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消失模鑄造專用修補(bǔ)膏的制作方法

文檔序號(hào):3247389閱讀:2343來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:消失模鑄造專用修補(bǔ)膏的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于一種化工產(chǎn)品,具體涉及一種消失模鑄造專用修補(bǔ)膏。
背景技術(shù)
消失模鑄造是采用聚苯乙烯制作泡沫模型,在負(fù)壓狀態(tài)下,利用鐵水氣化 泡沫模型并置換泡沫模型占據(jù)的空間,然后冷卻成型而形成鑄件的鑄造工藝。 由于泡沫模型在制造過(guò)程中容易出現(xiàn)表面融合不好等缺陷而報(bào)廢,通常在出現(xiàn) 缺陷的表面上涂上一層修補(bǔ)膏來(lái)修復(fù)缺陷。目前使用的修補(bǔ)膏強(qiáng)度低,成模性 不好,發(fā)氣量大,高溫分解殘留物多,因此不能很好地保證鑄件質(zhì)量。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是克服上述現(xiàn)有技術(shù)的不足和缺點(diǎn),而.提供一 種使用性能和工藝性能好的消失模鑄造專用修補(bǔ)膏,從而提高鑄件的質(zhì)量。
本發(fā)明的技術(shù)方案 一種消失模鑄造專用修補(bǔ)膏,它的組分和重量含量如

硬脂酸70 80份,石蠟20 - 30份, 聚乙二醇10 20份, 氫氧化鈉4 ~ 5份, 水4G ~ 50份。
所述的硬脂酸的熔點(diǎn)為70-7rC,凝固點(diǎn)為54 57。C,聚乙二醇的粘度為 37~45Pa s,羥值為268 ~ 249mgH0N/g。
本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有以下有益效果1、所述修補(bǔ)膏具有較高的表面 強(qiáng)度,使得泡沫模型在搬運(yùn)過(guò)程中修補(bǔ)膏不會(huì)起皮、掉落;2、所述修補(bǔ)膏具有 很好的成模性和表面光潔度,使得澆注出來(lái)的鑄件表面光潔度好,提高了鑄件 在市場(chǎng)上的竟?fàn)幠芰Γ?、所述修補(bǔ)膏具有發(fā)氣性低的特性,使得泡沫模型在澆注過(guò)程中產(chǎn)生的氣體少,對(duì)工人操作環(huán)境和鑄件內(nèi)在質(zhì)量都有4艮大的提高;4、 所述修補(bǔ)膏具有高溫氣化殘留物的特性,對(duì)于解決消失模鑄造特有的皺皮缺陷 有很大的幫助。
具體實(shí)施例方式
實(shí)施例1
一種消失模鑄造專用修補(bǔ)膏,其特征是它的組分和重量含量如下 硬脂酸800g,石蠟200g,聚乙二醇150g,氫氧化鈉50g, 水400g 。其中 硬脂酸的熔點(diǎn)為70~ 7rC,凝固點(diǎn)為54 57。C,聚乙二醇的粘度為37 ~ 45Pa .s,羥值為268 ~ 249mgH0N/g。 實(shí)施例2
一種消失模鑄造專用修補(bǔ)膏,其特征是它的組分和重量含量如下 硬脂酸700g,石蠟300g,聚乙二醇200g,氫氧化鈉40g,水500g 。其中 硬脂酸的熔點(diǎn)為70~ 71°C,凝固點(diǎn)為54 57。C,聚乙二醇的粘度為37 ~ 45Pa s,羥值為268 ~ 249mgH0N/g。 實(shí)施例3
一種消失模鑄造專用修補(bǔ)膏,其特征是它的組分和重量含量如下 硬脂酸750g,石蠟250g,聚乙二醇100g,氫氧化鈉45g,水450g 。其中
硬脂酸的熔點(diǎn)為70~ 7rC,凝固點(diǎn)為54 57。C,聚乙二醇的粘度為37 ~ 45Pa .s,羥值為268 ~ 249mgH0N/g。
上述消失模鑄造專用修補(bǔ)膏的制備方法將硬脂酸、石蠟、聚乙二醇、水
混合到鋼制器亞中,然后加熱,待硬脂酸和石蠟完全溶解后加入氬氣化鈉,攪
拌后靜置到室溫成形成。
權(quán)利要求
1、一種消失模鑄造專用修補(bǔ)膏,其特征是它的組分和重量含量如下硬脂酸70~80份,石蠟20~30份,聚乙二醇10~20份,氫氧化鈉4~5份,水40~50份。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的消失模鑄造專用修補(bǔ)膏,其特征是所述的硬脂酸 的熔點(diǎn)為70 7rC,凝固點(diǎn)為54 57。C,聚乙二醇的粘度為37 45Pa.s,幾 值為268 ~ 249mgHON/g。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種消失模鑄造專用修補(bǔ)膏,它的組分和重量含量如下硬脂酸70~80份,石蠟20~30份,聚乙二醇10~20份,氫氧化鈉4~5份,水40~50份;所述的硬脂酸的熔點(diǎn)為70~71℃,凝固點(diǎn)為54~57℃,聚乙二醇的粘度為37~45Pa·s,羥值為268~249mgHON/g。本發(fā)明具有成模性好,流平性好,強(qiáng)度高,表面光潔度好,發(fā)氣量低的,高溫分解殘留物性好的優(yōu)點(diǎn)。
文檔編號(hào)B22C7/02GK101642797SQ20091017001
公開(kāi)日2010年2月10日 申請(qǐng)日期2009年9月1日 優(yōu)先權(quán)日2009年9月1日
發(fā)明者鄭寶安 申請(qǐng)人:鄭寶安
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