專利名稱：具有熱性能的堆疊層的紋理化基底的制作方法
具有熱性能的堆疊層的紋理化基底本發(fā)明涉及用無機剛性材料(如玻璃)制成的透明基底，這種基底具有顯示出至 少Imm深度的突起狀紋理(texture en relief)的主面。這種基底用于內(nèi)部和/或外部裝飾的建筑應(yīng)用中。本發(fā)明更特別地涉及這種基底用于制備熱絕緣和/或日光保護窗玻璃的用途。這 些窗玻璃可用于裝備建筑物，特別是為了降低空調(diào)負(fù)荷和/或防止過度過熱(所謂“日光控 制”窗玻璃)和/或減少能量消散到外部(所謂“低發(fā)射”窗玻璃)，這些都是因在建筑物 中總是大量增加玻璃表面造成的。這些窗玻璃還可以結(jié)合到具有特定功能的窗玻璃中，例如加熱窗玻璃或者電致變 色窗玻璃中。用于提供給基底這樣性質(zhì)而為人們所知的一類薄層堆疊層是由具有在紅外線和/ 或太陽輻射中的反射性質(zhì)的金屬功能層，特別地基于銀或者基于包含銀的金屬合金的金屬 功能層組成。在真空沉積流水線上在工業(yè)上沉積這些薄層堆疊層，特別地使用濺射工藝，任選 地采用磁場增強的濺射，被稱為"磁控管"濺射。本領(lǐng)域的技術(shù)人員至今一直考慮具有在紅外線和/或太陽輻射中反射性質(zhì)的薄 層堆疊層只能沉積在光滑表面上?！肮饣砻?，本領(lǐng)域的技術(shù)人員理解該表面可以具有粗糙度，特別地具有所述 層的物理厚度的數(shù)量級的RMS粗糙度。然而，本領(lǐng)域的技術(shù)人員一直認(rèn)為在紅外線和/或太陽輻射中具有反射性質(zhì)的薄 層堆疊層不能沉積在紋理化(textudes)表面上，特別地在顯示具有至少1毫米或更高的 深度的突起狀紋理的主面上。本發(fā)明因此涉及，在它的最廣義中，根據(jù)權(quán)利要求1的玻璃基底。這種基底包含具 有深度為至少Imm的突起狀紋理的主面并且所述主面提供有在紅外線和/或太陽輻射中具 有反射性質(zhì)的薄層堆疊層。通常，在紅外線和/或太陽輻射中具有反射性質(zhì)的薄層堆疊層具有約50-200nm總 物理厚度。在本發(fā)明的范圍中，突起的深度，即最高點和最低點之間的差距因此是該堆疊層 的物理厚度的至少5倍，通常約10-20倍。在沉積該薄層堆疊層之前和/或之后，該基底可以是透明的，在可見光中具有高 光透射(大于或等于80% )，或者部分透明的在可見光中具有中等的光透射(20% -80% )， 不太透明的在可見光中具有差的光透射(5%-20%)，甚至不透明在可見光中具有低于5% 的光透射(在本文獻中所考慮的在可見光中的光透射，完全如同在可見光中光反射，為通 常在550nm測量的那些)?；椎闹髅娴耐黄饍?yōu)選地具有l(wèi)_15mm的深度(包括端值)，特別地2_12mm(包括 端值)，甚至3-10mm(包括端值)。優(yōu)選地，主面的參照表面的至少20%，甚至至少50%位于同一個平面中，該平面 優(yōu)選地為平的，但是其任選地可以在沉積薄層之后進行彎曲。
而且，不是參照表面的主面的突起的底部表面(凹進或者隆起的)的至少20%，甚 至至少50%優(yōu)選地位于同一個平面中，該平面優(yōu)選地是平的，但是其任選地可以在沉積薄 層之后進行彎曲。而且，位于該主面的參照表面和該突起的底部表面之間的突起的坡度優(yōu)選地被定 向在90° -120°的角度α。在紅外線和/或太陽輻射中具有反射性質(zhì)的薄層堆疊層通常具有以下效果-使在其上沉積該堆疊層的基底在可見光中光透射降低至少10%；-使在其上沉積該堆疊層的基底在可見光中光反射提高至少10%；-使在其上沉積該堆疊層的基底在近紅外(日照控制堆疊層)或者遠(yuǎn)紅外(低發(fā) 射率堆疊層)中的能量反射提高至少10%。根據(jù)本發(fā)明的基底因此優(yōu)選地具有-低于80%，甚至低于60 %的在可見光中的光透射，由于該紋理還參與降低該光 透射；-至少20%，至少30 %或者50 %，甚至至少80 %，甚至90 %的在可見光中的光反 射；-至少10%或者至少20 %，或者至少30 %或者50 %，甚至至少80 %在紅外線中的
能量反射。用于建筑物的防曬窗玻璃的實例在專利ΕΡ-0511901和ΕΡ-0678483中給出它為 在過濾太陽輻射方面的功能層，其用任選地含氮的鎳_鉻合金制成，由不銹鋼或者鉭制成， 并且其被設(shè)置在兩個金屬氧化物(如Sn02、TiO2或者Ta2O5)制成的電介質(zhì)層之間。這些窗 玻璃是具有令人滿意的機械和化學(xué)穩(wěn)定性的優(yōu)良的防曬窗玻璃，但是不是真正“可彎曲的” 或者“可淬火的”，因為圍繞該功能層的氧化物層不能防止它在彎曲或者淬火操作期間被氧 化，該功能層的氧化伴隨有在可見光中光透射的改變和窗玻璃其整體外觀的改變。最近已經(jīng)進行了許多研究以獲得在低-發(fā)射率窗玻璃領(lǐng)域內(nèi)可彎曲的/可淬火的 層，其目的更確切地是獲得高光透射，與被稱為"防曬"窗玻璃不同。已經(jīng)提出在銀功能層 上面使用基于四氮化三硅的電介質(zhì)層。這種材料對于高溫氧化是相對惰性的并且證明適合 于保護下鄰的銀層，如在專利EP-0718250中描述的那樣。已經(jīng)描述了其它作用于太陽輻射的推定為可彎曲的/可淬火的多層堆疊層使用 不同于銀功能層專利EP-0536607使用由TiN或者CrN類型的金屬氮化物制成的功能層， 具有由金屬或者硅衍生物制成的保護層。專利EP-0747329描述了與四氮化三硅層相結(jié)合 的由NiCr類型鎳合金制成的功能層。然而，這些具有防曬功能的堆疊層的性能仍然能夠改進，特別地在當(dāng)經(jīng)受高溫?zé)?處理時的耐用性和抗降解性方面。術(shù)語"功能"層理解為在本申請中表示在該堆疊層中的一個或多個層，其提供給 該堆疊層它的熱性質(zhì)的主要部分，與其它通常由電介質(zhì)材料制成的層相反，該其它層具有 該功能層的化學(xué)或者機械保護層的功能，光學(xué)功能，粘附功能等等。在一個特別的變型中，所述薄層堆疊層包含至少一個基于不銹鋼的金屬功能層。在一個特別的變型中，所述薄層堆疊層包含至少一個含氮的功能層，特別地基于 四氮化三硅或者一氮化鈦，如從國際性專利申請?zhí)朩001/21540已知。
在另一個特別的變型中，所述薄層堆疊層包含至少一個基于銀或者基于包含銀的 金屬合金的金屬功能層，和兩個減反射涂層，所述涂層每個包含至少一個電介質(zhì)層，所述功 能層被設(shè)置在該兩個減反射涂層之間，該功能層任選地被直接沉積在設(shè)置在功能層和下鄰 的減反射涂層之間的下阻隔涂層上，和該功能層任選地被直接沉積在設(shè)置在功能層和上鄰 減反射涂層之間的上阻隔涂層之下。本發(fā)明涉及的這種已知類型的堆疊層被稱為"具有下阻隔和上阻隔堆疊層"，因 為它特別地以如下順序具有以下結(jié)構(gòu)基底/下鄰的減反射涂層/下阻隔涂層(revgtement sous-bloqueur) /金屬的功 能層/上阻隔涂層(revgtement sur-bloqueur)/上鄰減反射涂層+任選地保護層。該功能層因此位于在兩個減反射涂層之間，該減反射涂層每個通常包含用四氮化 三硅類型的電介質(zhì)材料制成的單一層。這些圍繞金屬功能層的涂層的目的為使這種金屬功 能層“減反射”。然而，將阻隔涂層插入在每個減反射涂層和金屬功能層之間。設(shè)置于在基底方向的功能層之下的阻隔涂層有利于該層的晶體生長并且在可能 的彎曲和/或淬火類型的高溫?zé)崽幚砥陂g保護它。設(shè)置在與基底相對的功能層上的阻隔涂層保護該層在沉積上減反射涂層期間和 在可能的彎曲和/或淬火類型的高溫?zé)崽幚砥陂g不受可能的降解。而且可能的是，與主面相對的該基底的面還具有深度為至少1毫米的突起狀紋 理，該相對面任選地提供有在紅外線和/或太陽輻射中具有反射性質(zhì)和/或具有減反射性 質(zhì)的薄層堆疊層。本發(fā)明的目的更確切地說為上面介紹的那些類型的堆疊層，其很好地抗施用于玻 璃基底以使得它們被彎曲和/或淬火的彎曲和/或淬火熱處理。本領(lǐng)域的技術(shù)人員區(qū)別兩類耐彎曲和/或淬火熱處理(或者經(jīng)受熱處理)的堆疊 層1-被稱為“待淬火”的堆疊層，其在熱處理之前不具有希望和期望的特征，特別地 光透射、顏色、電阻率等等，并且其在該熱處理期間獲得這些特征；用這類堆疊層涂覆的基 底因此不能被最終用戶原樣使用(例如，當(dāng)包裝該基底以形成窗玻璃時)，而只有在經(jīng)受了 熱處理以后才能使用；和2-稱為“可彎曲的"和/或"可淬火"的堆疊層，其在熱處理之前具有可接受的 特征并且在熱處理之后具有類似的或者幾乎相同的特征，即其具有由于熱處理引起的在特 征方面的可接受的改變并使得它對于觀察者通過目視觀察難于區(qū)別用已經(jīng)受熱處理的堆 疊層涂覆的基底與用相同的沒有經(jīng)受熱處理的堆疊層涂覆的基底。對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員不可能更精確地定義這兩類，因為，例如"待淬火"的堆 疊層可以具有的由于熱處理帶來的在可見光中的光透射改變與"可淬火"堆疊層的光透 射改變同樣低，但是例如在可見光中的光反射具有更大的改變或者在顏色方面更大的改 變。然而，現(xiàn)有技術(shù)的文獻和玻璃制造商的技術(shù)資料清楚地進行這種區(qū)別。其中在建筑物同一個幕墻上，例如彼此接近地存在一方面結(jié)合根據(jù)本發(fā)明的具有 薄層堆疊層的并且在沉積該層之后已經(jīng)進行淬火的基底的窗玻璃，和另一方面根據(jù)本發(fā)明
5的具有相同的薄層堆疊層的沒有進行淬火的基底，通過簡單全面目視觀察所述窗玻璃難以 區(qū)別的情況下(特別地結(jié)合在可見光中的光透射、在可見光中該窗玻璃的反射顏色和反射 光)，本發(fā)明因此適用于被稱為"可淬火"的基底，。對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員，存在不經(jīng)受任何熱處理的堆疊層。因此，從歐洲專利申請EP567735還已知上述類型的具有基于銀的不能經(jīng)受熱處 理的功能層的堆疊層。在該文獻EP567735中，解釋了對于每個基于鎳的阻隔涂層具有低于0. 7納米的厚 度是重要的。從歐洲專利申請EP646551還已知，相同類型的堆疊層(相同的層順序，對于每個 層相同的材料)，其本身可以經(jīng)受熱處理；這是"待淬火"的堆疊層因為它在彎曲或者淬 火熱處理期間具有顯著的變化，特別地光學(xué)改變。文獻EP646551解釋了前面的文獻(EP567735)的技術(shù)方案不能經(jīng)受熱處理，可能 因為每個阻隔涂層的厚度不足以恰當(dāng)?shù)乇Ｗo基于銀的金屬功能層。文獻EP646551因此間接地推薦，為了生產(chǎn)相同類型的但其經(jīng)受熱處理的堆疊層， 下阻隔涂層實際是更厚的(優(yōu)選地是上阻隔涂層的厚度的2-4倍)并且特別地它顯示出對 于該下阻隔涂層具有大于2納米的厚度是優(yōu)選的并且建議厚度為約4. 5nm。在這里使用的術(shù)語"玻璃基底"表示通常用于玻璃工業(yè)以生產(chǎn)窗玻璃的任何類 型基底，并因此覆蓋任何玻璃基底，無論它們的厚度怎么樣，和任何聚合物基底(特別地普 通塑料；聚碳酸酯PC，聚乙烯醇縮丁醛PVB，聚對苯二甲酸乙二醇酯PET等等)，無論什么它 們的厚度怎樣。根據(jù)本發(fā)明的窗玻璃至少包括帶有根據(jù)本發(fā)明的堆疊層的基底，任選地其與至少 一個其它基底組合。每個基底可以是明亮的或者著色的?；字兄辽僖粋€特別地可以用主 體著色或者表面著色的玻璃制成。根據(jù)對于窗玻璃(一旦完成它的制備)所希望的光透射 水平和/或比色外觀選擇著色類型。在該窗玻璃中，以單片窗玻璃或者為雙層窗玻璃或者層壓窗玻璃的多層窗玻璃形 式進行安裝，至少該帶有堆疊層的基底可以被彎曲和/或淬火，該熱處理可在沉積該薄層 堆疊層之前或之后進行。根據(jù)本發(fā)明的窗玻璃因此可以具有層壓結(jié)構(gòu)，特別地其通過至少一個熱塑性聚合 物片結(jié)合至少兩個剛性玻璃類型基底，以便具有以下類型的結(jié)構(gòu)玻璃/薄層堆疊層/ 一個 或多個薄片/玻璃。該聚合物特別地可以基于聚乙烯醇縮丁醛PVB、乙烯/醋酸乙烯酯EVA、 聚對苯二甲酸乙二醇酯PET或者聚氯乙烯PVC。該窗玻璃還可以具有所謂的不對稱的層壓窗玻璃結(jié)構(gòu)，其將玻璃類型的剛性基底 與至少一個具有能量吸收性質(zhì)的聚氨酯類型的聚合物片結(jié)合，任選地與另一個具有"自 修復(fù)"性質(zhì)的聚合物層結(jié)合。為了了解關(guān)于這類窗玻璃更多詳情，可以特別地參考專利 EP-0132198、EP-0131523 和 EP-0389354。該窗玻璃這時可以具有以下類型的結(jié)構(gòu)玻璃/薄層堆疊層/ 一個或多個聚合物 薄片。當(dāng)該堆疊層的覆蓋的主表面因此用聚合物薄片覆蓋時，該薄層堆疊層，雖然用它 被沉積在其上的表面的紋理結(jié)構(gòu)分割，這時其被這種聚合物薄片保護不受任何降解。而且，該薄片可以補償在在窗玻璃的周邊的表面差以容易結(jié)合到具有光滑的基底的接收表面的 框架中。根據(jù)本發(fā)明的窗玻璃能夠經(jīng)受熱處理而不損壞薄層堆疊層。其因此可能被彎曲和 /或淬火。該窗玻璃可以被彎曲和/或淬火，同時由單一的提供有堆疊層的基底組成。這種 窗玻璃這時被稱為"單片"窗玻璃。當(dāng)它被彎曲時，薄層堆疊層優(yōu)選地位于至少部分非平 面的面上。該窗玻璃還可以是多層窗玻璃，特別地雙層窗玻璃，至少帶有堆疊層的基底可能 被彎曲和/或淬火。在多層窗玻璃構(gòu)造中優(yōu)選地放置堆疊層以便面對Gtre tourneducote de)中間氣體薄片。在層壓結(jié)構(gòu)中，帶有堆疊層的基底可以與該聚合物片接觸。當(dāng)窗玻璃是單片的時或者呈雙層窗玻璃或者層壓窗玻璃類型的多層窗玻璃形式 時，至少該帶有堆疊層的基底可以由彎曲或者淬火的玻璃制成，在堆疊層沉積之前或之后， 對于該基底可以被彎曲或者淬火。本發(fā)明還涉及用于制備根據(jù)本發(fā)明的基底的方法，其在于在它的基底上通過任選 地磁場輔助的陰極濺射類型的真空技術(shù)沉積薄層堆疊層。然而，不排除該堆疊層的一個或多個第一層可以通過另一技術(shù)進行沉積，例如通 過熱解類型的熱分解技術(shù)。本發(fā)明還涉及用于制備根據(jù)本發(fā)明的玻璃基底的方法，該玻璃基底包括具有深度 為至少1毫米的突起狀紋理的主面。這種方法值得注意的是，所述主面提供有在紅外線和/或太陽輻射中具有反射性 質(zhì)的薄層堆疊層。所述薄層堆疊層可以在形成該突起狀紋理之后，特別地通過真空沉積技術(shù)，特別 地通過磁控管濺射進行沉積。然而，該突起狀紋理的形成還可以在沉積所述薄層堆疊層之后進行，特別地當(dāng)形 成該突起狀紋理在高溫下進行并且由該基底的彎曲和/或淬火結(jié)束時。本發(fā)明還涉及在紅外線和/或太陽輻射中具有反射性質(zhì)的薄層堆疊層在玻璃基 底的主面上的用途，以生產(chǎn)本發(fā)明的基底，該基底的主面具有深度為至少1毫米的突起狀 紋理，或者為了生產(chǎn)根據(jù)本發(fā)明的窗玻璃。在這種用途的范圍中，薄層堆疊層優(yōu)選地是建筑用的薄層堆疊層，特別地用于 為"可淬火的"或者"待淬火"的建筑窗玻璃的薄層堆疊層，特別地日光控制的堆疊層， 尤其為"可淬火的"或者"待淬火的"日光控制的堆疊層。有利地，令人驚訝地它顯示出在紅外線和/或太陽輻射中具有反射性質(zhì)的薄層堆 疊層可以提高該紋理的深度的感覺。在用堆疊層覆蓋的表面不同塊之間可能產(chǎn)生光學(xué)相互作用，其，由于該堆疊層的 光反射性質(zhì)，產(chǎn)生該紋理是更明顯的感覺，即比實際上更凹進或更突起的。因此，對于相同的整體紋理，當(dāng)兩個紋理化基底(一個沒有薄層堆疊層和另一個 根據(jù)本發(fā)明的在紋理化面上具有薄層堆疊層)比較時，該圖案的深度顯示出增加20-50%。本發(fā)明的細(xì)節(jié)和有利的特征將從以下非限制實施例顯露出來，所述實施例借助于 附圖進行說明。
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圖1示意說明在本發(fā)明意義上的軋制過程，其中使用還用作紋理化裝置的軋輥；-圖2說明在沉積薄層堆疊層之前的根據(jù)本發(fā)明的紋理化基底；-圖3說明用基于不銹鋼的單功能層堆疊層覆蓋的根據(jù)本發(fā)明的基底；和-圖4說明根據(jù)用基于銀的單功能層堆疊層覆蓋的本發(fā)明的基底，該功能層提供 有下阻隔涂層和上阻隔涂層，該堆疊層另外提供有任選的保護涂層。在上述圖中，各種材料或元件的厚度不是按比例的以便使得它們?nèi)菀卓辞宄?。該方法通常用于制備紋理化、大尺寸化玻璃基底，包括軋制過程，其原理在圖1中 舉例說明，其中在耐火材料2上沿雙線箭頭方向驅(qū)動熔融態(tài)玻璃1通過金屬輥3和4進行 成型。該玻璃在成型之前具有約1200°C的溫度和在軋制機出口約850°C的溫度。當(dāng)希望 將圖案或者紋理化壓制進入玻璃中時，一種常規(guī)方法在于使用輥，如，例如輥3，其在它的表 面上不是光滑的，而是在它的表面上具有在基底上希望獲得的圖案或者紋理的底版。這些 紋理化技術(shù)特別地在裝飾玻璃領(lǐng)域中或在光電裝置領(lǐng)域中是已知的，例如在歐洲專利申請 No. EP 1774372中。同樣地，輥可以在上和/或下面具有刻紋。按已知方式，然后該玻璃被 取出送往玻璃韌化爐。在輥的一種傳統(tǒng)模型中，在兩個紋理圖案之間存在不變間距。這些紋理圖案例如 由一組在該輥的表面存在并且彼此平行的突起或凸起物(例如棱柱形狀)組成。該突起典 型地在該基底的主面上可以獲得具有正的該輥圖案的重復(fù)的紋理。僅僅通過在紋理化形狀上的重力可以獲得熱成型。根據(jù)本發(fā)明的基底的紋理化因此可以通過壓延(英語為“cast”)、熱成型、蝕刻， 特別地用于聚合物材料的激光蝕刻進行生產(chǎn)。因此對于在圖2中舉例說明的包含具有深度ρ為至少1毫米的的突起狀紋理的主 面的玻璃基底10，根據(jù)本發(fā)明的制造過程在于向所述主面提供在紅外線和/或太陽輻射中 具有反射性質(zhì)的薄層堆疊層100以獲得在圖3或者4中舉例說明的基底?；蛘咴摫佣询B層100在形成突起狀紋理之后進行沉積，特別地通過真空沉積技 術(shù)，特別地通過磁控管濺射進行，或者該突起狀紋理的形成在沉積所述薄層堆疊層100之 后在高溫下進行并且任選地通過該基底的彎曲和/或淬火結(jié)束。該在圖2中舉例說明的基底10具有深度ρ為1-15毫米，特別地2_12毫米的紋理。 這種深度對應(yīng)于主面的參照表面12和該主面的突起的底部表面14 (其最遠(yuǎn)離主表面)之 間測量的距離?；?0具有另一面(相對面18)，參照表面12在這里為最遠(yuǎn)離該相對面的表面， 而底部表面14是最靠近相對面18的表面，這是由于該突起被認(rèn)為是凹進的。位于主面的參照表面12和該突起的底部表面14之間的突起的坡度被定向在 90° -120° 的角度 α。向由在基底的一側(cè)(主面)上的圖案提供的紋理，還可以，向另一側(cè)(相對面， 18)，加入由該相對面的粗糙度或者由粗糙層提供的紋理。該粗糙層可以例如是基于一種或 多種金屬氧化物的透明導(dǎo)電層，所述表面或者所述層具有至少3納米，特別地至少5納米的 R. Μ. S粗糙度和/或至少50納米的粗糙度的圖案的平均尺寸。R. Μ. S粗糙度代表“均方根”粗糙度。它涉及在于測量該粗糙度的均方根的值的測 量。該R. Μ. S粗糙度因此具體地定量相對于平均高度的粗糙度峰的平均高度。
兩個實施例已經(jīng)通過使用由SAINT-G0BAIN以名稱CREA-LITE 銷售的基底作為基 礎(chǔ)基底，所述基底具有20毫米的厚度和具有約8毫米的深度的不平坦差異(在8毫米的最 大距離上)。進行實施例1，其中薄層堆疊層100包括用由一氮化鈦制成的保護層90覆蓋的由 不銹鋼制成的金屬功能層80。在可見光中光透射是約1%，在主面?zhèn)鹊墓夥瓷涫羌s40%和在相對面?zhèn)?8上的光 反射是約50%。對于該實施例1的在可見光中的光透射是非常低的，但是它然而是對于目標(biāo)應(yīng) 用，特別地對于裝飾應(yīng)用是足夠的。進行實施例2，其中薄層堆疊層100包括基于銀的金屬功能層40，和兩個減反射涂 層20、60，所述涂層每個包含至少一個電介質(zhì)層24、64，所述功能層40被設(shè)置在兩個減反射 涂層20、60之間，該功能層40被直接地沉積在設(shè)置在功能層40和下鄰減反射涂層20之間 的下阻隔涂層30之上，和功能層40被直接地沉積在設(shè)置在功能層40和上鄰減反射涂層60 之間的上阻隔涂層50之下。在下面的表格1舉例說明實施例2的每一層以納米表示的物理厚度(非光學(xué)厚 度)表 1
層材料Ex. 270TiOx264Si3N44550NiCr0. 840Ag5. 530NiCr0. 824Si3N445該實施例的光學(xué)和表面電阻特征為-Tms，在可見光中以％表示的光透射IV，在光源D65:64%下進行測量；-Rms。，以％表示的在可見光中光反射&，在多層側(cè)在光源D65:12%下進行測量；_ 方電阻(resistance par carre)約 16 Ω/。在本發(fā)明的意義內(nèi)，實施例2的堆疊層為可淬火的堆疊層，因為該覆蓋的基底的 在可見光中的光透射的變化AIYvis低于5。因此難以區(qū)別根據(jù)實施例2的一種的已經(jīng)受熱處理的基底與分別地該相同實施 例的沒有經(jīng)受熱處理的基底，當(dāng)它們并排放置時。
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本發(fā)明在上文中通過舉例進行描述。理解的是，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以制備本發(fā) 明的各種變型而不超出如權(quán)利要求所定義的本專利的范圍。
權(quán)利要求
玻璃基底(10)，其包含具有深度為至少1mm的突起狀紋理的主面，特征在于所述主面(11)提供有在紅外線和/或太陽輻射中具有反射性質(zhì)的薄層堆疊層(100)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的基底(10)，特征在于該突起具有l(wèi)-15mm，特別地2_12mm的深度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2的基底(10)，特征在于該主面的參照表面(12)的至少20%，甚 至至少50%位于同一個平面中。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項的基底(10)，特征在于不是參照表面的主面的突起的底部 表面(14)的至少20%，甚至至少50%優(yōu)選地位于同一個平面中。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項的基底(10)，特征在于位于該主面的參照表面(12)和該 突起的底部表面(14)之間的突起的坡度被定向在90° -120°的角度α。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項的基底(10)，特征在于薄層堆疊層(100)包括至少一個 基于銀的或基于含銀的金屬合金的金屬功能層(40)，和兩個減反射涂層(20、60)，所述涂 層每個包含至少一個電介質(zhì)層(24、64)，所述功能層(40)任選地被設(shè)置在兩個減反射涂層 (20,60)之間，該功能層(40)任選地被直接地沉積在設(shè)置在功能層(40)和下鄰減反射涂層 (20)之間的下阻隔涂層(30)之上，和功能層(40)被直接地沉積在設(shè)置在功能層(40)和上 鄰減反射涂層(60)之間的上阻隔涂層(50)之下。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項的基底(10)，特征在于所述薄層堆疊層(100)包含至少一 個含氮的功能層，特別地基于四氮化三硅或者一氮化鈦。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-7任一項的基底(10)，特征在于基底(1)的面(18)，與主面相對的 面，具有深度為至少1毫米的突起狀紋理，該相對面(18)任選地提供有在紅外線和/或太 陽輻射中具有反射性質(zhì)和/或具有減反射性質(zhì)的薄層堆疊層。
9.包括至少一個根據(jù)權(quán)利要求1-8任一項的基底(10)的窗玻璃，其任選地與至少一個 其它基底結(jié)合。
10.以單片形式或者為雙層窗玻璃或者層壓窗玻璃的多層窗玻璃形式進行安裝的根據(jù) 權(quán)利要求9的窗玻璃，特征在于至少該帶有堆疊層的基底進行彎曲和/或淬火。
11.根據(jù)權(quán)利要求1-8任一項的玻璃基底(10)的制備方法，該玻璃基底包括具有深度 為至少1毫米的突起狀紋理的主面，特征在于所述主面提供有在紅外線和/或太陽輻射中 具有反射性質(zhì)的薄層堆疊層(100)。
12.根據(jù)權(quán)利要求11的方法，特征在于所述薄層堆疊層(100)可以在形成該突起狀紋 理之后，特別地通過真空沉積技術(shù)，特別地通過磁控管濺射進行沉積。
13.根據(jù)權(quán)利要求11的方法，特征在于在沉積所述薄層堆疊層之后進行該突起狀紋理 的形成。
14.根據(jù)權(quán)利要求13的方法，特征在于該突起狀紋理的形成在高溫下進行并通過基底 的彎曲和/或淬火而結(jié)束。
15.在玻璃基底(10)的主面上的在紅外線和/或太陽輻射中具有反射性質(zhì)的薄層堆疊 層(100)用于獲得根據(jù)權(quán)利要求1-8任一項的基底(10)或用于獲得權(quán)利要求9或10的窗 玻璃的用途，所述基底的主面具有深度為至少1毫米的突起狀紋理。
16.根據(jù)前述權(quán)利要求的用途，其中薄層堆疊層(100)是建筑的薄層堆疊層(100)，尤 其用于"可淬火的"或者"待淬火"的建筑窗玻璃的薄層堆疊層，特別地日光控制的堆疊 層，尤其"可淬火的"或者"待淬火的"日光控制的堆疊層。全文摘要
本發(fā)明涉及玻璃基底(10)，其包含具有深度為至少1mm的突起狀紋理的主面，特征在于所述主面(11)提供有在紅外線和/或太陽輻射中具有反射性質(zhì)的薄層堆疊層(100)。
文檔編號C23C14/18GK101959821SQ200980106859
公開日2011年1月26日 申請日期2009年2月27日 優(yōu)先權(quán)日2008年2月29日
發(fā)明者P·羅曼, R·梅塞雷 申請人:法國圣戈班玻璃廠