專利名稱：用于真空處理裝置的腔室以及具有該腔室的裝置的制作方法
背景技術(shù)：
1.發(fā)明領(lǐng)域本發(fā)明涉及一種真空處理裝置，尤其是涉及一種用于對(duì)例如液晶顯示(LCD)板的玻璃、半導(dǎo)體的晶片等的基板進(jìn)行蝕刻處理或者沉積處理的裝置。
2.相關(guān)現(xiàn)有技術(shù)描述通常，沉積處理用來(lái)在玻璃基板上形成電絕緣沉積成形材料薄膜，光刻處理用來(lái)通過(guò)使用感光性材料露出或者覆蓋薄膜中的一個(gè)選定區(qū)域，蝕刻處理用來(lái)通過(guò)基于設(shè)計(jì)目的移走選定區(qū)域來(lái)形成圖案，清洗處理用來(lái)移走污染物微粒等，為了制造一個(gè)液晶顯示裝置，以上過(guò)程應(yīng)當(dāng)重復(fù)多次。每個(gè)處理應(yīng)當(dāng)在具有相應(yīng)處理所需的最佳環(huán)境下的腔室中完成。
根據(jù)處理的順序這些腔室可以依次排列，或者是布置成多個(gè)腔室以傳遞腔室為中心的群集型。


圖1顯示了常規(guī)群集型真空處理裝置的結(jié)構(gòu)。在圖1的常規(guī)真空處理裝置中，多個(gè)處理腔室10以及一個(gè)負(fù)荷鎖定腔室21都以傳遞腔室30為中心并與之相連接。一個(gè)上面轉(zhuǎn)載有一些基板50的暗箱40，在負(fù)荷鎖定腔室21的一側(cè)連接到負(fù)荷鎖定腔室21。
特別地，基板50將要在其中被交接的負(fù)荷鎖定腔室21中的壓力暫時(shí)性被裝載，當(dāng)基板50被裝入時(shí)壓力處于真空環(huán)境下，當(dāng)基板被裝出時(shí)處于大氣壓力下。此外，將裝備有許多負(fù)荷鎖定腔室21。
暗箱自動(dòng)設(shè)備42將基板50從暗箱傳遞到負(fù)荷鎖定腔室21，傳遞自動(dòng)設(shè)備32將基板50從負(fù)荷鎖定腔室21傳遞到處理腔室10中。
在具有這種結(jié)構(gòu)常規(guī)真空處理裝置中，將基板50從暗箱40傳遞到處理腔室10的腔室的傳遞過(guò)程如下。
首先，暗箱自動(dòng)設(shè)備42從暗箱40傳送基板50，然后朝著負(fù)荷鎖定腔室21前進(jìn)，然后將基板50通過(guò)與暗箱40相鄰的門(mén)(未示出)裝載到位于負(fù)荷鎖定腔室21內(nèi)的平板上(未示出)。其次，關(guān)閉與暗箱40相鄰的門(mén)后通過(guò)抽吸作用使負(fù)荷鎖定腔室內(nèi)處于真空環(huán)境下后，傳遞自動(dòng)設(shè)備32通過(guò)與傳遞腔室30相鄰的門(mén)到達(dá)基板50，并將基板50傳遞到一個(gè)處理腔室10中。
由于以上描述的處于連續(xù)的處理過(guò)程中的傳遞腔室都帶有一些處理腔室，因此傳遞腔室應(yīng)當(dāng)具有必處理腔室更大的尺寸。近年來(lái)，基板的尺寸傾向于增大，并且這種趨勢(shì)一直在加劇。但是這種趨勢(shì)使加工領(lǐng)域中裝置的布局設(shè)計(jì)變得困難，并且引起在加工制造裝置時(shí)成本的增加以及在裝置搬運(yùn)過(guò)程中問(wèn)題的增多。
為了克服以上問(wèn)題，在韓國(guó)公開(kāi)專利出版號(hào)No.10-2004-0090496中公開(kāi)了一種傳遞腔室。
圖2中的傳遞腔室1具有一個(gè)多邊形側(cè)面腔室1a，以及多個(gè)與腔室主體1a的多邊形側(cè)面緊密相連的側(cè)壁1b。
在許多處理腔室(未示出)及一個(gè)負(fù)載鎖定腔室(未示出)與連接邊之間的連接部分裝備有閘門(mén)閥(未示出)。此外，由于如同以上描述的傳遞腔室中的壓力重復(fù)地由真空狀態(tài)變成大氣壓力，腔室主體和側(cè)壁分別具有預(yù)定值厚度以承受反復(fù)的真空壓力P的變化。
分隔具有以上描述結(jié)構(gòu)的較大傳遞腔室1可能解決了在裝置搬運(yùn)過(guò)程中的問(wèn)題。但側(cè)壁在多側(cè)面相交處有一個(gè)彎曲部分C。由于在彎曲部分C處應(yīng)力集中，側(cè)壁應(yīng)具有足夠的厚度以承受施加到彎曲部分C處的真空壓力，這樣就導(dǎo)致了側(cè)壁厚度的不希望地增長(zhǎng)，使加工裝置困難并引起加工成本的增加。
此外，存在一個(gè)問(wèn)題就是在彎曲部分C處由于重復(fù)的壓力聚集可能在彎曲部分C處形成裂縫。
發(fā)明簡(jiǎn)述為解決上述問(wèn)題，本發(fā)明的一個(gè)目的是為了提供一種具有由分隔結(jié)構(gòu)和薄壁形成的腔室的真空處理裝置及其腔室。
本發(fā)明另一個(gè)目的是提供一種具有分隔結(jié)構(gòu)的真空處理裝置及其腔室，使安裝，保持和維修變得容易。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種用于真空處理裝置的腔室，其包括一個(gè)具有多邊形外形的腔室主體；至少一個(gè)與腔室主體的一個(gè)側(cè)壁可拆卸地連接的側(cè)壁單元，一個(gè)在平行于腔室主體的上表面方向上具有一個(gè)曲率的水平部分；一個(gè)上部面板單元和一個(gè)下部面板單元，上部面板單元和下部面板單元分別地與腔室主體和側(cè)壁單元的上部以及下部可拆卸地連接，以覆蓋腔室主體和側(cè)壁單元上部和下部。
腔室可以是一種至少與一個(gè)真空處理腔室相連以提供可在真空環(huán)境下在基板上進(jìn)行蝕刻處理或者沉積處理的傳遞腔室。
腔室主體可以由一些彼此相連并形成主體多邊形外形的次主體組成。腔室主體可以包括一些第一水平框架和一些第二水平框架，第一水平框架和第二水平框架分別形成多邊形；還包括一些垂直框架，這些垂直框架分別地將第一水平框架和與之相對(duì)應(yīng)的第二水平框架相連接。
側(cè)壁單元可以由側(cè)壁和側(cè)框架組成，側(cè)壁在水平方向平行于腔室主體的上表面、并具有一定曲率，側(cè)框架位于腔室主體和側(cè)壁之間，并與側(cè)壁以及腔室主體連接。側(cè)壁單元至少形成一個(gè)開(kāi)口用于通過(guò)開(kāi)口傳送基板。
上部面板單元由一個(gè)主體蓋單元和一個(gè)側(cè)蓋單元組成，主體蓋單元覆蓋腔室主體的上面部分，側(cè)蓋單元覆蓋側(cè)壁單元上部分，下部面板單元由一個(gè)主體蓋單元和一個(gè)側(cè)蓋單元組成，主體蓋單元覆蓋了腔室主體的下面部分，側(cè)蓋單元覆蓋了側(cè)壁單元的下面部分。上部面板至少形成一個(gè)開(kāi)口，并且開(kāi)口與門(mén)單元相連以開(kāi)啟或者關(guān)閉開(kāi)口。門(mén)單元通過(guò)一個(gè)安裝單元與上部面板相連，該安裝單元的一端可轉(zhuǎn)動(dòng)地連接到該上部面板上，該安裝單元的另一端可拆卸地與上部面板相連，上部面板轉(zhuǎn)動(dòng)并在門(mén)單元上穿過(guò)。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明也提供了一個(gè)具有腔室的真空處理裝置。
附圖簡(jiǎn)述圖1顯示了常規(guī)真空處理裝置的平面示意圖。
圖2示出了具有多邊形結(jié)構(gòu)的常規(guī)真空處理裝置的一個(gè)傳遞腔室的斷面圖。
圖3示出了根據(jù)本發(fā)明的真空處理裝置的平面圖。
圖4a為圖3中真空處理裝置的傳遞自動(dòng)設(shè)備的透視圖。
圖4b示出了為圖3中真空處理裝置的傳遞腔室的上部面板的透視圖。
圖5示出了圖3中真空處理裝置的傳遞腔室的透視圖。
圖6示出了根據(jù)圖5的真空處理裝置的傳遞腔室的分解透視圖。
圖7為圖5中的傳遞腔室的一部分的透視圖，其中施加到側(cè)壁上的真空壓力被標(biāo)記出來(lái)。
圖8示出了圖3中真空處理裝置的改進(jìn)了的傳遞腔室的透視圖。
圖9示出了根據(jù)圖8的傳遞腔室的分解透視圖。
圖10示出了圖3的另一個(gè)改進(jìn)了的傳遞腔室的平面示意圖。
優(yōu)選實(shí)施例的詳細(xì)說(shuō)明以下，將參見(jiàn)附圖詳細(xì)說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明的真空處理裝置。
如圖3所示，根據(jù)本發(fā)明的真空處理裝置，裝備有一個(gè)傳遞腔室100和至少一個(gè)與傳遞腔室100相連接的處理腔室160以及一個(gè)負(fù)荷鎖定腔室150。
閘門(mén)閥130置于處理腔室150和傳遞腔室100之間，并且連接處理腔室160和傳遞腔室100。傳遞自動(dòng)設(shè)備140將基板50傳送進(jìn)該處理腔室160，并通過(guò)使用等離子體反應(yīng)等在基板50上進(jìn)行蝕刻或者沉積。
負(fù)荷鎖定腔室150是一個(gè)待處理的基板5將由之裝入到傳遞腔室100中，者處理后的基板50將由之從腔室100中送出的腔室。
上面裝載了許多基板50的暗箱40，在負(fù)載鎖定腔室150的一側(cè)與負(fù)載鎖定腔室150相連接。暗箱自動(dòng)設(shè)備152將基板50從暗箱40傳送到負(fù)載鎖定腔室150中。
安裝在傳遞腔室100中的傳遞自動(dòng)設(shè)備140將基板從負(fù)載鎖定腔室150中傳遞到處理腔室160中，或者將真空處理過(guò)的基板50從處理腔室160傳送到負(fù)荷鎖定腔室150中。
其中，如圖4a所示，安裝在傳遞腔室100中的傳遞自動(dòng)設(shè)備140，裝備有一個(gè)下部夾持裝置142，其與安裝在傳遞腔室100中的導(dǎo)軌(未示出)相連并沿其移動(dòng)，安裝在下部夾持裝置142上的上部夾持裝置143，其可沿著上下方向(Z軸方向)移動(dòng)，并可在360度的角度范圍內(nèi)旋轉(zhuǎn)，一個(gè)保持(固定)單元145與上部夾持裝置143相連并與一對(duì)可延伸臂144裝配在一起。
在具有該結(jié)構(gòu)的真空處理裝置中，基板50從暗箱40到處理腔室160的傳送過(guò)程如下所示。
首先，暗箱自動(dòng)設(shè)備152將基板50從暗箱中傳送，然后朝著負(fù)荷鎖定腔室150方向向前，最后通過(guò)于暗箱40鄰近的門(mén)(未示出)將基板50放置在負(fù)荷鎖定腔室150中的一個(gè)平板上(未示出)。其次，在關(guān)閉與暗箱鄰近的門(mén)并且通過(guò)抽吸作用將負(fù)荷鎖定腔室的內(nèi)側(cè)置于真空環(huán)境時(shí)，傳遞自動(dòng)設(shè)備140通過(guò)與傳遞腔室100鄰近的門(mén)到達(dá)基板150并將基板50傳送入傳遞腔室100中。并且連接傳遞腔室100和位于傳遞腔室100的側(cè)部的一個(gè)處理腔室160的閘門(mén)閥130打開(kāi)，基板被傳送進(jìn)入到一個(gè)處理腔室160中。
其中，真空處理裝置的腔室，尤其傳遞腔室100需要根據(jù)需要被處理的基板的尺寸而放大，但由于腔室的尺寸被放大后腔室的重量也增加了，因此無(wú)論是運(yùn)送還是安裝還是保養(yǎng)還是修理都很困難。
因此，真空處理裝置的腔室，尤其傳遞腔室10，如圖3，5，10中所示，具有多邊形的腔室主體110，至少一個(gè)與腔室主體110的一側(cè)壁可拆卸地連接的側(cè)壁單元120，并且有一個(gè)平行于腔室主體110的上表面方向上具有一個(gè)曲率的水平部分，一個(gè)上部面板單元180以及一個(gè)下部面板單元190，上部面板單元180和下部面板單元190分別地與腔室主體110的上部和下部以及側(cè)壁單元120可拆卸地連接，從而覆蓋了腔室主體110以及側(cè)壁單元120的上部和下部。
腔室主體110在平行于上表面的方向上有一個(gè)多邊形橫截面，并由多個(gè)第一水平框架111和多個(gè)第二水平框架112組成，第一水平框架111和第二水平框架112分別地形成多邊形；還有多個(gè)垂直框架113，垂直框架113分別地將第一水平框架111和相對(duì)應(yīng)的第一水平框架111連接在一起。
這些第一水平框架111、第二水平框架112，以及垂直框架113，作為獨(dú)立構(gòu)件，可以通過(guò)焊接或螺栓連接彼此裝配在一起。此外，第一水平框架111，第二水平框架112，以及垂直框架113可以形成一個(gè)整體。
第一水平框架111，第二水平框架112，垂直框架113形成一個(gè)在所有方向上都開(kāi)放的、具有開(kāi)口111a，111b的立方體。
其中，如圖10中所示，腔室主體110，可由多個(gè)彼此相連并形成主體多邊形外形的次主體110-1組成，例如三角形，矩形，五邊形，等等。具有多個(gè)次主體110-1的腔室主體110具有與圖5或圖9相似的結(jié)構(gòu)。
由于多個(gè)相對(duì)小的次主體110-1被裝配在較大腔室主體110中，安裝、保養(yǎng)和修理該大的傳遞腔室等都是容易的。
其中，如圖5到10所示，側(cè)壁單元120可以與腔室主體110的至少一個(gè)側(cè)壁相連，并且腔室主體110的另一側(cè)不與側(cè)壁單元120相連，可以與一個(gè)平板的側(cè)壁主體115相連。通過(guò)其傳送基板50的開(kāi)口115a，可以形成于側(cè)壁主體115內(nèi)。
其中，上部面板180和下部面板190可拆卸地與腔室主體110的上部和下部上的開(kāi)口111b相連接。
如附圖5到9中所示，上部面板180和下部面板190可以覆蓋腔室主體110連同側(cè)壁單元120的上部和下部，它們可以由分開(kāi)的部件組成，也就是，主體蓋單元114覆蓋腔室主體110的上部和下部，側(cè)蓋單元123覆蓋側(cè)壁單元120的上部和下部。
其中，如圖4b所示，上面板180，可和至少一個(gè)開(kāi)口181一起形成，并且開(kāi)口181可以通過(guò)可拆卸地與開(kāi)口181相連的門(mén)單元182而被打開(kāi)或者關(guān)閉。
門(mén)單元182的外部邊緣具有比開(kāi)口181更大的尺寸，并且門(mén)單元182的下表面與階梯狀凸出物182a一起形成，該階梯狀突出物與開(kāi)口181的尺寸相等。
溝槽181b沿開(kāi)口單元181的邊緣形成，并且門(mén)單元的下表面182上形成有對(duì)著溝槽181b的一個(gè)溝槽(未示出)，因此通過(guò)在開(kāi)口181和門(mén)單元182彼此配合時(shí)接觸兩個(gè)溝槽從而保持腔室內(nèi)部的真空狀態(tài)。
此外，密封構(gòu)件181a例如聚氨酯，硅等可以被安裝進(jìn)溝槽中并且當(dāng)門(mén)單元182與開(kāi)口181配合時(shí)密封構(gòu)件181a受到擠壓，因此防止真空壓力泄漏。
其中，門(mén)單元182通過(guò)連接單元183與上部面板180連接，并且連接單元183的一端可轉(zhuǎn)動(dòng)地與上部面板180連接，連接單元183的另一端可拆卸地與上部面板180連接，在上部面板180和門(mén)單元彼此結(jié)合時(shí)，上部面板180旋轉(zhuǎn)并從門(mén)單元182上穿過(guò)。
如圖4b所示，連接單元183的一端通過(guò)鉸鏈單元183a與上部面板180鉸鏈連接，連接單元183的另一端通過(guò)連接構(gòu)件180b例如螺栓和螺母等可拆卸地與上部面板180連接。
連接單元183將門(mén)單元182壓向上部面板180，這加強(qiáng)了門(mén)單元182向上部面板180的壓力并且防止真空壓力泄漏，因此可以在門(mén)單元182被打開(kāi)以檢查腔室內(nèi)側(cè)時(shí)允許在最小的工作區(qū)內(nèi)工作。
任何用于加強(qiáng)門(mén)單元182和上部面板180之間的連接的裝置，例如連接單元183都是可行的，并且優(yōu)選使用一個(gè)吊架或者起重機(jī)。
其中，側(cè)壁單元120由一個(gè)具有一定曲率的側(cè)壁122和一個(gè)側(cè)框架組成，該側(cè)壁在水平方向上平行于腔室主體110的上表面，側(cè)框架121與側(cè)壁122以及腔室主體110相連接，并布置在腔室主體110和側(cè)壁122之間。
此處形成側(cè)壁單元的側(cè)壁122和側(cè)框架121可以形成一個(gè)整體。此外，側(cè)壁122和側(cè)框架121可與覆蓋側(cè)壁單元120的上部和下部的側(cè)蓋單元123彼此形成一個(gè)整體。
其中，壁單元120的側(cè)面的外形與腔室主體110的側(cè)壁的外形相對(duì)應(yīng)，腔室主體110的側(cè)部的開(kāi)口111a與開(kāi)口121a相對(duì)應(yīng)。
側(cè)壁122的水平部分在平行于腔室主體110的上表面的方向上的，提到的腔室主體可以形成一個(gè)預(yù)先確定曲率的曲面，該曲率有不同的值或者說(shuō)多個(gè)曲率。側(cè)壁122與至少一個(gè)開(kāi)口122a一起形成，并且側(cè)壁122的曲面的兩端都與側(cè)框架121相連。
期間垂直于腔室主體110的上表面方向上的側(cè)壁122的垂直部分，提及的腔室主體110可能形成一個(gè)預(yù)先確定曲率的曲面。
通過(guò)其基板50可以由傳遞腔室100被裝載或者卸載的閘門(mén)閥130，被連接在開(kāi)口122a上，其中傳遞腔室100與處理腔室160或者負(fù)荷鎖定腔室150相連。
具有彎曲外形的側(cè)壁單元120，如圖7中所示，均勻地將施加到傳遞腔室100內(nèi)表面的真空壓力P分散，這樣使得側(cè)壁122的厚度較薄并由于沒(méi)有彎折部分而防止腔室受到破壞。
其中，襯墊構(gòu)件(未示出)在彼此結(jié)合時(shí)被裝配在各個(gè)元件之間，并隔離傳遞腔室內(nèi)側(cè)和外側(cè)，使得傳遞腔室處于真空狀態(tài)。
在連接表面彼此接觸時(shí)受壓的襯墊構(gòu)件可能是任何具有彈性的構(gòu)件，優(yōu)選橡膠和聚氨酯等。
本發(fā)明具有一個(gè)優(yōu)點(diǎn)，就是本發(fā)明使得腔室的側(cè)壁的厚度變薄，并通過(guò)連接多邊形的腔室主體和至少一個(gè)具有曲率的側(cè)壁單元、并有效地分配傳遞腔室內(nèi)側(cè)的真空壓力而減少了加工制造成本以及加工制造難度。
本發(fā)明具有的另一個(gè)優(yōu)點(diǎn)就是當(dāng)通過(guò)可拆卸地連接上部面板和至少一個(gè)開(kāi)口的門(mén)單元與腔室內(nèi)側(cè)共同起作用時(shí)，本發(fā)明可以確保更寬敞的工作空間并減少用于打開(kāi)門(mén)單元時(shí)所需空間。
優(yōu)選實(shí)施例目前為止已經(jīng)被圖解和描述了，然而，應(yīng)當(dāng)了解本領(lǐng)域的技術(shù)人員可在本發(fā)明的主旨和范圍內(nèi)進(jìn)行各種改變和改進(jìn)，并且從而，本發(fā)明的范圍不局限與描述的范圍內(nèi)，而是由下面的權(quán)利要求及其等同物來(lái)限定。
權(quán)利要求
1.一種用于真空處理裝置的腔室，該腔室包括一個(gè)具有多邊形外形的腔室主體；至少一個(gè)與腔室主體的一個(gè)側(cè)壁可拆卸地連接的側(cè)壁單元，在平行于腔室主體的上表面方向上具有一定曲率的水平部分；一個(gè)上部面板單元和一個(gè)下部面板單元，該上部面板單元和下部面板單元分別地與腔室主體和側(cè)壁單元的上部以及下部可拆卸地連接，以覆蓋腔室主體和側(cè)壁單元上部和下部。
2.如權(quán)利要求1所述的腔室，其中該腔室是一種與至少一個(gè)真空處理腔室相連以、提供可在真空環(huán)境下在基板上進(jìn)行蝕刻處理或者沉積處理的傳遞腔室。
3.如權(quán)利要求1所述的腔室，其中腔室主體包括多個(gè)彼此相連并形成主體多邊形外形的次主體。
4.如權(quán)利要求1所述的腔室，其中腔室主體包括多個(gè)第一水平框架和多個(gè)第二水平框架，這些第一水平框架和第二水平框架分別形成多邊形；和多個(gè)垂直框架，這些垂直框架分別地將第一水平框架和與之相對(duì)應(yīng)的第二水平框架相連接。
5.如權(quán)利要求1所述的腔室，其中的側(cè)壁單元包括側(cè)壁和側(cè)框架，側(cè)壁具有在水平方向平行于腔室主體的上表面，并具有一定曲率，側(cè)框架位于腔室主體和側(cè)壁之間，并與側(cè)壁以及腔室主體連接。
6.如權(quán)利要求1所述的腔室，其中上部面板單元包括一個(gè)主體蓋單元和一個(gè)側(cè)蓋單元，主體蓋單元覆蓋腔室主體的上面部分，側(cè)蓋單元覆蓋側(cè)壁單元上部分，和下部面板單元由一個(gè)主體蓋單元和一個(gè)側(cè)蓋單元組成，主體蓋單元覆蓋了腔室主體的下面部分，側(cè)蓋單元覆蓋了側(cè)壁單元的下面部分。
7.如權(quán)利要求1所述的腔室，其中側(cè)壁單元至少形成一個(gè)開(kāi)口用于通過(guò)開(kāi)口傳送基板。
8.如權(quán)利要求1-7所述的腔室，其中上部面板至少形成一個(gè)開(kāi)口，并且開(kāi)口與門(mén)單元相連以開(kāi)啟或者關(guān)閉開(kāi)口。
9.如權(quán)利要求8所述的腔室，其中門(mén)單元通過(guò)一個(gè)安裝單元與上部面板相連，該安裝單元的一端可轉(zhuǎn)動(dòng)地連接到該上部面板上，該安裝單元的另一端可拆卸地與上部面板相連，上部面板轉(zhuǎn)動(dòng)并在門(mén)單元上穿過(guò)。
10.一種具有腔室的真空處理裝置，該腔室包括一個(gè)具有多邊形外形的腔室主體；至少一個(gè)與腔室主體的一個(gè)側(cè)壁可拆卸地連接的側(cè)壁單元，在平行于腔室主體的上表面方向上具有一定曲率的水平部分；和一個(gè)上部面板單元和一個(gè)下部面板單元，上部面板單元和下部面板單元分別地與腔室主體和側(cè)壁單元的上部以及下部可拆卸地連接，以覆蓋腔室主體和側(cè)壁單元上部和下部。
11.如權(quán)利要求10所述的裝置，其中該腔室是一種與至少一個(gè)真空處理腔室相連、以提供可在真空環(huán)境下在基板上進(jìn)行蝕刻處理或者沉積處理的傳遞腔室。
12.如權(quán)利要求10所述的裝置，其中腔室主體包括多個(gè)彼此相連并形成主體多邊形外形的次主體。
13.如權(quán)利要求10所述的裝置，其中腔室主體包括多個(gè)第一水平框架和多個(gè)第二水平框架，第一水平框架和第二水平框架分別形成多邊形；和多個(gè)垂直框架，這些垂直框架分別地將第一水平框架和與之相對(duì)應(yīng)的第二水平框架相連接。
14.如權(quán)利要求10所述的方法，其中側(cè)壁單元包括側(cè)壁和側(cè)框架，側(cè)壁在水平方向平行于腔室主體的上表面，并具有一定曲率，側(cè)框架位于腔室主體和側(cè)壁之間，并與側(cè)壁以及腔室主體連接。
15.如權(quán)利要求10所述的方法，其中上部面板單元包括一個(gè)主體蓋單元和一個(gè)側(cè)蓋單元，主體蓋單元覆蓋腔室主體的上面部分，側(cè)蓋單元覆蓋側(cè)壁單元上部分，下部面板單元由一個(gè)主體蓋單元和一個(gè)側(cè)蓋單元組成，主體蓋單元覆蓋了腔室主體的下面部分，側(cè)蓋單元覆蓋了側(cè)壁單元的下面部分。
16.如權(quán)利要求10所述的方法，其中側(cè)壁單元至少形成一個(gè)開(kāi)口用于通過(guò)開(kāi)口傳送基板。
17.如權(quán)利要求10-16所述的方法，其中上部面板至少形成一個(gè)開(kāi)口，并且開(kāi)口與門(mén)單元相連以開(kāi)啟或者關(guān)閉開(kāi)口。
18.如權(quán)利要求17所述的方法，其中門(mén)單元通過(guò)一個(gè)安裝單元與上部面板相連，該安裝單元的一端可轉(zhuǎn)動(dòng)地連接到該上部面板上，該安裝單元的另一端可拆卸地與上部面板相連，上部面板轉(zhuǎn)動(dòng)并在門(mén)單元上穿過(guò)。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種真空處理裝置，尤其是涉及一種用于對(duì)例如液晶顯示(LCD)板的玻璃、半導(dǎo)體的晶片等的基板進(jìn)行蝕刻處理或者沉積處理的裝置。還公開(kāi)了一種真空處理裝置的腔室，其包括一個(gè)具有多邊形外形的腔室主體；至少一個(gè)與腔室主體的一個(gè)側(cè)壁可拆卸地連接的側(cè)壁單元，在平行于腔室主體的上表面方向上具有一定曲率的水平部分；一個(gè)上部面板單元和一個(gè)下部面板單元，上部面板單元和下部面板單元分別地與腔室主體和側(cè)壁單元的上部以及下部可拆卸地連接，以覆蓋腔室主體和側(cè)壁單元上部和下部。
文檔編號(hào)C23C14/22GK1913099SQ20061000207
公開(kāi)日2007年2月14日 申請(qǐng)日期2006年1月24日 優(yōu)先權(quán)日2005年8月12日
發(fā)明者曹生賢, 李珠熙, 韓在柄 申請(qǐng)人:Ips有限公司