專利名稱：用于在真空室內(nèi)移動托架的結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于在室內(nèi)(具體而言真空室內(nèi))移動托架的結(jié)構(gòu)，其中 此托架形成為板形并借助于驅(qū)動輥可直線移動。
背景技術(shù)：
在根據(jù)PECVD (PECVD二等離子體增強化學汽相沉積)原理進行操 作的真空涂覆設(shè)備中，經(jīng)由引入到設(shè)備中并被源離子化的氣體來直接進行 涂覆。等離子體在源與襯底或布置在襯底后方的電極之間燃燒。襯底通常緊固在托架上，托架在輥子上移動通過涂覆設(shè)備。這些輥子 優(yōu)選地由位于真空涂覆設(shè)備外的驅(qū)動系統(tǒng)來驅(qū)動，使得不會在真空設(shè)備中 產(chǎn)生污染。用于位于室內(nèi)的軸的驅(qū)動結(jié)構(gòu)是公知的(US 2005/0206260 Al)由位 于室外部的電動機通過磁性耦合來驅(qū)動該軸。而且，在具有數(shù)個傳輸輥的真空涂覆設(shè)備中用于襯底的傳輸結(jié)構(gòu)是公 知的(DE 103 28 273 Al)。在此結(jié)構(gòu)中，驅(qū)動器以及傳輸輥位于涂覆設(shè) 備的抽空區(qū)域。包括用于工件的傳輸系統(tǒng)的處理室也是公知的(GB 2 171 119 A)。 此傳輸系統(tǒng)包括通過磁性耦合裝置驅(qū)動的缸體。這里，該磁性耦合裝置用 作布置在室內(nèi)的提升件上的兩組傳輸輥之間進行切換。還公知的是在真空設(shè)備中用于移動安裝部件的結(jié)構(gòu)，其包括在容器內(nèi) 的連接元件，所述連接元件部分地由磁性材料構(gòu)成，其中容器的外側(cè)也布 置有磁性材料，其經(jīng)由摩擦連接與內(nèi)磁性材料專有地接觸(DE 102 27 365 =EP 1 387 473 A2)在公知的用于處理層疊襯底(例如硅盤片)的方法中，在用于制造微 電結(jié)構(gòu)的豎直定向時，設(shè)置驅(qū)動輥，其被壓到圓形硅盤片的三個位置上(US 6 251 551 Bl)。通過驅(qū)動輥可以使這些硅盤片繞其軸旋轉(zhuǎn)。但是， 借助于輸送帶來進行對這些硅盤片的進一步直線傳輸。為了板形和圓形托架的旋轉(zhuǎn)運動，公知的提供數(shù)個輥，其配合在托架 的邊緣上(JP 2002 110763 A)。但是，通過軌道進行托架的直線運動。在US 2002/0060134 Al中公開了具有螺旋磁性耦合裝置的磁性托架結(jié) 構(gòu)。但是，該結(jié)構(gòu)沒有提供用于輥的提升機構(gòu)。EP 1 648 079 A2描述了用于在被壁分開的物體之間進行移動的傳輸?shù)?系統(tǒng)。此系統(tǒng)不適用于傳輸托架。最后，具有用于傳輸層疊襯底的傳輸輥的真空涂覆設(shè)備是公知的，其 包括位于真空涂覆設(shè)備外部的驅(qū)動系統(tǒng)和在驅(qū)動器與至少一個傳輸輥之間 的至少一個磁性耦合裝置(未公開的歐洲專利申請EP 1 870487)。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明解決了在至少一個方向上在室內(nèi)自動移動物體的問題。 此問題根據(jù)本發(fā)明第一方面的特征來解決。因此，本發(fā)明涉及一種用于在真空室內(nèi)移動托架的結(jié)構(gòu)。此托架形成 為板形并被布置為其狹窄側(cè)邊緣位于由驅(qū)動系統(tǒng)驅(qū)動的輥上。優(yōu)選地利用 磁性耦合裝置作為間接驅(qū)動器，其部分位于真空室內(nèi)并部分位于真空室 外，磁性耦合裝置的位于真空室外的部件由電動機驅(qū)動。在沿著豎直方向 作用的力的幫助下，磁性耦合裝置的兩個部件可以相對于彼此發(fā)生位移。 此外，托架的水平位移也是可能的。本發(fā)明獲得的一個優(yōu)點包括，真空涂覆設(shè)備內(nèi)的托架可以與承載托架 的驅(qū)動輥分離。本發(fā)明的另一個優(yōu)點包括托架還可以側(cè)向位移。


本發(fā)明的示例實施例在附圖中示出并將在一下詳細描述。在附圖中圖l是處理室的總體視圖，圖2是穿過圖1的處理室的縱向截面A-A，圖3是在第一位置上根據(jù)圖2的局部放大圖，圖4是在第二位置上根據(jù)圖2的局部放大圖，圖5是穿過圖1的處理室的縱向截面B-B的一部分。
具體實施方式
圖1以側(cè)視圖示出了處理室1。除了該處理室1之外，還可以布置未 示出的多個室。這些室可以是處理室和/或緩沖室。處理室1擱置在支撐腳2、 3上，齒輪機構(gòu)29位于支撐腳2、 3之間， 并具有齒輪4、 5; 6、 7和中間軸8、 9。圖2示出了穿過處理室1的截面A-A?？梢钥吹剑幚硎冶恢虚g壁IO 分為兩個半部。托架11位于一個半部中，其可以在圖平面中，具體而 言，在導引輥上移動，圖2中僅示出了導引輥中的兩個導引輥12、 24。在 圖2中表示的托架11的下端13剛與輥12解耦并已經(jīng)通過鉤子14、 15和 驅(qū)動器(未示出)沿著朝向壁16的方向移動。提升活塞位于支撐腳2、 3 后方，其將在下文描述并且在圖1中不清楚。齒輪機構(gòu)29僅在利用兩個 提升缸體時才需要，以使得提升較均勻。17表示承載軸18的運輸梁，軸 18延伸穿過導引輥12并與磁性耦合裝置的位于處理室1內(nèi)的一個半部19 連接，并且與該磁性耦合裝置的位于處理室1外部的第二半部20相對。 通過帶驅(qū)動器21來進行對此第二半部20的驅(qū)動。磁性耦合裝置的彼此相 對布置的半部19、 20優(yōu)選地具有能夠滑動經(jīng)過對方的光滑表面。在被中間壁IO分開的處理室1的左半部中，示出了托架22，其移動 使得其離開圖的平面。此托架22的端部擱置在導引輥24中，軸25穿過導 引輥24，接著導引穿過磁性耦合裝置的位于處理室1內(nèi)的部件26，磁性 耦合裝置的位于處理室1外部的部件27由帶驅(qū)動器28驅(qū)動。圖3示出了表示圖2的部分區(qū)域的放大視圖。這里再次清楚示出了托 架11及其下端B,現(xiàn)在下端13擱置在導引輥12中。為了使下端13被導 引離開輥12，設(shè)置了能夠使提升活塞31上下移動的氣缸30。在如圖3所 示的活塞中，提升活塞31向上移動，由此運輸梁17、導引輥12以及軸 19和磁性耦合裝置的部件19也向上移動。磁性耦合裝置的部件19現(xiàn)在直 接與磁性耦合裝置的外部件20相對。支撐在軸承36中并承載外磁體20且由帶驅(qū)動器21驅(qū)動的驅(qū)動軸35穩(wěn)固地與壁16連接。37表示將處理室1 的內(nèi)部與大氣分開的薄隔膜。此隔膜37裝配到套筒38中或者裝配到此套 筒38的一部分中。在如圖3所示的位置中，其中托架ll移動到處理室1內(nèi)，鉤子14位 于托架11的外側(cè)，即，其不延伸到此托架的孔40內(nèi)以使得其沿著朝向處 理室1的側(cè)壁16的方向移動。鉤子14未緊固在接觸框架41上，而是緊固 在進行水平移動的導引件上。該導引件在圖3中不可見。當由帶驅(qū)動器21旋轉(zhuǎn)驅(qū)動軸35時，位于大氣壓下的磁性耦合裝置的 部件20也旋轉(zhuǎn)。其磁場穿透支撐在套筒38內(nèi)或該套筒38的一部分內(nèi)的非 磁性的或不可磁化的隔膜37，并進入磁性耦合裝置的位于處理室1內(nèi)的部 件19。由此，軸18及其導引輥12旋轉(zhuǎn)。因為托架11的下端支撐在此導 引輥12中，所以托架ll在圖的平面內(nèi)移動。圖4再次示出了圖2中所示的結(jié)構(gòu)的一部分的放大圖，并具體而言， 其處于在圖2的位置中，其中托架11未移動到圖的平面中，而是在朝向 處理室1的壁16的方向上。為了達到此位置，由驅(qū)動器45朝向左側(cè)水平 移動的鉤子14延伸到托架11的孔40內(nèi)?，F(xiàn)在，提升缸降低，使得托架 11懸掛在鉤子14內(nèi)。現(xiàn)在托架11可以借助于鉤子14、未示出的支撐和驅(qū) 動器45來水平移動。這里，磁性耦合裝置的兩個部件19、 20相對于彼此 豎直偏移。41表示接觸框架。圖5示出了根據(jù)截面B-B的部分，僅右邊的托架1是清楚可見的。圖 5的縱向截面延伸經(jīng)過提升缸60和與其連接的提升活塞61。 62表示處理 室1的底部所通過的導引件。保持器64形成為在底部63上的凸緣，耦合 部件65位于保持器64中，耦合部件65示出了提升缸60的活塞桿66與提 升活塞61的部分67的連接。提升缸60是其中耦合部件65螺紋配合到活 塞61中的氣缸。提升活塞61經(jīng)由支撐件68與運輸梁69連接，導引輥70可以在運輸 梁69上轉(zhuǎn)動。在距離托架11的間隔處可以看到緊固在支撐件(未示出) 上的叉71，其與位于壁16的外側(cè)上的未示出的驅(qū)動器連接。帶驅(qū)動器73 驅(qū)動磁性耦合裝置74，磁性耦合裝置74接著旋轉(zhuǎn)導引輥70。為每個運輸梁69提供兩個提升活塞是可行， 一個在運輸梁的前端， 一個在運輸梁的后端。但是，還可以僅設(shè)者一個提升活塞，其與運輸梁69 的中部配合。72表示接觸框架，托架11被壓到其外以確保等離子體源和 襯底之間界定的平行距離。此外，接觸框架用于限定等離子體溶劑和托架 后電極的接地。
權(quán)利要求
1.一種用于在處理室內(nèi)移動托架(11)的結(jié)構(gòu)，所述處理室具體而言是真空室(1)，其中所述托架(11)形成為板形并借助于驅(qū)動輥(12)可直線移動，其特征在于，所述驅(qū)動輥(12、24)可以借助于提升機構(gòu)(30、31)朝向所述托架(11)的狹窄側(cè)移動以及遠離所述托架(11)的狹窄側(cè)移動。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述驅(qū)動輥(12、 24) 擱置在運輸梁(17)上，并且所述提升機構(gòu)(30， 31)與所述運輸梁(17)連接。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述驅(qū)動輥(12、 24) 與磁性耦合裝置(74)耦合。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述磁性耦合裝置包括 位于所述室(1)內(nèi)的第一部件(19)和位于所述室(1)外的第二部件(20)。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述托架(11)具有至 少一個開口。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述托架(11)包括孔 (40)。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1或6中任一項所述的結(jié)構(gòu)，其特征在于，設(shè)置能夠 延伸經(jīng)過所述孔(40)并支撐所述托架(11)的鉤子(14)。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述托架(11)包括 銷，所述鉤子(14)配合在所述銷上。
9. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述鉤子(14)可垂直 于所述托架(11)的表面移動。
10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的結(jié)構(gòu)，其特征在于，設(shè)置用于移動所述鉤 子(14)的驅(qū)動器，所述驅(qū)動器位于所述室(1)的外部。
11. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述磁性耦合裝置的 所述第一部件(19)和所述第二部件(20)在所述托架(11)的第一位置的情況下彼此對稱相對地布置，并在所述托架(11)的第二位置的情況下 相對于彼此布置在豎直方向上。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于在真空室內(nèi)移動托架的結(jié)構(gòu)。此托架形成為板形并被支撐為其狹窄側(cè)邊緣位于由驅(qū)動系統(tǒng)驅(qū)動的輥上。優(yōu)選地利用磁性耦合作為間接驅(qū)動器，其部分位于真空室內(nèi)并部分位于真空室外。在沿著豎直方向作用的力的幫助下，磁性耦合的兩個部件可以相對于彼此發(fā)生位移。此外，托架的水平位移也是可能的。
文檔編號C23C16/50GK101270473SQ200810006500
公開日2008年9月24日 申請日期2008年2月29日 優(yōu)先權(quán)日2007年3月13日
發(fā)明者埃德加·哈勃科恩, 蘇珊娜·施拉費爾 申請人:應(yīng)用材料公司