專(zhuān)利名稱(chēng)：將用于軋機(jī)缸體的中心架定位并閉鎖在研磨機(jī)上的裝置和方法以及采用該裝置的研磨機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及將用于軋機(jī)缸體(cylinders )的中心架(steady rests ) 定位并閉鎖在研磨機(jī)上的裝置和方法以及采用該裝置的研磨機(jī)。
背景技術(shù)：
用于軋機(jī)缸體的研磨機(jī)是用在鋼廠的大型設(shè)備，以修復(fù)用在軋制 機(jī)架中的軋輥的表面特征和結(jié)構(gòu)完整性，為了獲得長(zhǎng)使用壽命和生產(chǎn) 的薄鋼板的高質(zhì)量。
通常，這種研磨機(jī)具有非破壞性的控制系統(tǒng)，用于確定并檢測(cè)諸 如不同形式的表面或表面下的裂紋、燒傷、氣孔等的缺陷，這些缺陷 既能夠影響軋制產(chǎn)品的質(zhì)量又能夠影響缸體的壽命。
一般的作業(yè)，特別是對(duì)非常細(xì)長(zhǎng)圓柱形軋輥的作業(yè)，為要被所謂 的中心架的裝置支撐的缸體做準(zhǔn)備，該中心架確保以足夠的剛性支撐 缸體，而不在輪廓形狀上產(chǎn)生缺陷。
當(dāng)需要時(shí)，對(duì)于軋輥的每種構(gòu)造，中心架應(yīng)當(dāng)以理想的方式設(shè)置。 中心架的設(shè)置和固定通常用手工進(jìn)行或通過(guò)液壓系統(tǒng)進(jìn)行，該液壓系 統(tǒng)對(duì)中心架的基座的活動(dòng)閉鎖元件進(jìn)行操作。
現(xiàn)有技術(shù)僅僅在中心架適應(yīng)于研磨條件方面確保中心架的自動(dòng) 化，而關(guān)于它們的初始定位到目前為止還未做任何事情。
如果在被研磨的缸體(其直徑通常在缸體被定位在研磨機(jī)上之后 才被確定)的形狀和尺寸方面具有驚人的不同，到目前為止，這種要 求仍然需要這種定位由有經(jīng)驗(yàn)的操作者來(lái)進(jìn)行。
而且，定位操作在存在油、冷卻劑物質(zhì)以及來(lái)自以前的機(jī)加工操 作的殘余物(例如，磨料和金屬顆粒)的情況下進(jìn)行，它們往往沉積并駐留在中心架的運(yùn)動(dòng)區(qū)。
因此，必須在特別臟的環(huán)境下進(jìn)行操作，為了進(jìn)行中心架的調(diào)節(jié) 操作，手工介入需要很長(zhǎng)的時(shí)間段，相當(dāng)影響研磨機(jī)的總的生產(chǎn)成本。
此外，這種條件意味著進(jìn)一步限制使用中心架的自動(dòng)定位，原因 在于中心架將受到非常嚴(yán)重的磨損，由于中心架進(jìn)行操作所需的環(huán)境， 因此需要經(jīng)常性清潔和維護(hù)操作。
為了減少在中心架的運(yùn)動(dòng)區(qū)域的殘余物和沉積物，可以利用遮蔽 和/或清潔裝置，但是，它們的成本很高，使得手工定位更方便。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是以非常容易、廉價(jià)和實(shí)用的功能方式克服上面提 到的現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)。
本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供一種技術(shù)解決方案，其能夠以容易、 快捷、清潔以及無(wú)磨損方式進(jìn)行中心架定位操作。
本發(fā)明的再一個(gè)目的是得到一種定位并閉鎖中心架的裝置和方 法，這種裝置和方法能夠保證在研磨機(jī)中的整個(gè)研磨操作的高度自動(dòng) 化。
關(guān)于上述目的，根據(jù)本發(fā)明，提供定位并閉鎖中心架的裝置和方 法的構(gòu)思具有權(quán)利要求中所述的特征。
此外，認(rèn)為采用根據(jù)本發(fā)明的定位和閉鎖裝置，制造具體用于軋 機(jī)缸體的研磨機(jī)是明智的。


當(dāng)參考附圖分析了下面的描述之后，相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明的 結(jié)構(gòu)和功能特性以及優(yōu)點(diǎn)更加清楚，并且將更加明顯，附圖示出根據(jù)
本發(fā)明自身創(chuàng)新性原理制造的中心架的定位和閉鎖裝置。在附圖中 圖1示出采用本發(fā)明的定位和閉鎖裝置的中心架的正視圖； 圖2是根據(jù)圖1的中心架的箭頭F的視圖3是從圖2的這側(cè)看的容置在根據(jù)本發(fā)明的定位和閉鎖裝置上的中心架的一見(jiàn)圖4示出沿著圖3的IV-IV線的本發(fā)明的定位和閉鎖裝置的剖視
圖5是根據(jù)本發(fā)明的定位和閉鎖裝置的俯視圖。
具體實(shí)施例方式
參考附圖，采用定位和閉鎖裝置20 (本發(fā)明的主題)的中心架其 整體上用IO表示，并且在根據(jù)本發(fā)明的所示的例子中，它包括支撐主 體11，該支撐主體11具有用于軋制缸體13的布置表面12。
而且，提供至少兩個(gè)徑向可調(diào)節(jié)的接合裝置14a、 14b，用于接合 將要被研磨的缸體13，被相應(yīng)的調(diào)節(jié)裝置15a、 15b引導(dǎo)的缸體13從 布置表面12伸出。
中心架10以可拆卸的方式容置在定位和閉鎖裝置20上，該定位 和閉鎖裝置20包括平坦支架21，該支架21具有用于移動(dòng)中心架10 到位機(jī)動(dòng)化的平移裝置23。此外，該定位和閉鎖裝置20包括定中銷(xiāo) 26，其用來(lái)將中心架10的主體11精確地定位在定位和閉鎖裝置20 上，而且，該定位和閉鎖裝置20有利地具有磁性閉鎖裝置22，優(yōu)選 地，該磁性閉鎖裝置22做成磁性基座22，其在平坦支架21上操作并 且在中心架10的容置表面處容置在平坦支架21上。
使用磁性基座22具有避免使用導(dǎo)向裝置、孔或其它解決方案以達(dá) 到將中心架10的主體11安全地鎖定在支架21上的優(yōu)點(diǎn)。
為了保證中心架10的主體11和支架21之間的這種安全鎖定，磁 性基座22包括至少一個(gè)尺寸合適的磁體。
此外，僅僅在橫向壓力情況下需要錐形的閉鎖導(dǎo)向件，其在尺寸 上能夠做成很小，因此整體上能夠被中心架的主體11覆蓋并且絕不會(huì) 暴露于才幾械加工流體流中。
優(yōu)選地，平坦支架21有利地具有沒(méi)有任何粗糙部分的極佳的平坦 接合表面24。由于定位和閉鎖裝置20在骯臟的環(huán)境中操作，因此需 要支架21的平坦接合表面24，否則的話，與陶瓷材料混合的鐵磁材料被基座22的磁力推斥，能夠沉積在任何可得到的孔隙中。
因此，在沒(méi)有平坦表面的情況下，沉積的殘余物將在其操作中改
變磁體控制裝置，并且因此增加了維修操作的要求。
隨著磁性接合系統(tǒng)的磨損和功能改變，相當(dāng)多的材料沉積物通常
使中心架IO的定位和對(duì)齊操作變復(fù)雜，并且使定位和對(duì)齊操作不能重復(fù)。
優(yōu)選地，支架21的平坦表面24減少研磨殘余物的沉淀積累。
通過(guò)采用磁體區(qū)22的覆蓋物獲得表面24，該表面24以周邊方式 延伸到磁體區(qū)22，終止，從而覆蓋支架21的整個(gè)接合表面。
優(yōu)選地，這種覆蓋物24做成連續(xù)的并且由鐵磁材料制造，以便減 少作為磁隙的延伸出現(xiàn)的磁場(chǎng)散布。
可選地，可以用由逆磁性的或非磁性的材料制成的覆蓋物，即便 這種類(lèi)型的材料也要求減少壁的厚度，以避免磁場(chǎng)的散布。
這種防水的覆蓋物24將磁體與工作區(qū)分開(kāi)，以避免骯臟液體朝著 接合系統(tǒng)通過(guò)，否則將任何情況下引起損壞或改變操作。而且，減少 材料沉積并且沒(méi)有粗糙部分特別有利于維修操作。事實(shí)上，不再需要 除去捕獲在孔隙中以及沒(méi)有磁性元件的閉鎖裝置中的殘余物的操作。
磁場(chǎng)產(chǎn)生系統(tǒng)優(yōu)選用永久磁體進(jìn)行，其具有較高的能量，節(jié)省容量。
具體說(shuō)，永久磁體保持在固定的位置并且提供用于產(chǎn)生相反磁場(chǎng) 的裝置25，該相反磁場(chǎng)使中心架10的主體11上固有磁場(chǎng)為零。
這種結(jié)構(gòu)減少由該磁體和中心架之間的任何中間裝置引起的磁滯 問(wèn)題。
事實(shí)上，盡管使用螺線管或可屏蔽的或可拆卸的磁體，但是圍繞 中心架10的主體11的鎖定區(qū)的材料將會(huì)被輕微的磁化，進(jìn)一步增加 沉積物的積累。
根據(jù)本發(fā)明設(shè)定由螺線管產(chǎn)生的磁場(chǎng)的量的可能性使得能夠考慮 插入的鐵磁體材料的固有的極化分布，從而便于從中心架10拆下主體 11和清潔主體11的布置表面12的操作。此外，從維修的觀點(diǎn)看，其本身用鐵磁材料制造的中心架10的主 體完全覆蓋最大的磁場(chǎng)區(qū)22，提供磁路的封閉路徑。這不僅減少非控 制的磁場(chǎng)導(dǎo)致較大的沉淀的可能性，而且提供高粘附力。
通常在沒(méi)有磁場(chǎng)的情況下進(jìn)行清潔和維修操作將變得不足，而磁 場(chǎng)的閉鎖效應(yīng)將進(jìn)一步增加操作的時(shí)間長(zhǎng)度以及成本。
具體說(shuō)，定位和閉鎖裝置的操作如下
啟動(dòng)產(chǎn)生與由插入磁性基座22中的磁體產(chǎn)生的固有磁場(chǎng)相反的 相反磁場(chǎng)的裝置25。以這種方式，中心架主體ll被解鎖，允許其拆 下和更換。
而且，相反磁場(chǎng)能夠以這樣的方式設(shè)置，以對(duì)抗在覆蓋磁性基座 22的金屬中的任何磁滯效果。
因此，存在用另一種類(lèi)型的缸體所需要的另一種中心架更換中心 架10的可能性。
在將新的中心架IO定位在表面21上稍前，操作者看到，用任何 噴嘴或其它類(lèi)似的裝置清潔將中心架10的主體11閉鎖在磁性基座22 上的平坦支架區(qū)21。
而且這種清潔操作在沒(méi)有磁場(chǎng)的情況下進(jìn)行，即，是在具有使磁 鐵的固有磁場(chǎng)為零的相反磁場(chǎng)的情況下進(jìn)行的。以這種方式，以前的 操作中產(chǎn)生的剩余材料的抽取和處理是十分方便利的。
一旦中心架10的主體11已經(jīng)定位在表面22上，相反磁場(chǎng)被撤除。 撤除由相關(guān)裝置25產(chǎn)生的相反磁場(chǎng)使磁性基座22的永久磁體的固有 磁場(chǎng)能夠以數(shù)噸大小的力將中心架10的主體11吸引在定中銷(xiāo)26上， 與在0和lmm之間變化的磁隙無(wú)關(guān)。
這種磁力在平坦支架21的中心區(qū)操作，防止混合磁場(chǎng)影響中心架 的移動(dòng)設(shè)備的正常操作。
在整個(gè)缸體13研磨操作的期間，定位和閉鎖裝置20保持在接合 狀態(tài)中。
如果需要的話，在該循環(huán)末端，總磁場(chǎng)再一次為零，允許中心架 10的拆卸和更換。進(jìn)一步的清潔操作使所有積累的臟物能夠從密封平坦區(qū)域的磁體 的光滑壁上被簡(jiǎn)單地除去。
在沒(méi)有閉鎖磁場(chǎng)或主要加工妨礙的情況下，這種清潔操作能夠相
對(duì)于正常的研磨機(jī)結(jié)構(gòu)重置時(shí)間在減少大約2 5 %的時(shí)間內(nèi)進(jìn)行。
此外，通過(guò)這種解決方案，試驗(yàn)性的基準(zhǔn)測(cè)試已經(jīng)證明，用于對(duì) 中心架進(jìn)行所有操作(平移、閉鎖、解鎖、清潔以及結(jié)構(gòu)重置)的總 體時(shí)間能夠容易在相對(duì)于傳統(tǒng)的研磨機(jī)減少20%的時(shí)間內(nèi)實(shí)現(xiàn)。
因此，相對(duì)于在傳統(tǒng)的生產(chǎn)過(guò)程期間進(jìn)行的操作，中心架的磁性 閉鎖系統(tǒng)提供了減少用于中心架更換所需要的時(shí)間的可能性，因此為 具有它的研磨機(jī)帶來(lái)明顯的商業(yè)優(yōu)點(diǎn)。
而且，中心架的這種定位和閉鎖裝置不需有經(jīng)驗(yàn)的操作者進(jìn)行多 于一次的手工干預(yù)。具體說(shuō)，對(duì)于閉鎖中心架，可以使得研磨加工的 整體自動(dòng)化程度更高。
根據(jù)上述參考附圖的大致描述，十分清楚，根據(jù)本發(fā)明的定位和 閉鎖裝置是特別有用和有利的。
因此，實(shí)現(xiàn)在說(shuō)明書(shū)的前言部分中提到的目的。
很明顯，本發(fā)明的定位和閉鎖裝置的形狀可以不同于在附圖中為 了舉例說(shuō)明和非限制性的目的嚴(yán)格地示出的形狀。相同的情形也適用 于所用的材料。
因此本發(fā)明的保護(hù)范圍由權(quán)利要求限定。
權(quán)利要求
1.一種用于中心架(10)的定位及閉鎖裝置(20)，包括基本平坦支架(21)，該支架具有平移裝置(23)和閉鎖裝置(22)，其特征在于所述閉鎖裝置是磁性閉鎖裝置。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的定位及閉鎖裝置(20)，其特征在于所 述磁性閉鎖裝置(22)產(chǎn)生通常能夠設(shè)定的磁場(chǎng)。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的定位及閉鎖裝置(20)，其特征在于所 述定位及閉鎖裝置包括相反磁場(chǎng)產(chǎn)生裝置(25)，該相反磁場(chǎng)產(chǎn)生裝置 適于抵抗由所述磁性閉鎖裝置(22)產(chǎn)生的固有磁場(chǎng)。
4. 根據(jù)前述權(quán)利要求之一所述的定位及閉鎖裝置(20)，其特征 在于所述磁性閉鎖裝置(22)包括至少一個(gè)永久磁體。
5. 根據(jù)前述權(quán)利要求之一所述的定位及閉鎖裝置(20),其特征 在于所述平坦支架(21)具有基本無(wú)粗燥部分的接合表面。
6. 根據(jù)前述權(quán)利要求之一所述的定位及閉鎖裝置(20)，其特征 在于所述磁性閉鎖裝置(22)具有防水覆蓋物(24)。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的定位及閉鎖裝置(20)，其特征在于所 述覆蓋物(24)以周邊形式延伸到所述磁性閉鎖裝置(22)。
8. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的定位及閉鎖裝置(20),其特征在于所 述覆蓋物(24)用鐵磁材料制造。
9. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的定位及閉鎖裝置(20)，其特征在于所 述覆蓋物(24 )用逆磁性材料制造。
10. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的定位及閉鎖裝置(20)，其特征在于所 述覆蓋物(24)用非磁性材料制造。
11. 根據(jù)權(quán)利要求5至10中任何一項(xiàng)所述的定位及閉鎖裝置 (20)，其特征在于所述表面沒(méi)有粗燥部分，并且由所述覆蓋物(24)形成。
12. 根據(jù)前述權(quán)利要求之一所述的定位及閉鎖裝置(20)，其特征 在于所述平坦支架(21)包括多個(gè)定中銷(xiāo)(26)。
13. 根據(jù)前述權(quán)利要求之一所述的定位及閉鎖裝置(20)，其特征 在于所述平坦支架(21)包括多個(gè)閉鎖圓錐形導(dǎo)向件。
14. 一種用于軋機(jī)缸體的研磨機(jī)，其采用至少一個(gè)中心架(10)， 該中心架(10)包括具有至少一個(gè)布置表面(12)的主體(11)，所述 中心架(10)具有能夠徑向調(diào)節(jié)的接合裝置(14a、 14b )，其特征在于 所述中心架(10 )以可拆卸方式容置在根據(jù)權(quán)利要求1至13中任何一 項(xiàng)的軸向的定位和閉鎖裝置(20)上。
15. —種用于將用于軋機(jī)缸體的中心架(10)定位在根據(jù)權(quán)利要 求14的研磨機(jī)上的方法，包括如下步驟a) 將軋機(jī)缸體(13)安裝在所述研磨機(jī)上；b) 啟動(dòng)所述相反磁場(chǎng)產(chǎn)生裝置(25)，從而縮減由所述磁性閉鎖 裝置(22)產(chǎn)生的固有磁場(chǎng)；c) 平移所述中心架(10)，將它移動(dòng)到與所述軋機(jī)缸體(13)耦 合的位置；d )通過(guò)將所述中心架(10 )磁性地閉鎖在所述平坦支架(21)上， 停用所述相反磁場(chǎng)產(chǎn)生裝置(25);e)進(jìn)行所述軋機(jī)缸體(13)的研磨操作。
16. 根據(jù)權(quán)利要求15方法，其特征在于該方法包括當(dāng)所述相反磁 場(chǎng)產(chǎn)生裝置(25)被啟動(dòng)時(shí)對(duì)所述接合表面(24)進(jìn)行清潔的步驟。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種用于中心架(10)的定位及閉鎖裝置(20)，其包括基本平坦的支架(21)，該支架具有平移裝置(23)和閉鎖裝置(22)，其特征在于所述閉鎖裝置是磁性的。
文檔編號(hào)B24B41/06GK101605632SQ200880004250
公開(kāi)日2009年12月16日 申請(qǐng)日期2008年1月18日 優(yōu)先權(quán)日2007年1月19日
發(fā)明者F·S·比安凱西, F·坎迪亞尼, F·奧泰里, G·博塞利 申請(qǐng)人:特諾恩股份公司