專利名稱：用于汽相淀積設備中的制品支架的制作方法
技術(shù)領域：
本發(fā)明涉及一種表面處理方法，尤其是一種用來在燒制品表面形成一層淀積金屬膜的表面處理方法，所述金屬比如是鋁、鋅和錫，所述金屬膜或者是金屬氮化物膜，比如氮化鈦，所述燒制品例如是易被氧化的稀土金屬基磁體或類似物質(zhì)。通過在所述燒制品上形成所述膜，確保所述燒制品比如稀土金屬基磁體具有抗氧化性。
更為具體地，本發(fā)明涉及一種表面處理方法，這種方法能夠一起對大量的制品進行集中均一的表面處理，所述制品比如是燒制品，例如稀土金屬基磁體，其形狀具有一內(nèi)徑部分，比如是環(huán)形的或類似形狀，本發(fā)明還涉及適用于所述方法的表面處理支承裝置、表面處理支架及表面處理設備。
背景技術(shù)：
例如，在通常的稀土金屬基磁體表面處理方法中，如圖11所示的真空汽相淀積設備120用來進行鋁的汽相淀積。在圖11中，標號121所指為一真空處理室，其可以通過一真空泵122維持于一預定的真空度。在該真空處理室121中，作為蒸發(fā)源的鋁123裝在一蒸發(fā)源支架124中由一加熱器125加熱。作為被處理制品的稀土金屬基磁體物件130裝在一籠狀的容器126中。在旋轉(zhuǎn)容器126的同時進行鋁的汽相淀積，從而在作為被處理制品的所述稀土金屬基磁體物件130上均勻地鍍上鋁層。
在上述傳統(tǒng)的表面處理方法中，當然可以實現(xiàn)基本上均一的汽相淀積，但因為所述制品是一個疊一個地堆在籠狀容器中，不可避免地會產(chǎn)生一些不均一的淀積，因此，希望提供一種表面處理方法，由之可進行更為均一的表面處理。許多稀土金屬基磁體物件例如Nd-Fe-B基磁體物件，在經(jīng)過加工處理之后，常呈長方體狀，堅硬且具銳利的棱角。因此存在下述問題在汽相淀積處理過程中，所述棱角相互碰撞，從而使淀積在表面上的薄膜被剝落，在嚴重的情況下產(chǎn)品的棱角會破損，從而導致合格率降低。尤其在物件尺寸大的情況下，問題在于，由于物件重量大，因而撞擊能量大，從而導致合格率極大地降低。在制品具有內(nèi)徑部分且為比如環(huán)形或類似形狀的情況下，所述方法的缺陷在于，制品內(nèi)徑側(cè)會被其他的制品遮擋住，因此使得不能順利地實現(xiàn)對內(nèi)徑側(cè)內(nèi)壁的均一表面處理。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的目的是提供一種表面處理方法，此方法可克服傳統(tǒng)方法所具有的問題和缺點，可以對大量的具內(nèi)徑部分且為環(huán)形或類似形狀的制品批量進行均一的表面處理。
本發(fā)明的發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，合乎上述要求的對制品的表面處理比如汽相淀積可以在這樣的狀態(tài)下進行制品被相互隔開，使之繞各自的軸旋轉(zhuǎn)，或使之繞一個公共旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)，或使之同時繞一公共旋轉(zhuǎn)軸和各自的軸旋轉(zhuǎn)。
為了達到上述目的，按照本發(fā)明的特征及其第一方面，提供一種表面處理支承裝置，可支承一系列制品，其包括一個頂籠和底籠，它們包括許多隔間，可在長度方向上開閉。
由于上述特征，所述表面處理支承裝置由一個頂籠和底籠構(gòu)成，它們包括許多隔間，可在長度方向上開閉。因此，通過開閉上述頂籠和底籠，制品可被間隔地置入所述籠狀的隔間中，再從所述籠狀隔間中取出。
可以適當?shù)剡x擇每個籠子的形狀、網(wǎng)眼尺寸等特征，使得可以形成足夠尺寸的空隙，以確保表面處理材料可以根據(jù)制品的尺寸和形狀充分而均一地接觸所述制品。
根據(jù)本發(fā)明第二方面的特征，提供一種用來支承一系列各具有一內(nèi)徑部分的制品的表面處理支承裝置，它包括可在長度方向上開閉折合的板狀部件，所述板狀部件可形成一系列狹部，后者的長度在打開狀態(tài)下對應于制品的內(nèi)徑。
根據(jù)本發(fā)明的第三個方面的特征，除了第二方面的特征外，所述板狀部件可借助于一合頁開閉折合。
由于上述特征，所述表面處理支承裝置由可在長度方向上開閉折合的板狀部件構(gòu)成，使之在打開狀態(tài)下可形成一系列狹部，后者各具有相應于制品內(nèi)徑的長度。因此，在所述板狀部件的折合狀態(tài)下，制品可以分別放置到所述狹部，然后通過將所述板狀部件展開而被有間隔地支承在所述狹部。在完成表面處理之后，通過再次折合所述板狀部件，所述制品可以輕易地從所述支承裝置上取下。
尤其是，通過確保所述板狀部件能夠借助于所述合頁而開閉折合，可以輕易地將制品裝到所述支承裝置上和從上面取下來。
可以如此選擇每一狹部的形狀、尺寸等特征，使得所述制品可以相應于自身的尺寸和形狀而保持相互隔離的狀態(tài)。
根據(jù)本發(fā)明第四方面的特征，提供一種表面處理支架，后者由絲狀物制成，所述絲狀物按一定間距繞制，形成一種彈簧狀的管狀結(jié)構(gòu)，在該結(jié)構(gòu)相對的兩端，是螺旋線狀的端面。前述結(jié)構(gòu)使得制品可以被裝在所述管狀結(jié)構(gòu)中。
按照本發(fā)明的第五方面的特征，除了所述第四方面的特征之外，所述管狀結(jié)構(gòu)是一種圓柱形結(jié)構(gòu)。
按照本發(fā)明的第六方面的特征，除了所述第四方面的特征之外，在所述絲狀物的構(gòu)成所述管狀結(jié)構(gòu)之側(cè)面的部分上繞制一種防纏結(jié)彈簧。
按照本發(fā)明的第七方面的特征，除了所述第四方面的特征之外，所述絲狀物在所述管狀結(jié)構(gòu)側(cè)面相對的兩端附近密集繞制。
按照本發(fā)明的第八方面的特征，除了所述第四方面的特征之外，在所述管狀結(jié)構(gòu)的螺旋線狀端面處的絲狀物的中央部分密集繞制。
按照本發(fā)明的第九方面的特征，除了所述第四方面的特征之外，所述絲狀物是由不銹鋼制成的。
在所述表面處理支架中，所述絲狀物按這樣的間距繞制，使得其形成彈簧狀的管狀結(jié)構(gòu)，并在該管狀結(jié)構(gòu)的兩端形成螺旋線狀的端面，從而使得制品可以被容納在該管狀結(jié)構(gòu)中。從而可以通過所述絲狀物所形成的間隙進行均一的表面處理，比如鋁的汽相淀積。另外，即使所述支架相互碰撞，在支架中的制品也不會相互碰撞。而且，由于所述支架具有的彈性，支架中的制品也不會受到大的震動，因而不會產(chǎn)生被處理表面的剝落、產(chǎn)品的破損或者類似情況。可以通過由所述絲狀物形成的間隙，利用支架的彈性向其中置入或從中取出制品，從而不需要設置專門的入口和出口。
所述絲狀物的直徑、繞制圈數(shù)和節(jié)距可以合適地選擇，考慮到要形成足夠尺寸的間距以使之具有適當?shù)膹椥?，同時要考慮到表面處理材料能夠充分而均一地接觸被處理制品。
如果所述支架是管狀的，其形狀不受具體限制，可以是橢圓形的。但是，如果考慮到支架要易于旋轉(zhuǎn)，并考慮到處理材料的均勻淀積，所述支架最好是圓柱形的。
另外，通過在形成管狀結(jié)構(gòu)之側(cè)面的絲狀物上繞制防纏結(jié)彈簧，可以防止構(gòu)成支架的絲狀物插入絲狀物間形成的間隙中，從而防止了構(gòu)成支架的絲狀物相互纏結(jié)。
類似地，通過在管狀結(jié)構(gòu)側(cè)面兩端部附近密集繞制所述絲狀物，或者在所述管狀結(jié)構(gòu)的相對的螺旋線狀端面處的絲狀物的中央部分密集繞制，也可以防止構(gòu)成支架的絲狀物插入絲狀物間形成的間隙中，從而防止了構(gòu)成支架的絲狀物相互纏結(jié)。這確保了可以實現(xiàn)均一的表面處理，比如鋁的汽相淀積。
通過利用不銹鋼制造所述絲狀物，例如，可以用酸洗掉淀積在所述絲狀物上的鋁或類似金屬。另外，不銹鋼與鐵不一樣，即使在高溫下進行汽相淀積，也不會有損于其彈性。
這樣，如果將由稀土金屬基磁體組成的制品放在具有上述設置的表面處理支架中進行表面處理比如鋁的汽相淀積，就可以透過所述由絲狀物形成的間隙而實現(xiàn)均一的表面處理，而且不會發(fā)生被處理表面的剝落、產(chǎn)品的破損及類似情況，從而實現(xiàn)極高的合格率。
根據(jù)本發(fā)明第十方面的特征，提供一種對一系列制品進行表面處理的方法，它包括這樣的步驟在一處理室中對制品進行表面處理，同時在相互間留有間距的狀態(tài)下使制品繞自身的軸線旋轉(zhuǎn)。
按照本發(fā)明的第十一方面的特征，除了所述第十方面的特征之外，所述表面處理是在一種燒制品上進行的汽相淀積。
按照本發(fā)明的第十二方面的特征，除了所述第十方面的特征之外，所述制品繞其各自的軸線的旋轉(zhuǎn)是在所述制品被一支承裝置支承的情況下進行的，所述支承裝置繞其自身的軸線旋轉(zhuǎn)。
按照本發(fā)明的第十三方面的特征，除了所述第十二方面的特征之外，所述表面處理是在一種燒制品上進行的汽相淀積。
按照本發(fā)明的第十四方面的特征，除了所述第十二方面的特征之外，使用前述第一方面特征所用的支承裝置。
按照本發(fā)明的第十五方面的特征，除了所述第十四方面的特征之外，所述表面處理是在一種燒制品上進行的汽相淀積。
按照本發(fā)明的第十六方面的特征，除了所述第十二方面的特征之外，使用前述第二方面特征所用的支承裝置。
按照本發(fā)明的第十七方面的特征，除了所述第十六方面的特征之外，所述表面處理是在一種燒制品上進行的汽相淀積。
按照本發(fā)明的第十八方面的特征，除了所述第十方面的特征之外，每一制品被置放在一個相應的按照第四方面的特征所述的支架中，且所述支架在一個有孔的籠狀旋轉(zhuǎn)裝置中繞支架自身的軸線旋轉(zhuǎn)。
按照本發(fā)明的第十九方面的特征，除了所述第十八方面的特征之外，所述表面處理是在一種燒制品上進行的汽相淀積。
按照本發(fā)明的第二十方面的特征，提供一種對一系列制品進行表面處理的方法，它包括這樣的步驟對制品進行表面處理，同時在相互間留有間距的狀態(tài)下使制品繞一個公共旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)。
按照本發(fā)明的第二十一方面的特征，除了所述第二十方面的特征之外，所述表面處理是在一種燒制品上進行的汽相淀積。
按照本發(fā)明的第二十二方面的特征，除了所述第二十方面的特征之外，所述制品繞其各自的軸線的旋轉(zhuǎn)是在所述制品被一支承裝置支承的情況下進行的，所述支承裝置繞一個旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)。
按照本發(fā)明的第二十三方面的特征，除了所述第二十二方面的特征之外，所述表面處理是在一種燒制品上進行的汽相淀積。
按照本發(fā)明的第二十四方面的特征，除了所述第二十二方面的特征之外，使用前述第一方面特征所用的支承裝置。
按照本發(fā)明的第二十五方面的特征，除了所述第二十四方面的特征之外，所述表面處理是在一種燒制品上進行的汽相淀積。
按照本發(fā)明的第二十六方面的特征，除了所述第二十二方面的特征之外，使用前述第二方面特征所用的支承裝置。
按照本發(fā)明的第二十七方面的特征，除了所述第二十六方面的特征之外，所述表面處理是在一種燒制品上進行的汽相淀積。
按照本發(fā)明的第二十八方面的特征，提供一種對一系列制品進行表面處理的方法，它包括這樣的步驟對制品進行表面處理，同時在相互間留有間距的狀態(tài)下使制品繞各自的軸線及一個公共旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)。
按照本發(fā)明的第二十九方面的特征，除了所述第二十八方面的特征之外，所述表面處理是在一種燒制品上進行的汽相淀積。
按照本發(fā)明的第三十方面的特征，除了所述第二十八方面的特征之外，所述制品繞所述公共旋轉(zhuǎn)軸線的旋轉(zhuǎn)是在所述制品被一支承裝置支承的情況下進行的，所述制品還繞其自身的軸線旋轉(zhuǎn)，所述支承裝置繞一個公共旋轉(zhuǎn)軸線及其自身的軸線旋轉(zhuǎn)。
按照本發(fā)明的第三十一方面的特征，除了所述第三十方面的特征之外，所述表面處理是在一種燒制品上進行的汽相淀積。
按照本發(fā)明的第三十二方面的特征，除了所述第三十方面的特征之外，使用前述第一方面特征所用的支承裝置。
按照本發(fā)明的第三十三方面的特征，除了所述第三十二方面的特征之外，所述表面處理是在一種燒制品上進行的汽相淀積。
按照本發(fā)明的第三十四方面的特征，除了所述第三十方面的特征之外，使用前述第二方面特征所用的支承裝置。
按照本發(fā)明的第三十五方面的特征，除了所述第三十四方面的特征之外，所述表面處理是在一種燒制品上進行的汽相淀積。
在上述的對一系列制品進行表面處理的方法中，對制品的表面處理在所述處理室中進行，所述制品相互間隔；在對制品進行表面處理的同時，使制品繞各自的軸線旋轉(zhuǎn)，或繞公共旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)，或同時繞各自的軸線和公共旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)。因此，制品的所有表面可以同時受到均一的處理。
這樣，通過對相互間隔的制品進行均一的表面處理，即使在硬而易碎的燒制品表面，也可以均一地淀積一層軟的金屬膜比如鋁、錫和鋅，或者硬的金屬氮化物，比如氮化鈦。
通過用所述繞其自身的軸線或公共旋轉(zhuǎn)軸線，或者繞其自身的軸線及公共旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)的支承裝置支承所述制品，可以可靠地實現(xiàn)所述制品繞其自身的軸線，或者繞所述公共旋轉(zhuǎn)軸線，或者繞其自身的軸線及所述公共旋轉(zhuǎn)軸線的旋轉(zhuǎn)。
在這種情形下，通過使用本發(fā)明的前述特征所述的表面處理支承裝置，所述制品能夠相隔一定間距繞其自身的軸線，或者繞所述公共旋轉(zhuǎn)軸線，或者繞其自身的軸線及所述公共旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)。如果使用由具有籠狀隔間的頂籠和底籠構(gòu)成，所述頂籠和底籠可在長度方向上開閉的表面處理支承裝置，則無論制品的形狀如何，尤其，即使制品是大尺寸的，都可以對之進行表面處理。
另外，通過使用由可在長度方向上開閉折合的板狀部件構(gòu)成的表面處理支承裝置(所述板狀部件在展開狀態(tài)下形成長度對應于具有內(nèi)徑部分的制品之內(nèi)徑的狹部系列)，具有內(nèi)徑部分且為盤形或類似形狀的制品能夠繞其自身的軸線，或者繞所述公共旋轉(zhuǎn)軸線，或者繞其自身的軸線及所述公共旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)，同時可靠地保持相互間隔的狀態(tài)。具體地，當所述制品按照上述方式在其內(nèi)徑部分被支承時，所述制品可以沿著長度方向相對于處理材料源比如一汽相淀積源垂直取向。而且，除了制品內(nèi)徑部分的支承點之外，處理材料到達制品表面的過程不可能受到阻礙，因而可以實現(xiàn)非常有效的表面處理。因此，可以在短時間內(nèi)完成真空淀積，在溫度升高之前表面處理就可以完成。例如，Nd-Fe-B稀土金屬基燒制磁體物件的表面處理，可以在不損害磁性的不高于400℃的溫度下以非常高的效率一次完成。所述內(nèi)徑部分的支承是點接觸的，可以適當?shù)匾苿铀鼋佑|點，從而使整個內(nèi)徑部分都受到表面處理。
另外，在所述情況下，如果汽相淀積是在這樣的條件下進行的-負極與所述支承裝置相連，制品絕緣放置，所述汽相淀積源與正極相連-則可以對內(nèi)徑側(cè)表面進行均一的表面處理。最好，所述負極可以通過繞制品自身的軸線旋轉(zhuǎn)制品的裝置連接到所述制品，因為，在要用氬氣進行表面清洗處理時，負極應連接到所述制品。
所述制品繞自身的軸的旋轉(zhuǎn)也可以用不使用所述支承裝置的方法實現(xiàn)，例如，可以將所述制品置于所述表面處理支架中，然后在一有孔的籠狀旋轉(zhuǎn)裝置中使所述支架繞其自身的軸線旋轉(zhuǎn)。
所述表面處理適用于通過汽相淀積工藝形成鍍膜，適于淀積金屬、非金屬非有機物質(zhì)及有機化合物等。所述表面處理可應用于真空淀積工藝、離子濺鍍工藝、電離鍍膜工藝及汽相淀積聚合作用等等。
根據(jù)本發(fā)明第三十六方面的特征，提供一種表面處理設備，該設備包括一個在一處理室中的處理材料源，從所述處理材料源釋放出的處理材料可被送出，抵達制品而完成表面處理，所述表面處理設備還包括一個旋轉(zhuǎn)裝置，用來使一支承所述制品的支承裝置繞其自身的軸線旋轉(zhuǎn)。
按照本發(fā)明的第三十七方面的特征，除了所述第三十六方面的特征之外，所述表面處理設備是一種汽相淀積設備。
根據(jù)本發(fā)明第三十八方面的特征，提供一種表面處理設備，該設備包括一個在一處理室中的處理材料源，從所述處理材料源釋放出的處理材料可被送出，抵達制品而完成表面處理，所述表面處理設備還包括一個旋轉(zhuǎn)裝置，用來使一支承所述制品的支承裝置繞一旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)。
按照本發(fā)明的第三十九方面的特征，除了所述第三十八方面的特征之外，所述表面處理設備是一種汽相淀積設備。
根據(jù)本發(fā)明第四十方面的特征，提供一種表面處理設備，該設備包括一個在一處理室中的處理材料源，從所述處理材料源釋放出的處理材料可被送出，抵達制品而完成表面處理，所述表面處理設備還包括一個旋轉(zhuǎn)裝置，用來使一支承所述制品的支承裝置繞其自身的軸線及一旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)。
按照本發(fā)明的第四十一方面的特征，除了所述第四十方面的特征之外，所述表面處理設備是一種汽相淀積設備。
按照本發(fā)明的第四十二方面的特征，除了所述第四十方面的特征之外，所述設備還包括至少兩個旋轉(zhuǎn)盤，在所述旋轉(zhuǎn)盤上，在圓周方向上設置用于支承所述制品的支承裝置的接納部件，使得所述支承裝置可以通過所述接納部件被支承在至少兩個旋轉(zhuǎn)盤之間，從而，通過所述接納部件的旋轉(zhuǎn)，所述支承裝置可以繞其自身的軸線旋轉(zhuǎn)，通過所述旋轉(zhuǎn)盤的旋轉(zhuǎn)，所述支承裝置可以繞一公共旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)。
按照本發(fā)明的第四十三方面的特征，除了所述第四十二方面的特征之外，所述表面處理設備是一種汽相淀積設備。
按照本發(fā)明的第四十四方面的特征，除了所述第四十方面的特征之外，所述設備還包括一個用來向所述支承裝置傳送由一驅(qū)動軸提供的用來旋轉(zhuǎn)所述支承裝置的驅(qū)動力的裝置，所述驅(qū)動力用來使所述支承裝置繞其自身的軸線旋轉(zhuǎn)。
按照本發(fā)明的第四十五方面的特征，除了所述第四十四方面的特征之外，所述表面處理設備是一種汽相淀積設備。
上述表面處理設備包括使支承所述制品的支承裝置繞其自身的軸線旋轉(zhuǎn)的裝置，使支承所述制品的支承裝置繞所述旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)的裝置，或者使支承所述制品的支承裝置繞其自身的軸線及所述旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)的裝置。因此，將所述表面處理支承裝置置入所述處理室中安放起來，可使所述制品相互間隔地繞其自身的軸線，或繞所述旋轉(zhuǎn)軸線，或者繞其自身的軸線及所述旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)，從而實現(xiàn)對大量制品的同時、均一的表面處理。
在所述表面處理設備中，所述支承裝置可以通過所述接納部件支承于至少兩個旋轉(zhuǎn)盤之間，在所述旋轉(zhuǎn)盤上，在圓周方向上設置有用來支承所述制品的接納部件。另外，在所述表面處理設備中，通過所述接納部件的旋轉(zhuǎn)，所述支承裝置可以繞其自身的軸線旋轉(zhuǎn)，通過所述旋轉(zhuǎn)盤的旋轉(zhuǎn)，所述支承裝置可以繞所述軸線旋轉(zhuǎn)。因此，簡單地利用普通的汽相淀積設備，使制品相互間隔地繞其自身的軸線旋轉(zhuǎn)，或繞所述旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)，或繞其自身的軸線及所述旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)，即可實現(xiàn)大量制品的表面處理。
所述表面處理設備可應用于汽相生長工藝鍍膜，更具體地，這樣的設備例如有真空汽相淀積設備、離子濺鍍設備、電離鍍膜設備，以及汽相淀積聚合作用設備。
在下文結(jié)合附圖對優(yōu)選實施例所作的說明中，可以看出本發(fā)明的上述及其他的目的、特征和優(yōu)點。


圖1是本發(fā)明的一種表面處理支承裝置的一個實施例的立體視圖；圖2A和圖2B是本發(fā)明的一種表面處理支承裝置的實施例在裝卸制品時的前視圖和側(cè)視圖；圖3A和圖3B是本發(fā)明的前述表面處理支承裝置的實施例在支承制品時的前視圖和側(cè)視圖；圖4是前述實施例被安裝到一個旋轉(zhuǎn)裝置上后的前視圖；
圖5是本發(fā)明的一種表面處理支架的一個實施例的前視圖；圖6是示于圖5中的實施例的側(cè)視圖；圖7是本發(fā)明的一種表面處理支架的另一個實施例的前視圖；圖8是本發(fā)明的一種表面處理設備的一個實施例的前視圖；圖9是示于圖8中的設備的一個旋轉(zhuǎn)裝置的立體視圖；圖10是用來使制品繞其自身的軸旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)盤裝置的放大的立體視圖；圖11是一種普通表面處理設備的視圖。
具體實施例方式
下面結(jié)合附圖，通過實施例來對本發(fā)明進行說明。
I.由可開閉的頂籠和底籠構(gòu)成的表面處理支承裝置的實施例圖1示出了本發(fā)明的一種表面處理支承裝置的一個實施例，其由各包括一系列籠狀隔間的頂籠和底籠構(gòu)成，所述頂籠和底籠可在長度方向上開閉。
構(gòu)成所述表面處理支承裝置10的頂籠和底籠1a和1b形成可通過一合頁2開閉的對稱結(jié)構(gòu)，所述頂籠和底籠由不銹鋼網(wǎng)構(gòu)成，網(wǎng)眼尺寸為5mm，網(wǎng)厚1mm。在圖示的實施例中，分布有十五個分隔出籠狀隔間3，在每個籠狀隔間3中可放置一個待加工的制品Wa。在圖1中，標號4指示的是一個連接件，用來將所述表面處理支承裝置10連接到下面將要描述的接納部件上。該連接件4可以由一個螺旋穿過孔5的螺紋連接件固定到所述接納部件上。當進行表面處理時，所述頂籠和底籠1a和1b由一個夾子或若干夾子(圖中未示出)扣緊。
II.由可開閉折合的板狀部件構(gòu)成的表面處理支承裝置的實施例這種實施例的表面處理支承裝置適合于支承大量具有一內(nèi)徑部分的制品。
在圖2和圖3中示出了本發(fā)明的一種表面處理支承裝置的一個實施例，在圖2和圖3中由標號20指示的支承裝置由可在長度方向上開閉折合的板狀部件構(gòu)成。如此設計所述板狀部件，使之在展開狀態(tài)下可形成一系列狹部，后者的長度對應于具有一內(nèi)徑部分的制品的直徑。
該實施例的表面處理支承裝置20適合于支承大量的具有一內(nèi)徑部分的制品。
由不銹鋼板材制成的所述板狀部件6、6被制成可開閉的對稱板，其在一彈簧合頁7的彈力作用下通常維持于折合狀態(tài)。
在每一板狀部件6上，沿其外側(cè)沿，等距形成一系列槽8，從而在展開所述板狀部件6、6時由相對的槽8形成一系列狹部9，每一狹部的長度對應于具有內(nèi)徑部分的制品Wa的內(nèi)徑L。
在圖3A中，標號4a指示的是一個安裝槽，用來將所述支承部件安裝到下文將要描述的接納部件上。利用該槽4a，所述支承部件可被擰到所述接納部件上去。
這樣，在所述板狀部件6、6被折合起來的狀態(tài)下，如圖2A和圖2B所示，具有一內(nèi)徑部分的制品Wb可被裝上或取下。另外，所述板狀部件6、6可以展開，如圖3A和圖3B所示，此時所述制品Wb就可以在其內(nèi)徑部分受到支承。應當注意，所述狹部9的長度可稍短于所述內(nèi)徑L，以便制品Wb可在被支承狀態(tài)下進行一定程度的轉(zhuǎn)動，從而改變支承(接觸)位置。
圖4所示的支承裝置20已被固定到了下文將要說明的一個旋轉(zhuǎn)裝置50的接納部件上。所述支承裝置20相對的兩端被置于所述接納部件上，然后利用槽4a將所述支承裝置20擰到所述接納部件上。
III.表面處理支架的實施例圖5和圖6示出了本發(fā)明的一種表面處理支架的實施例。在圖5和圖6中以標號30指示的所述表面處理支架為彈簧狀管狀結(jié)構(gòu)，利用直徑為1.6mm的不銹鋼(SUS304)絲11制成，鋼絲11的繞制是逆時針方向，留有間隔，并在相對的兩端將鋼絲11繞四匝，形成螺旋線狀的端面12、12。在所述螺旋線端面12、12之間，以8.2mm的匝距繞制鋼絲11。在所述螺旋線端面12的中央，通過緊繞所述鋼絲11而形成一個中央部12a。
在該實施例中，所述彈簧狀管狀部分13相對的兩端13a是不留間距地將鋼絲11密集繞制四匝形成的。
鋼絲11的繞制基本上留有間距，因此，可以透過所述間距進行表面處理，比如鋁的汽相淀積，而當支架30、30相互碰撞時，由于端部12a和13a是緊密繞制的，不會發(fā)生纏結(jié)的情況。
在該實施例中，進一步在所述彈簧狀管狀結(jié)構(gòu)13的鋼絲11上繞制防纏結(jié)彈簧14。
在上述實施例中，形成的是較長的管狀結(jié)構(gòu)，但如圖7的變化實施例所示，也可以形成較短的管狀結(jié)構(gòu)。而且，鋼絲可以繞制任意合適的匝數(shù)，以形成適合制品形狀的任意尺寸和形狀的支架。這種支架的設計使得制品可以被置于其中然后進行表面處理，同時在一籠狀容器中繞其自身的軸線被旋轉(zhuǎn)。
IV.表面處理設備的實施例圖8到圖10示出了一種表面處理設備的一個實施例。所示的表面處理設備為鋁的汽相淀積設備。
見圖8，在一蒸發(fā)皿支承座44上設置一系列用作蒸發(fā)源42的蒸發(fā)皿，每一個都是一個用來汽相淀積鋁材料的熔融蒸發(fā)區(qū)。所述蒸發(fā)皿支承座44在一真空室40下部的一支承架43上方，所述真空室40與一抽空系統(tǒng)(圖中未示出)相連。鋁絲45用作汽相淀積的材料，其被繞制并保存在所述支承架43下方的進料卷取機46上，可連續(xù)饋送。所述鋁絲45的前端由一抗熱保護管47導引，該保護管朝向所述蒸發(fā)皿42的內(nèi)表面。送料齒輪49、49安裝在所述保護管47一部分上的一個觸窗48處，因而與所述鋁線45直接接觸以輸送之。通過所述送料齒輪的作用，所述鋁線45可以被送入所述蒸發(fā)皿42。如此設定所述制品關(guān)于所述旋轉(zhuǎn)軸線及制品自身的軸線的旋轉(zhuǎn)方向，使它們相互間相對旋轉(zhuǎn)，如圖8中的箭頭所示。
在所述真空處理室40中設置有兩個旋轉(zhuǎn)裝置50、50，每一旋轉(zhuǎn)裝置用來旋轉(zhuǎn)一個制品支承裝置，使之繞其自身的軸線及一旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)。所述旋轉(zhuǎn)裝置50、50由一支承臺50a上的旋轉(zhuǎn)裝置支架50b、50b支承，可在安裝在所述旋轉(zhuǎn)裝置支架50b上的滾軸50c的驅(qū)動力的作用下旋轉(zhuǎn)。
見圖9，圖中是用來繞所述旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)所述制品的一個驅(qū)動盤裝置51，由該裝置構(gòu)成每一個所述旋轉(zhuǎn)裝置50。所述驅(qū)動盤裝置設置在左側(cè)，包括兩個相隔一窄隙相對設置的盤52和53。如圖9所示，一旋轉(zhuǎn)扣齒鏈55沿著左側(cè)環(huán)狀盤52的內(nèi)圓周安裝在該左側(cè)的環(huán)狀盤52上，與一鏈輪54相嚙合。這樣，通過傳遞與一驅(qū)動馬達56相連的所述鏈輪54的旋轉(zhuǎn)，可繞一旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)所述旋轉(zhuǎn)裝置50。
見圖9和圖10，設置在中央的用來使制品繞其自身的軸線旋轉(zhuǎn)的一個驅(qū)動盤裝置61的結(jié)構(gòu)是這樣的一個包括一扣齒鏈63的環(huán)狀盤64夾在兩個盤62、62之間。一從動盤裝置71設置在所述旋轉(zhuǎn)裝置50的右端，由單個盤72構(gòu)成。所述三個盤裝置51、61和71由一旋轉(zhuǎn)軸80連接起來，在旋轉(zhuǎn)盤裝置51的驅(qū)動下，所述盤裝置61和71與所述旋轉(zhuǎn)盤裝置51同步旋轉(zhuǎn)。
包括所述旋轉(zhuǎn)扣齒鏈63的所述環(huán)狀盤64由一固定臂65支承并不可旋轉(zhuǎn)地固定，使之不隨著盤64兩側(cè)的盤62、62的旋轉(zhuǎn)而旋轉(zhuǎn)。
可在軸承81中旋轉(zhuǎn)的接納部件82安裝在左盤裝置51和右盤裝置71上。在所述中央旋轉(zhuǎn)盤裝置61的左右盤62、62的每側(cè)外表面上，同樣突出地安裝有可在軸承81中同時旋轉(zhuǎn)的接納部件82。在連接所述接納部件82的每個軸66的中央部分安裝有一個鏈輪83，其與所述旋轉(zhuǎn)扣齒鏈63相嚙合，以使得每個接納部件82隨著所述兩盤62、62的旋轉(zhuǎn)而繞其各自的軸旋轉(zhuǎn)。
這樣，如果所述表面處理支承裝置被夾持于所述接納部件82、82之間，并給所述驅(qū)動馬達56通以電流，則所述旋轉(zhuǎn)盤裝置61的兩盤62、62及所述從動盤裝置71就會隨著旋轉(zhuǎn)盤裝置51的旋轉(zhuǎn)而旋轉(zhuǎn)，從而使得所述表面處理支承裝置繞所述旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)。另外，與所述旋轉(zhuǎn)扣齒鏈63相嚙合的鏈輪83在所述旋轉(zhuǎn)盤裝置61的兩盤62、62的旋轉(zhuǎn)作用下而被旋轉(zhuǎn)，因而使得所述接納部件82被旋轉(zhuǎn)，而所述安裝在左右盤裝置51和71上的接納部件82可自由旋轉(zhuǎn)，這樣，即可使所述支承裝置繞其自身的軸線旋轉(zhuǎn)。
所述支承裝置繞所述公共旋轉(zhuǎn)軸線的旋轉(zhuǎn)，以及繞其各自的軸線的旋轉(zhuǎn)，均是由所述驅(qū)動馬達56的驅(qū)動作用實現(xiàn)的，因此，僅所述驅(qū)動馬達56的驅(qū)動軸56a要穿入所述真空處理室40。所以，所述真空處理室中可以維持高真空度，并可以縮短抽空時間。
在上述實施例中，構(gòu)建了所述旋轉(zhuǎn)裝置50，以便所述支承裝置可以繞所述公共旋轉(zhuǎn)軸線及其自身的軸線旋轉(zhuǎn)。另外，也可以如此構(gòu)建所述旋轉(zhuǎn)裝置50，使得所述表面處理支承裝置僅繞所述公共旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)，例如，可以取消所述旋轉(zhuǎn)扣齒鏈68和所述鏈輪83。
再例如，如果所述旋轉(zhuǎn)盤裝置51、所述旋轉(zhuǎn)盤裝置61的兩盤62、62和所述從動盤裝置71被維持于固定狀態(tài)，而僅轉(zhuǎn)動包括所述鏈輪83的所述環(huán)狀盤64，則僅有所述接納部件82被轉(zhuǎn)動，從而可使所述表面處理支承裝置僅繞其自身的軸線旋轉(zhuǎn)。
V.利用由可開閉的頂籠和底籠構(gòu)成的表面處理支承裝置進行表面處理的實施例在上述實施例中，利用由所述可開閉的頂籠和底籠構(gòu)成的所述表面處理支承裝置進行了鋁的汽相淀積。
在美國專利第4 770 723號中所描述的尺寸為30mm×10mm×50mm的Nd-Fe-B稀土金屬基磁體在此用作被處理的制品，利用前述汽相淀積設備對之進行了鋁的汽相淀積。更為具體地，所述支承裝置被置入所述設備中，然后將所述設備抽空到4×10-4乇。然后，向該設備中注入氬氣(Ar)，并向所述支承裝置施加-500V的電壓，將所述磁體的表面清洗20分鐘。然后，向所述支承裝置施加-100V的電壓，在所述制品上進行25分鐘的汽相淀積，形成厚10μm的鋁膜，其間，加熱所述蒸發(fā)皿以使鋁汽化。在此，所述制品繞所述公共旋轉(zhuǎn)軸線的轉(zhuǎn)速為1.2轉(zhuǎn)/分，所述制品繞其自身的軸線的轉(zhuǎn)速為5轉(zhuǎn)/分。在這樣的條件下，汽相淀積10μm厚的鋁。結(jié)果，鋁被均一地淀積到制品上，淀積在產(chǎn)品上的鋁膜不會剝落，也不會導致產(chǎn)品的破損。
VI.利用由可開閉折合的板狀部件構(gòu)成的表面處理支承裝置進行表面處理的實施例在上述實施例中，利用由所述可開閉折合的板狀部件構(gòu)成的所述表面處理支承裝置進行了鋁的汽相淀積。
在美國專利第4 770 723號中所描述的外徑為39.5mm、內(nèi)徑為22mm、厚0.9mm的環(huán)狀Nd-Fe-B稀土金屬基磁體在此用作被處理的制品，利用前述汽相淀積設備在同樣的條件下對之汽相淀積了10μm厚的鋁膜，但汽相淀積時間設定為15分鐘。結(jié)果，鋁被均一地淀積到制品上，淀積在產(chǎn)品上的鋁膜不會剝落，也不會導致產(chǎn)品的破損。
VII.利用表面處理支架進行表面處理的實施例在上述實施例中，利用所述支架(40×60mm)進行了鋁的汽相淀積。
在美國專利第4 770 723號中所描述的尺寸為30×10×50mm的Nd-Fe-B稀土金屬基磁體在此用作被處理的制品，利用示于圖11的汽相淀積設備，在與前述利用由頂籠和底籠構(gòu)成表面處理支承裝置進行表面處理的實施例同樣的條件下，對之汽相淀積了10μm厚的鋁膜，但所述籠狀容器的轉(zhuǎn)速為1.2轉(zhuǎn)/分。結(jié)果，鋁被均一地淀積到制品上，淀積在產(chǎn)品上的鋁膜不會剝落，也不會導致產(chǎn)品的破損。
比較實施例按照現(xiàn)有技術(shù)，將同樣的制品置入所述籠狀容器中，使之接受鋁的汽相淀積，而不使用本發(fā)明中的所述支架，結(jié)果是，鋁在制品上的淀積雖然均一，但在制品的鋁淀積表面上產(chǎn)生了一些疤痕，并出現(xiàn)了產(chǎn)品的破損現(xiàn)象，這導致產(chǎn)品合格率低至65％。
權(quán)利要求
1.一種用于在汽相淀積設備中保持用于汽相淀積的制品的制品支架，包括，一個基本上管狀的主體，所述主體的內(nèi)直徑尺寸構(gòu)成適合保持所述制品，所述主體由連續(xù)繞制的絲狀物制成，所述連續(xù)繞制的絲狀物在相對的兩端具有螺旋形卷繞的線圈并形成了末端封閉部分，以防止制品從其中取出，和一個在所述末端封閉部分之間延伸的中間部分，所述中間部分中具有以相互間隔的關(guān)系設置的線圈，從而限定了使保持在所述制品支架中的制品暴露出來以從支架外側(cè)進行表面處理的空間。
2.如權(quán)利要求1所述的制品支架，其特征在于，所述主體總體是圓柱形的。
3.如權(quán)利要求1所述的制品支架，包括防止所述線圈與另一個制品支架的線圈纏結(jié)的裝置，所述主體的所述中間部分包括圍繞所述主體的線圈纏繞的小直徑螺旋彈簧。
4.如權(quán)利要求1所述的制品支架，其特征在于，包括防止所述線圈與另一個制品支架的線圈纏結(jié)的裝置，從而使得與每個相對端部相鄰的所述主體的中間部分由許多相互之間基本上沒有間隙的許多線圈構(gòu)成。
5.如權(quán)利要求1所述的制品支架，其特征在于，所述主體的所述末端部分由螺旋形線圈封閉，所述螺旋形線圈在所述末端部分的中央?yún)^(qū)域包括更加緊密的卷繞的線圈。
6.如權(quán)利要求1所述的制品支架，其特征在于，所述主體由不銹鋼絲制成。
全文摘要
對一系列制品進行表面處理的方法，在一處理室中對所述制品的表面進行處理。所述制品的支承裝置可以由各包括許多隔間的頂籠和底籠構(gòu)成，所述底籠和底籠可在長度方向上開閉。所述支承裝置可由可在長度方向上開閉折合的板狀部件構(gòu)成，展開時可形成一系列狹部，其長度對應于待處理制品的內(nèi)徑。一種表面處理設備，其包括一個在于處理室中的處理材料源，旋轉(zhuǎn)支承所述制品的支承裝置的旋轉(zhuǎn)裝置使所述制品繞其自身的軸線、或公共旋轉(zhuǎn)軸線、或兩者旋轉(zhuǎn)的情況下，進行均一的表面處理。
文檔編號C23C14/50GK1654705SQ20051000477
公開日2005年8月17日 申請日期1999年9月29日 優(yōu)先權(quán)日1998年10月2日
發(fā)明者櫪下佳己, 藤原好雄, 淺貝義宏, 太田垣謙 申請人:株式會社新王磁材