專利名稱：化學(xué)氣相沉積裝置與聚對二甲苯薄膜的形成方法
化學(xué)氣相沉積裝置與聚對二甲苯薄膜的形成方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是有關(guān)于一種沉積裝置與薄膜的形成方法，且特別是有關(guān)于一種化學(xué)氣相 沉積裝置與聚對二甲苯(parylene)薄膜的形成方法。
背景技術(shù)：
聚對二甲苯薄膜由于具有極佳的阻水性與阻氧性、高透明度、高絕緣度以及可以 抗生銹、腐蝕與風(fēng)化，因此在目前的可撓式顯示器中，大多使用聚對二甲苯薄膜來作為軟性 塑膠基板表面上的阻氣層。對于目前的制程來說，形成聚對二甲苯薄膜的方法一般為化學(xué)氣相沉積法。首先， 將粉末狀的聚對二甲苯置于蒸發(fā)室中，并加熱到150°C以使粉末狀的聚對二甲苯汽化。然 后，將聚對二甲苯氣體傳送至裂解室，并加熱到650°C以進(jìn)行裂解。之后，將聚對二甲苯單體 傳送沉積室，并沉積在基板上。一般來說，在進(jìn)行上述化學(xué)氣相沉積法的化學(xué)氣相沉積裝置中，在蒸發(fā)室與裂解 室之間以及在裂解室與沉積室之間皆配置有節(jié)流閥來控制化學(xué)氣相沉積裝置中的壓力，并 藉由節(jié)流閥控制聚對二甲苯的流量來調(diào)整沉積在基板上的聚對二甲苯薄膜的厚度。然而， 蒸發(fā)后的聚對二甲苯氣體若處于150°C以下的環(huán)境中非常容易沉積，往往造成聚對二甲苯 薄膜形成在節(jié)流閥上，因而導(dǎo)致節(jié)流閥損壞，且必須花費(fèi)昂貴的費(fèi)用來更換。此外，若為了 避免上述問題而采用液態(tài)原料取代粉末狀原料，由于液態(tài)原料的價(jià)格約為粉末狀原料的價(jià) 格的100倍，將導(dǎo)致生產(chǎn)成本大幅增加的問題。除了上述的化學(xué)氣相沉積裝置之外，目前還有另一種用來形成聚對二甲苯薄膜的 化學(xué)氣相沉積裝置，其在蒸發(fā)室、裂解室與沉積室之間并未配置節(jié)流閥。也就是說，蒸發(fā)室、 裂解室與沉積室之間是彼此相通的，因此可以解決節(jié)流閥損壞的問題。然而，在以此種化學(xué) 氣相沉積裝置形成聚對二甲苯薄膜的過程中，當(dāng)聚對二甲苯材料消耗完之后，必須先停機(jī) 來補(bǔ)充聚對二甲苯粉末，并將溫度降至室溫，因而無法達(dá)到連續(xù)生產(chǎn)的目的。

發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明提供一種化學(xué)氣相沉積裝置，其可以達(dá)到連續(xù)生產(chǎn)的目的。本發(fā)明另提供一種聚對二甲苯薄膜的形成方法，其可以在連續(xù)生產(chǎn)聚對二甲苯薄 膜時(shí)補(bǔ)充聚對二甲苯材料。本發(fā)明提出一種化學(xué)氣相沉積裝置，其包括緩沖室、蒸發(fā)室、裂解室以及沉積室。 緩沖室具有第一閥門與第二閥門。蒸發(fā)室與第二閥門連接。裂解室藉由第一管路而與蒸發(fā) 室連接，其中第一管路具有第三閥門，而沉積室與裂解室連接。依照本發(fā)明實(shí)施方式所述的化學(xué)氣相沉積裝置，上述沉積室具有第四閥門，其中 裂解室通過第四閥門與沉積室連接。依照本發(fā)明實(shí)施方式所述的化學(xué)氣相沉積裝置，上述蒸發(fā)室例如具有物料接收區(qū) 與蒸發(fā)區(qū)，且物料接收裝置可移動(dòng)地配置于蒸發(fā)室中。其中物料接收區(qū)用來接收材料，且蒸發(fā)區(qū)用來加熱材料。依照本發(fā)明實(shí)施方式所述的化學(xué)氣相沉積裝置，上述緩沖室中例如具有承載裝置。依照本發(fā)明實(shí)施方式所述的化學(xué)氣相沉積裝置，還可以包括供料器(sorter)，此 供料器通過第一閥門而與緩沖室連接。依照本發(fā)明實(shí)施方式所述的化學(xué)氣相沉積裝置，還可以包括冷卻捕集器(cold trap)，此冷卻捕集器藉由第二管路而與蒸發(fā)室連接，其中第二管路具有第五閥門。依照本發(fā)明實(shí)施方式所述的化學(xué)氣相沉積裝置，上述第五閥門例如為氣動(dòng)閥(air actuated valve)0依照本發(fā)明實(shí)施方式所述的化學(xué)氣相沉積裝置，上述第一閥門與第二閥門分別例 如為閘閥(gate valve)或氣動(dòng)閥。依照本發(fā)明實(shí)施方式所述的化學(xué)氣相沉積裝置，上述第三閥門例如為氣動(dòng)閥。依照本發(fā)明實(shí)施方式所述的化學(xué)氣相沉積裝置，上述第四閥門例如為閘閥或氣動(dòng)閥。依照本發(fā)明實(shí)施方式所述的化學(xué)氣相沉積裝置，還包括泵，藉由第三管路而與冷 卻捕集器連接。本發(fā)明另提出一種聚對二甲苯薄膜的形成方法，其是先提供化學(xué)氣相沉積裝置。 此化學(xué)氣相沉積裝置包括緩沖室、蒸發(fā)室、裂解室以及沉積室。緩沖室具有第一閥門與第二 閥門。蒸發(fā)室與第二閥門連接。裂解室藉由第一管路而與蒸發(fā)室連接，其中第一管路具有 第三閥門。沉積室與裂解室連接。然后，經(jīng)由第一閥門而將聚對二甲苯材料置于緩沖室中。 接著，關(guān)閉第一閥門與第二閥門，并使緩沖室的壓力與蒸發(fā)室的壓力相同。而后，開啟第二 閥門，將聚對二甲苯材料傳送至蒸發(fā)室中。繼之，于蒸發(fā)室中蒸發(fā)聚對二甲苯材料，以形成 聚對二甲苯氣體。隨后，開啟第三閥門，以將聚對二甲苯氣體藉由第一管路而傳送至裂解 室。然后，于裂解室中裂解聚對二甲苯氣體，以形成聚對二甲苯單體。接著，將聚對二甲苯 單體傳送至沉積室進(jìn)行沉積，以形成聚對二甲苯薄膜。依照本發(fā)明實(shí)施方式所述的聚對二甲苯薄膜的形成方法，當(dāng)緩沖室中的聚對二甲 苯材料消耗完之后，關(guān)閉第二閥門并開啟第一閥門，以補(bǔ)充聚對二甲苯材料。依照本發(fā)明實(shí)施方式所述的聚對二甲苯薄膜的形成方法，上述蒸發(fā)室例如具有物 料接收區(qū)與蒸發(fā)區(qū)，且物料接收裝置可移動(dòng)地配置于蒸發(fā)室中，當(dāng)聚對二甲苯材料被傳送 至蒸發(fā)室中時(shí)，物料接收裝置于物料接收區(qū)接收聚對二甲苯材料，并將聚對二甲苯材料傳 送至蒸發(fā)區(qū)。依照本發(fā)明實(shí)施方式所述的聚對二甲苯薄膜的形成方法，上述緩沖室中例如具有 承載裝置，而聚對二甲苯材料被置于承載裝置中，當(dāng)開啟第二閥門，承載裝置將聚對二甲苯 材料傳送至蒸發(fā)室中。依照本發(fā)明實(shí)施方式所述的聚對二甲苯薄膜的形成方法，上述化學(xué)氣相沉積裝置 還可以包括供料器，此供料器通過第一閥門而與該緩沖室連接，以經(jīng)由第一閥門而將聚對 二甲苯材料置于緩沖室中。依照本發(fā)明實(shí)施方式所述的聚對二甲苯薄膜的形成方法，上述沉積室具有第四閥 門，其中裂解室通過第四閥門與沉積室連接，聚對二甲苯單體通過第四閥門傳送至沉積室進(jìn)行沉積，以形成聚對二甲苯薄膜。依照本發(fā)明實(shí)施方式所述的聚對二甲苯薄膜的形成方法，上述化學(xué)氣相沉積裝置 還可以包括冷卻捕集器，此冷卻捕集器藉由第二管路而與蒸發(fā)室連接，且第二管路具有第 五閥門，在形成聚對二甲苯氣體之后以及在開啟第三閥門之前，通過第二管路將處于未穩(wěn) 定蒸發(fā)狀態(tài)的聚對二甲苯氣體傳送至冷卻捕集器。依照本發(fā)明實(shí)施方式所述的聚對二甲苯薄膜的形成方法，當(dāng)聚對二甲苯氣體處于 穩(wěn)定蒸發(fā)狀態(tài)之后，關(guān)閉第五閥門并開啟第三閥門。依照本發(fā)明實(shí)施方式所述的聚對二甲苯薄膜的形成方法，上述聚對二甲苯材料例 如為粉末狀。依照本發(fā)明實(shí)施方式所述的聚對二甲苯薄膜的形成方法，其中化學(xué)氣相沉積裝置 還包括泵，用以將傳送至冷卻捕集器的聚對二甲苯氣體排出?；谏鲜觯景l(fā)明將緩沖室設(shè)置于蒸發(fā)室前，因此在制程期間需要補(bǔ)充聚對二甲 苯材料時(shí)，可以藉由關(guān)閉緩沖室與蒸發(fā)室之間的閥門而將聚對二甲苯材料傳送至緩沖室的 方式來進(jìn)行補(bǔ)充。此外，以上述方式來補(bǔ)充聚對二甲苯材料可以避免將化學(xué)氣相沉積裝置 停機(jī)或避免蒸發(fā)室破真空而導(dǎo)致制程中斷，因而可以達(dá)到連續(xù)生產(chǎn)聚對二甲苯薄膜的目 的。為讓本發(fā)明上述特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，下文特舉實(shí)施例，并配合所附圖式作 詳細(xì)說明如下。

圖1為依照本發(fā)明實(shí)施方式所繪示的化學(xué)氣相沉積裝置的示意圖。圖2為依照本發(fā)明實(shí)施方式所繪示的化學(xué)氣相沉積裝置的緩沖室的剖面示意圖。圖3為依照本發(fā)明實(shí)施方式所繪示的化學(xué)氣相沉積裝置的蒸發(fā)室的剖面示意圖。圖4為利用本發(fā)明的化學(xué)氣相沉積裝置形成聚對二甲苯薄膜的流程圖。主要元件符號(hào)說明100 化學(xué)氣相沉積裝置102 緩沖室104 蒸發(fā)室106 裂解室108 沉積室110、112、116、118、124 閥門114、122、128 管路120 冷卻捕集器126 泵130 供料器132 承載裝置134 蒸發(fā)區(qū)136 物料接收區(qū)138 物料接收裝置
400 414 步驟具體實(shí)施方式
圖1為依照本發(fā)明實(shí)施方式所繪示的化學(xué)氣相沉積裝置的示意圖。請參照圖1，化 學(xué)氣相沉積裝置100包括緩沖室102、蒸發(fā)室104、裂解室106以及沉積室108。緩沖室102 具有第一閥門110與第二閥門112。第一閥門110例如為閘閥或氣動(dòng)閥，其用以將緩沖室 102與外界連通或隔離。第二閥門112例如為閘閥或氣動(dòng)閥，其用以將緩沖室102與蒸發(fā)室 104連通或隔離。蒸發(fā)室104與第二閥門112連接。蒸發(fā)室104用以將材料蒸發(fā)而形成化 學(xué)氣相沉積制程中的反應(yīng)氣體。裂解室106藉由第一管路114而與蒸發(fā)室104連接，其中 第一管路114具有第三閥門116。裂解室106用以對化學(xué)氣相沉積制程中的反應(yīng)氣體進(jìn)行 熱裂解。第三閥門116例如為氣動(dòng)閥，其用以控制由蒸發(fā)室104所產(chǎn)生的反應(yīng)氣體是否由 蒸發(fā)室104傳送至裂解室106。其中，沉積室108與裂解室106連接。在本實(shí)施例中，沉積 室108具有第四閥門118，且裂解室106通過第四閥門118與沉積室108連接。沉積室108 用以進(jìn)行化學(xué)氣相沉積，以于沉積室108中的待沉積基板上形成薄膜。第四閥門118例如 為閘閥或氣動(dòng)閥，其用以將沉積室108與裂解室106連通或隔離。此外，化學(xué)氣相沉積裝置100還可以包括冷卻捕集器120。冷卻捕集器120藉由 第二管路122而與蒸發(fā)室104連接，其中第二管路122具有第五閥門124。冷卻捕集器120 用以捕捉蒸發(fā)室104中處于未穩(wěn)定蒸發(fā)狀態(tài)的反應(yīng)氣體。上述的未穩(wěn)定蒸發(fā)狀態(tài)表示蒸發(fā) 速率、所形成的氣體的組成等特性不穩(wěn)定的狀態(tài)。第五閥門1 例如為氣動(dòng)閥，其用以控制 由蒸發(fā)室104所產(chǎn)生的反應(yīng)氣體是否由蒸發(fā)室104傳送至冷卻捕集器120。另外，化學(xué)氣相沉積裝置100還可以包括泵126。泵1 藉由第三管路1 而與冷 卻捕集器1 連接。泵1 用以將傳送至冷卻捕集器120的氣體排出。再者，化學(xué)氣相沉積裝置100還可以包括供料器130。供料器130通過第一閥門 110而與緩沖室102連接。供料器130用以在外界將材料精密分重后，經(jīng)由第一閥門110而 送至于緩沖室102中。當(dāng)然，視實(shí)際需求，化學(xué)氣相沉積裝置100還可以包括其他未繪示的熟知裝置，例 如質(zhì)流控制器(mass flow controllers)與節(jié)流閥(throttlevalve)等。質(zhì)流控制器用以 使蒸發(fā)室104所產(chǎn)生的反應(yīng)氣體能夠定量地傳送至裂解室106。節(jié)流閥用以控制沉積室108 內(nèi)的壓力。以下將對緩沖室102與蒸發(fā)室104作進(jìn)一步的說明。圖2為依照本發(fā)明實(shí)施方式所繪示的緩沖室102的剖面示意圖。請參照圖2，緩沖 室102具有第一閥門110與第二閥門112。緩沖室102中具有承載裝置132。在本實(shí)施例 中，承載裝置132為旋轉(zhuǎn)式承載裝置。當(dāng)材料經(jīng)由第一閥門110而被傳送至緩沖室102時(shí)， 材料會(huì)先被置于承載裝置132上，然后在開啟第二閥門112之后，藉由旋轉(zhuǎn)承載裝置132而 使材料通過第二閥門112并傳送至蒸發(fā)室104。當(dāng)然，在其他實(shí)施例中，也可以使用其他類 型的承載裝置，本發(fā)明并不對此作任何限制。圖3為依照本發(fā)明實(shí)施方式所繪示的蒸發(fā)室104的剖面示意圖。請參照圖3，蒸發(fā) 室104具有蒸發(fā)區(qū)134與物料接收區(qū)136。物料接收裝置138可移動(dòng)地配置于蒸發(fā)室104 中，詳細(xì)來說，物料接收裝置138可在蒸發(fā)區(qū)134與物料接收區(qū)136中移動(dòng)。在本實(shí)施例中，物料接收裝置138可在蒸發(fā)室104中垂直移動(dòng)與水平移動(dòng)(如箭號(hào)所示)。當(dāng)材料自緩沖 室102被傳送至蒸發(fā)室104時(shí)，物料接收裝置138先移動(dòng)至物料接收區(qū)138接近第二閥門 112的位置來接收材料，然后再移動(dòng)至蒸發(fā)區(qū)134來進(jìn)行材料的蒸發(fā)步驟。也就是說，物料 接收區(qū)136用來接收材料，并利用物料接收裝置138輸送至蒸發(fā)區(qū)134，蒸發(fā)區(qū)134用來加 熱材料，以形成蒸發(fā)狀態(tài)的反應(yīng)氣體。當(dāng)然，在其他實(shí)施例中，物料接收裝置的移動(dòng)方式也 可以是其他類型，其視蒸發(fā)室104的設(shè)計(jì)而定，本發(fā)明并不對此作任何限制。特別一提的是，在圖1所示的實(shí)施例中，緩沖室102位于蒸發(fā)室104的上方，而在 其他實(shí)施例中，緩沖室102也可以視實(shí)際需求而位于蒸發(fā)室104的側(cè)邊。在化學(xué)氣相沉積裝置100中，由于在蒸發(fā)室104之前設(shè)置有緩沖室102，因此當(dāng)緩 沖室102中的材料全部被傳送至蒸發(fā)室104之后，或是在化學(xué)氣相沉積制程中需要進(jìn)一步 補(bǔ)充材料時(shí)，可以藉由關(guān)閉第二閥門112并經(jīng)由第一閥門110而將材料傳送至緩沖室102 的方式來補(bǔ)充材料，而不須要使化學(xué)氣相沉積裝置100停機(jī)或使蒸發(fā)室104破真空來補(bǔ)充 材料，以達(dá)到連續(xù)生產(chǎn)的目的。以下將說明利用化學(xué)氣相沉積裝置100來形成聚對二甲苯薄膜的步驟流程。圖4為利用化學(xué)氣相沉積裝置100來形成聚對二甲苯薄膜的流程圖。請同時(shí)參照 圖1、圖2、圖3與圖4，首先，在步驟400中，將聚對二甲苯材料置于緩沖室102中。聚對二 甲苯材料例如為粉末狀。將聚對二甲苯材料置于緩沖室102中的方式例如是藉由供料器 130將聚對二甲苯材料精密分重后經(jīng)由第一閥門110而置于緩沖室102內(nèi)的承載裝置132 中。然后，在步驟402中，關(guān)閉第一閥門110與第二閥門112，并使緩沖室102的壓力與 蒸發(fā)室104的壓力相同。使緩沖室102的壓力與蒸發(fā)室104的壓力相同的方法例如是進(jìn)行 抽真空步驟，以使緩沖室102與蒸發(fā)室104達(dá)到同一負(fù)壓。接著，在步驟404中，當(dāng)緩沖室102的壓力與蒸發(fā)室104的壓力相同之后，開啟第 二閥門112，以將聚對二甲苯材料傳送至蒸發(fā)室104中。將聚對二甲苯材料傳送至蒸發(fā)室 104中的方式例如是藉由旋轉(zhuǎn)緩沖室102內(nèi)的承載裝置132而將聚對二甲苯材料傳送至位 于蒸發(fā)室104的物料接收區(qū)136的物料接收裝置138中。而后，在步驟406中，將物料接收裝置138由物料接收區(qū)136移動(dòng)至蒸發(fā)區(qū)134，以 蒸發(fā)聚對二甲苯材料而形成聚對二甲苯氣體。繼之，在步驟408中，當(dāng)聚對二甲苯氣體處于未穩(wěn)定蒸發(fā)狀態(tài)時(shí)，經(jīng)由第二管路 122將聚對二甲苯氣體傳送至冷卻捕集器120。上述的未穩(wěn)定蒸發(fā)狀態(tài)表示蒸發(fā)速率、所形 成的氣體的組成等特性不穩(wěn)定的狀態(tài)。由于在進(jìn)行蒸發(fā)的過程中蒸發(fā)室104的溫度是由室 溫上升至聚對二甲苯的汽化溫度(約150°C )，使得剛開始進(jìn)行蒸發(fā)時(shí)所形成的聚對二甲苯 氣體處于未穩(wěn)定蒸發(fā)狀態(tài)，因此將處于未穩(wěn)定蒸發(fā)狀態(tài)的聚對二甲苯氣體傳送至冷卻捕集 器120可以有效提高所形成的聚對二甲苯薄膜的品質(zhì)。在制程期間，泵1 用以將傳送至 該冷卻捕集器120的該聚對二甲苯氣體排出。隨后，在步驟410中，在聚對二甲苯氣體處于穩(wěn)定蒸發(fā)狀態(tài)之后，關(guān)閉第五閥門 IM并開啟第三閥門116，經(jīng)由第一管路114將聚對二甲苯氣體傳送至裂解室106，以在裂解 室106裂解聚對二甲苯氣體而形成聚對二甲苯單體。然后，在步驟412中，開啟第四閥門118，以將聚對二甲苯單體傳送至沉積室108進(jìn)行沉積，以形成聚對二甲苯薄膜。之后，在步驟414中，當(dāng)緩沖室102中的聚對二甲苯材料消耗完之后，關(guān)閉第二閥 門112并開啟第一閥門110，以補(bǔ)充聚對二甲苯材料，并重復(fù)步驟400至步驟412，直到形成 所需厚度的聚對二甲苯薄膜為止。在本實(shí)施例中，由于在制程期間需要補(bǔ)充聚對二甲苯材料時(shí)，可以藉由關(guān)閉緩沖 室102與蒸發(fā)室104之間的第二閥門112而將聚對二甲苯材料傳送至緩沖室102的方式來 進(jìn)行補(bǔ)充，因此不需將化學(xué)氣相沉積裝置停機(jī)或使蒸發(fā)室104破真空來進(jìn)行補(bǔ)充聚對二甲 苯材料的步驟，因而可以達(dá)到連續(xù)生產(chǎn)聚對二甲苯薄膜的目的。雖然本發(fā)明已以實(shí)施例揭露如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何本領(lǐng)域技術(shù)人 員在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作一些更動(dòng)與潤飾，故本發(fā)明的保護(hù)范圍當(dāng)以所 附權(quán)利要求為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種化學(xué)氣相沉積裝置，包括緩沖室，具有第一閥門與第二閥門； 蒸發(fā)室，與該第二閥門連接；裂解室，藉由第一管路而與該蒸發(fā)室連接，其中該第一管路具有第三閥門；以及 沉積室，與該裂解室連接。
2.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相沉積裝置，其中該沉積室具有第四閥門，且該裂解室 通過該第四閥門與該沉積室連接。
3.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相沉積裝置，其中該蒸發(fā)室具有物料接收區(qū)與蒸發(fā)區(qū)， 其中該物料接收區(qū)用來接收材料，且該蒸發(fā)區(qū)用來加熱該材料。
4.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相沉積裝置，其中該蒸發(fā)室還包括物料接收裝置，且該 物料接收裝置可移動(dòng)地配置于該蒸發(fā)室中。
5.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相沉積裝置，其中該緩沖室中具有承載裝置。
6.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相沉積裝置，還包括供料器，該供料器通過該第一閥門 而與該緩沖室連接。
7.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相沉積裝置，還包括冷卻捕集器，藉由第二管路而與該 蒸發(fā)室連接，其中該第二管路具有第五閥門。
8.如權(quán)利要求7所述的化學(xué)氣相沉積裝置，其中該第五閥門為氣動(dòng)閥。
9.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相沉積裝置，其中該第一閥門、該第二閥門分別為閘閥 或氣動(dòng)閥。
10.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相沉積裝置，其中該第三閥門為氣動(dòng)閥。
11.如權(quán)利要求2所述的化學(xué)氣相沉積裝置，其中該第四閥門為閘閥或氣動(dòng)閥。
12.如權(quán)利要求7所述的化學(xué)氣相沉積裝置，還包括泵，該泵藉由第三管路而與該冷卻 捕集器連接。
13.—種聚對二甲苯薄膜的形成方法，包括提供化學(xué)氣相沉積裝置，該化學(xué)氣相沉積裝置包括 緩沖室，具有第一閥門與第二閥門； 蒸發(fā)室，與該第二閥門連接；裂解室，藉由第一管路而與該蒸發(fā)室連接，其中該第一管路具有第三閥門；以及 沉積室，與該裂解室連接；經(jīng)由該第一閥門而將聚對二甲苯材料置于該緩沖室中；關(guān)閉該第一閥門與該第二閥門，并使該緩沖室的壓力與該蒸發(fā)室的壓力相同；開啟該第二閥門，將該聚對二甲苯材料傳送至該蒸發(fā)室中；于該蒸發(fā)室中蒸發(fā)該聚對二甲苯材料，以形成聚對二甲苯氣體；開啟該第三閥門，以將該聚對二甲苯氣體藉由該第一管路而傳送至該裂解室；于該裂解室中裂解該聚對二甲苯氣體，以形成聚對二甲苯單體；以及將該聚對二甲苯單體傳送至該沉積室進(jìn)行沉積，以形成聚對二甲苯薄膜。
14.如權(quán)利要求13所述的聚對二甲苯薄膜的形成方法，其中當(dāng)該緩沖室中的該聚對二 甲苯材料消耗完之后，關(guān)閉該第二閥門并開啟該第一閥門，以補(bǔ)充該聚對二甲苯材料。
15.如權(quán)利要求13所述的聚對二甲苯薄膜的形成方法，其中該蒸發(fā)室具有物料接收區(qū)與蒸發(fā)區(qū)，且物料接收裝置可移動(dòng)地配置于該蒸發(fā)室中，當(dāng)該聚對二甲苯材料被傳送至該 蒸發(fā)室中時(shí)，該物料接收裝置于該物料接收區(qū)接收該聚對二甲苯材料，并將該聚對二甲苯 材料傳送至該蒸發(fā)區(qū)。
16.如權(quán)利要求13所述的聚對二甲苯薄膜的形成方法，其中該緩沖室中更具有承載裝 置，而該聚對二甲苯材料被置于該承載裝置中，當(dāng)開啟該第二閥門時(shí)，該承載裝置將該聚對 二甲苯材料傳送至該蒸發(fā)室中。
17.如權(quán)利要求13所述的聚對二甲苯薄膜的形成方法，其中該化學(xué)氣相沉積裝置還包 括供料器，該供料器通過該第一閥門而與該緩沖室連接，以經(jīng)由該第一閥門而將該聚對二 甲苯材料置于該緩沖室中。
18.如權(quán)利要求13所述的聚對二甲苯薄膜的形成方法，其中該沉積室具有第四閥門， 其中該裂解室通過該第四閥門與該沉積室連接，該聚對二甲苯單體通過該第四閥門傳送至 該沉積室進(jìn)行沉積，以該形成聚對二甲苯薄膜。
19.如權(quán)利要求13所述的聚對二甲苯薄膜的形成方法，其中該化學(xué)氣相沉積裝置還包 括冷卻捕集器，該冷卻捕集器藉由第二管路而與該蒸發(fā)室連接，且該第二管路具有第五閥 門，在形成該聚對二甲苯氣體之后以及在開啟該第三閥門之前，通過該第二管路將處于未 穩(wěn)定蒸發(fā)狀態(tài)的該聚對二甲苯氣體傳送至該冷卻捕集器。
20.如權(quán)利要求19所述的聚對二甲苯薄膜的形成方法，其中當(dāng)該聚對二甲苯氣體處于 穩(wěn)定蒸發(fā)狀態(tài)之后，關(guān)閉該第五閥門并開啟該第三閥門。
21.如權(quán)利要求13所述的聚對二甲苯薄膜的形成方法，其中該聚對二甲苯材料為粉末狀。
22.如權(quán)利要求19所述的聚對二甲苯薄膜的形成方法，其中該化學(xué)氣相沉積裝置還包 括泵，該泵用以將傳送至該冷卻捕集器的該聚對二甲苯氣體排出。
全文摘要
一種化學(xué)氣相沉積裝置與聚對二甲苯薄膜的形成方法。此化學(xué)氣相沉積裝置包括緩沖室、蒸發(fā)室、裂解室以及沉積室。緩沖室具有第一閥門與第二閥門。蒸發(fā)室與第二閥門連接。裂解室藉由第一管路而與蒸發(fā)室連接，其中第一管路具有第三閥門，且沉積室與裂解室連接。
文檔編號(hào)C23C16/00GK102115876SQ20091026188
公開日2011年7月6日 申請日期2009年12月31日 優(yōu)先權(quán)日2009年12月31日
發(fā)明者莊傳勝, 張均豪 申請人:財(cái)團(tuán)法人工業(yè)技術(shù)研究院