨損材料制成。
9.根據(jù)權(quán)利要求6至8中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)單元，作為較大系統(tǒng)的部分，舉例而言，在光伏模塊的涂覆中，額外地作為眾多另外處理順序的連結(jié)站。
10.一種計(jì)算機(jī)程序，包括若其于計(jì)算機(jī)中執(zhí)行時(shí)，實(shí)現(xiàn)權(quán)利要求6至9中任一項(xiàng)所述的方法步驟的程序代碼。
11.一種機(jī)器可讀取載體，包括計(jì)算機(jī)程序的程序代碼，以在所述程序若于計(jì)算機(jī)中執(zhí)行時(shí)，實(shí)現(xiàn)權(quán)利要求6至9中任一項(xiàng)所述方法。
全文摘要
本發(fā)明相關(guān)于一種在無(wú)塵室中逆轉(zhuǎn)濺鍍系統(tǒng)進(jìn)料的方法及裝置，特別是當(dāng)涂覆一光伏模塊時(shí)，具有下列特征a)一運(yùn)輸框架(11)，用以接收光伏模塊的一基板晶圓(19)，b)一旋轉(zhuǎn)裝置，具有設(shè)置該運(yùn)輸框架(11)的裝置，具有旋轉(zhuǎn)該運(yùn)輸框架(11)的裝置，以及具有運(yùn)輸該運(yùn)輸框架(11)的裝置，c)用以使該旋轉(zhuǎn)單元精準(zhǔn)對(duì)準(zhǔn)該濺鍍涂覆系統(tǒng)的裝置，d)一偵測(cè)單元(18)，用以檢查一濺鍍程序，以及具有執(zhí)行程序步驟的程序代碼的計(jì)算機(jī)程序。
文檔編號(hào)C23C14/56GK102232043SQ200980145737
公開(kāi)日2011年11月2日 申請(qǐng)日期2009年11月26日 優(yōu)先權(quán)日2008年12月1日
發(fā)明者羅蘭·弗朗茨 申請(qǐng)人:格林策巴赫機(jī)械制造有限公司