專利名稱：真空鍍膜機用成型鍍膜靶材的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型屬于光學(xué)鍍膜材料技術(shù)領(lǐng)域，是一種適用于真空鍍膜機使用的鍍制各種光學(xué)薄膜的成型鍍膜靶材。
背景技術(shù)：
在公知的技術(shù)中，傳統(tǒng)用于真空鍍膜機上使用的鍍膜靶材一般為散粒狀或小圓片狀的膜料，使用時將數(shù)片(粒)膜料放入鍍膜機的坩堝或舟形容器中，在電子槍的作用下，通過電子束轟擊熔融蒸發(fā)后，沉積在可旋轉(zhuǎn)工件上，從而實現(xiàn)對光學(xué)產(chǎn)品的鍍膜。但使用散粒狀或小圓片狀的膜料，存在以下缺陷一、由于置放在蒸發(fā)坩堝里的散?；蛐A片膜料堆在一起時有很多空隙，密度不夠，不能適應(yīng)長時間鍍制光學(xué)玻璃多層膜要求。二、在鍍制時，散?；蛐A片膜料的受熱蒸發(fā)狀態(tài)不一致，不能很均勻的蒸發(fā)，特別是在鍍制精度要求很高的光學(xué)產(chǎn)品時，會影響鍍層薄膜的均勻性。三、由于數(shù)片(粒)膜料同時蒸鍍會出現(xiàn)因材料密度低、晶粒不均勻，而使蒸鍍薄膜時鍍制的膜厚不一致，重現(xiàn)性差。四、散?；蛐A片膜料熔融蒸發(fā)快，不僅更換膜料頻繁，而且盛放在坩堝內(nèi)的散粒膜料，表面不平且有間隙，預(yù)熔時必須將表面熔平熔透，由此造成預(yù)熔耗時長，鍍膜效率低的狀況；五、蒸鍍后坩堝內(nèi)的余料大部分仍是散料，致使清料麻煩，從而影響了鍍膜工作效率的提高。
近年來隨著光學(xué)產(chǎn)品向高品質(zhì)、高精度方向發(fā)展，對鍍膜材料的要求也越來越高，生產(chǎn)中需要大量的密度高、晶粒細小且均勻，并能大幅度提高鍍膜效率的鍍膜靶材，但這類鍍膜材料主要依靠從國外進口，其價格昂貴、成本高。
實用新型內(nèi)容本實用新型的目的是提供一種能夠提高工作效率、造價低、且密度均勻一致，鍍制時間長，鍍制膜層均勻、重現(xiàn)性好的真空鍍膜機用成型鍍膜靶材。
實現(xiàn)本實用新型的目的所采取的技術(shù)方案是該鍍膜靶材采用與真空鍍膜機坩堝內(nèi)壁形狀相符的成型塊狀結(jié)構(gòu)，其靶材的結(jié)構(gòu)形狀為柱狀、圓臺狀、錐臺狀、環(huán)狀、半環(huán)狀、扇環(huán)狀、盤狀，是由超細粉狀的鍍膜材料經(jīng)高壓成型后真空燒結(jié)而制成。
按照上述方案制成的真空鍍膜機用成型鍍膜靶材，具有密度高、晶粒細小均勻的特點，由于靶材為成型塊狀，其體積是傳統(tǒng)粒狀或小圓片狀的數(shù)十倍甚至上百倍，因此，使用時間長，能夠適應(yīng)長時間地鍍制多層光學(xué)薄膜。而且，熔融膜料是整塊的，在受電子束加熱時能夠均勻的蒸發(fā)，使鍍層薄膜的膜厚均勻一致，重現(xiàn)性好，便于實現(xiàn)穩(wěn)定批量生產(chǎn)。另外，該鍍膜靶材的表面平整、密度高、吸附雜質(zhì)氣體少，不僅預(yù)熔排氣時間短，預(yù)熔快捷，而且蒸鍍后余料仍為整塊，清料方便；并且在使用時更換方便，能夠提高鍍膜效率，提高成品率，降低生產(chǎn)成本，特別適用于高品質(zhì)、高精度光學(xué)產(chǎn)品的鍍膜。


圖1是本實用新型圓臺狀的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是本實用新型錐臺狀的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3是本實用新型扇環(huán)形的結(jié)構(gòu)示意圖；圖4是本實用新型圓環(huán)形的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
參看附圖，圖1、圖2、圖3、圖4是本實用新型列舉的4種不同結(jié)構(gòu)形狀鍍膜靶材的實施例，其結(jié)構(gòu)形狀為圓臺狀成型靶材1、錐臺狀成型靶材2、扇環(huán)狀成型靶材3、原環(huán)狀成型靶材4，而柱狀、半環(huán)狀、盤狀的成型靶材在圖中未示，各種形狀的靶材是由超細粉狀鍍膜材料經(jīng)高壓成型后真空燒結(jié)而制成。其制作過程為選用耐高溫、耐磨損、耐腐蝕的二氧化鋯、三氧化二鋁、鈦的氧化物等粒徑為0.1～1um的超細粉狀鍍膜材料，將粉體原材料上高壓成型機制成與坩堝內(nèi)壁形狀相符的成型塊狀，再進行預(yù)處理、真空燒結(jié)后，進行性能檢測，再經(jīng)過精加工處理即得到大塊成型、高密度、晶粒均勻的鍍膜靶材。
權(quán)利要求1.一種真空鍍膜機用成型鍍膜靶材，其特征在于該鍍膜靶材采用與真空鍍膜機坩堝內(nèi)壁形狀相符的成型塊狀結(jié)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空鍍膜機用成型鍍膜靶材，其特征在于所述鍍膜靶材的結(jié)構(gòu)形狀為柱狀、圓臺狀、錐臺狀、環(huán)狀、半環(huán)狀或扇環(huán)狀、盤狀。
專利摘要本實用新型涉及一種適用于真空鍍膜機使用的鍍制各種光學(xué)薄膜的成型鍍膜靶材。該靶材采用與真空鍍膜機坩堝內(nèi)壁形狀相符的成型塊狀結(jié)構(gòu)，其結(jié)構(gòu)形狀為柱狀、圓臺狀、錐臺狀、環(huán)狀、半環(huán)狀、扇環(huán)狀、盤狀，是由超細粉狀的鍍膜材料經(jīng)高壓成型后真空燒結(jié)而制成。該靶材具有密度高、晶粒細小均勻的特點，由于采用的是整體成型塊狀，因此使用時間長，能夠適應(yīng)長時間地鍍制多層光學(xué)薄膜，而且在真空鍍膜后，膜厚均勻一致，重現(xiàn)性好，便于實現(xiàn)穩(wěn)定批量生產(chǎn)。該鍍膜靶材在使用中更換方便，能夠提高鍍膜效率，提高成品率，降低生產(chǎn)成本，特別適用于高品質(zhì)、高精度光學(xué)產(chǎn)品的鍍膜。
文檔編號C23C14/30GK2818494SQ20052003131
公開日2006年9月20日 申請日期2005年7月15日 優(yōu)先權(quán)日2005年7月15日
發(fā)明者楊太禮, 張向東 申請人:河南中光學(xué)集團有限公司