專利名稱：使用一個(gè)或多個(gè)拋光面拋光半導(dǎo)體晶圓的設(shè)備與方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體制程設(shè)備，特別是涉及一種用以拋光半導(dǎo)體晶圓的設(shè)備與方法。
本申請書具有在2003年4月21日申請的60/464,290號、在2003年5月12日申請的60/468,691號、在2003年5月15日申請的60/470,933號、在2003年5月22日申請的60/472,581號、在2003年6月2日申請的60/475,292號、在2003年6月10日申請的60/477,480號、在2003年11月3日申請的60/516,891號、和2004年2月3日申請的60/541,432號，在此全都納入?yún)⒖嫉拿绹鴷簻?zhǔn)專利申請書的權(quán)利。
背景技術(shù)：
當(dāng)更多的金屬層和層間介電層堆迭在晶圓上時(shí)，半導(dǎo)體晶圓局部的和全部的平坦化就會變得越來越重要。平坦化半導(dǎo)體晶圓較佳的方法是化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)法，其是在晶圓和拋光墊之間，應(yīng)用拋光液，拋光半導(dǎo)體晶圓的表面。CMP法也被廣泛用在波紋制程，以在半導(dǎo)體晶圓上形成銅結(jié)構(gòu)。
一般而言，CMP裝置包括放置拋光墊的拋光臺，及支撐半導(dǎo)體晶圓和將晶圓對著拋光墊施壓的晶圓載具，CMP裝置最重要的性能之一就是生產(chǎn)力。為了要有較高的生產(chǎn)力，CMP裝置通常需要更多的拋光臺和更多的晶圓載具。當(dāng)CMP裝置所包括的拋光臺和晶圓載具的數(shù)量增加時(shí)，拋光臺和晶圓載具的排列就變得很重要，以有效拋光許多半導(dǎo)體晶圓。因此，半導(dǎo)體晶圓轉(zhuǎn)移至晶圓載具或自其轉(zhuǎn)移的方式也變得很重要。但是，因?yàn)榫哂写蟪叽绲腃MP裝置需要較大的無塵室容納裝置，其表示要較高的操作成本，所以必須也要考慮CMP裝置的尺寸。
考慮這些因素，所以非常需要一種設(shè)備和方法，可以使用具有符合小尺寸要求的高生產(chǎn)力的許多拋光臺，拋光半導(dǎo)體晶圓。

發(fā)明內(nèi)容
一種利用一個(gè)或多個(gè)拋光面、多晶圓載具和至少一個(gè)載入/載出載杯、拋光物體，如半導(dǎo)體晶圓，的設(shè)備和方法。載入/載出載杯可以樞軸旋轉(zhuǎn)方式建構(gòu)，以前后移動晶圓載具。載入/載出載杯可以線性往復(fù)移動方式建構(gòu)，以前后移動晶圓載具。晶圓載具可以樞軸旋轉(zhuǎn)方式，以前后移動載入/載出載杯。晶圓載具可以線性往復(fù)移動方式建構(gòu)，以前后移動載入/載出載杯。
一種根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例拋光物體的設(shè)備，包括位在第一拋光面上方的第一物體載具，位在第二拋光面上方的第二物體載具，位在第一和第二物體載具之間的第一物體中繼裝置，及位在鄰近第一和第二物體載具其中之一的第二物體中繼裝置。第一物體中繼裝置包括第一載入/載出載杯和第一樞軸旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)。第一樞軸旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)的建構(gòu)，是以樞軸旋轉(zhuǎn)第一載入/載出載杯，繞著第一樞軸旋轉(zhuǎn)軸，前后移動第一和第二物體載具，將物體從第一物體載具轉(zhuǎn)移到第二物體載具。第二物體中繼裝置包括第二載入/載出載杯和第二樞軸旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)。第二樞軸旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)的建構(gòu)，是以樞軸旋轉(zhuǎn)第二載入/載出載杯，繞著第二樞軸旋轉(zhuǎn)軸，前后移動第一和第二物體載具的其中之一，將物體轉(zhuǎn)移到第一物體載具，或自第二物體載具轉(zhuǎn)移出去。
一種根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例拋光物體的方法，包括將物體轉(zhuǎn)移到位在第一拋光面上方的第一物體載具；使用第一物體載具，拋光在第一拋光面上的物體；使用第一載入/載出載杯，將物體從第一物體載具轉(zhuǎn)移到位在第二拋光面上方的第二物體載具；使用第二物體載具，拋光在第二拋光面上的物體，及將物體轉(zhuǎn)移到位在第一和第二物體載具其中之一附近的第二載入/載出載杯，以將物體載入在第一物體載具上，或?qū)⑽矬w自第二物體載具載出。物體自第一物體載具到第二物體載具的轉(zhuǎn)移包括繞著樞軸旋轉(zhuǎn)軸的載入/載出載具的樞軸旋轉(zhuǎn)。
一種根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例拋光物體的設(shè)備，包括位在許多拋光面上方的許多物體載具，及位在物體載具之間的許多物體中繼裝置，使得至少有一個(gè)物體中繼裝置位在兩個(gè)相鄰物體載具之間。每一個(gè)物體中繼裝置都包括一個(gè)載入/載出載杯和一個(gè)樞軸旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)。樞軸旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)的建構(gòu)，是以樞軸旋轉(zhuǎn)載入/載出載杯，繞著樞軸旋轉(zhuǎn)軸，前后移動兩個(gè)相鄰的物體載具，使物體在兩個(gè)相鄰的物體載具之間轉(zhuǎn)移。
一種根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例拋光物體的方法，包括使用許多載入/載出載杯，將物體順序轉(zhuǎn)移到位在許多拋光面上方的許多物體載具，及使用物體載具順序拋光在拋光面上的物體。該順序轉(zhuǎn)移包括繞著樞軸旋轉(zhuǎn)軸樞軸旋轉(zhuǎn)每一個(gè)載入/載出載杯，以轉(zhuǎn)移在物體載具的兩個(gè)相鄰載具之間的物體。
一種根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例拋光物體的設(shè)備，包括位在第一拋光面上方的第一物體載具，位在第二拋光面上方的第二物體載具，位在第一和第二物體載具之間的物體中繼裝置，及實(shí)際連接到中繼裝置的線性驅(qū)動機(jī)構(gòu)。物體中繼裝置包括載入/載出載杯。線性驅(qū)動機(jī)構(gòu)的建構(gòu)，是要以大致線性往復(fù)移動第一和第二物體載具的方式，移置物體中繼裝置的載入/載出載杯，將物體自第一物體載具轉(zhuǎn)移到第二物體載具。
一種根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例拋光物體的方法，包括轉(zhuǎn)移物體到位在第一拋光面上方的第一物體載具，使用第一物體載具拋光在第一拋光面上的物體，使用載入/載出載杯，將物體自第一物體載具轉(zhuǎn)移到位在第二拋光面上方的第二物體載具，及使用第二物體載具拋光在第二拋光面上的物體。物體自第一物體載具的轉(zhuǎn)移，包括載入/載出載杯自第一物體載具轉(zhuǎn)移到第二物體載具。
一種根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例拋光物體的設(shè)備，包括具有接收物體的輸入?yún)^(qū)和輸出物體的輸出區(qū)的物體拋光站，及至少一個(gè)將物體轉(zhuǎn)移到物體拋光站的輸入?yún)^(qū)，和將物體自物體拋光站的輸出區(qū)轉(zhuǎn)移的物體輸送裝置。物體拋光站包括許多拋光面，位在拋光面的兩個(gè)相鄰拋光面之間的物體轉(zhuǎn)移站，許多物體載具，至少一個(gè)實(shí)際連接到至少其中之一物體載具的驅(qū)動機(jī)構(gòu)，其中每一個(gè)物體都是以物體拋光站的拋光面的方式，自輸入?yún)^(qū)轉(zhuǎn)移到輸出區(qū)，使得每一個(gè)物體都在拋光面上拋光。各物體載具的建構(gòu)是要固定其中之一物體。驅(qū)動機(jī)構(gòu)的建構(gòu)是要前后移動物體轉(zhuǎn)移站和兩個(gè)相鄰拋光面的其中之一，以轉(zhuǎn)移至少其中之一物體載具。
一種根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例拋光物體的方法，包括在物體拋光站的輸入?yún)^(qū)接收物體，使用物體拋光站的許多物體載具，將物體順序轉(zhuǎn)移到物體拋光站的許多拋光面，使用物體載具順序拋光在拋光面上的物體，使用物體載具中的第一物體載具，將物體自拋光面的第一相鄰拋光面轉(zhuǎn)移到物體拋光站的物體轉(zhuǎn)移站，使用物體載具中的第二物體載具，將物體自物體轉(zhuǎn)移站轉(zhuǎn)移到拋光面的第二相鄰拋光面，及在拋光面上的物體已被拋光之后，將物體自物體拋光站的輸出區(qū)輸出。
一種根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例拋光物體的設(shè)備，包括第一物體輸送裝置，第二物體輸送裝置，及位在第一和第二物體輸送裝置之間的物體拋光單元。物體拋光單元至少包括一個(gè)拋光面，位在拋光面上方的第一和第二物體載具，以拋光在拋光面上的物體。各物體是藉由第一和第二物體載具其中之一，自第一物體輸送裝置轉(zhuǎn)移到到第二物體輸送裝置。
一種根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例拋光物體的方法，包括使用第一物體輸送裝置，將第一和第二物體轉(zhuǎn)移到物體拋光單元的第一端點(diǎn)，使用物體拋光單元的第一物體載具，拋光在物體拋光單元的至少一個(gè)拋光面上的第一物體，使用物體拋光單元的第二物體載具，拋光在至少一個(gè)拋光面上的第二物體，及使用第二物體輸送裝置，將第一和第二物體自物體拋光單元的第二端點(diǎn)轉(zhuǎn)移。第一和第二端點(diǎn)是位在物體拋光單元的相反端點(diǎn)位置。
一種根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例載入/載出載杯的晶圓中繼裝置，包括載入/載出載杯，實(shí)際連接到載入/載出載杯，以橫向移動載入/載出載杯的手臂，及實(shí)際連接到載入/載出載杯和手臂的載杯上升/下降機(jī)構(gòu)。載杯上升/下降機(jī)構(gòu)的建構(gòu)是要以手臂舉起或放下載入/載出載杯。
本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有明顯的優(yōu)點(diǎn)和有益效果。經(jīng)由上述可知，本發(fā)明是有關(guān)于一種利用一個(gè)或多個(gè)拋光面、多晶圓載具和至少一個(gè)載入/載出載杯、拋光物體，如半導(dǎo)體晶圓，的設(shè)備和方法。載入/載出載杯可以樞軸旋轉(zhuǎn)方式建構(gòu)，以前后移動晶圓載具。載入/載出載杯可以線性往復(fù)移動方式建構(gòu)，以前后移動晶圓載具。晶圓載具可以樞軸旋轉(zhuǎn)方式，以前后移動載入/載出載杯。晶圓載具可以線性往復(fù)移動方式建構(gòu)，以前后移動載入與載出載杯。
上述說明僅是本發(fā)明技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本發(fā)明的技術(shù)手段，而可依照說明書的內(nèi)容予以實(shí)施，并且為了讓本發(fā)明的上述和其他目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更明顯易懂，以下特舉較佳實(shí)施例，并配合附圖，詳細(xì)說明如下。


圖1為根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的拋光設(shè)備的俯視圖；圖2為用在圖1的拋光設(shè)備中的拋光單元和晶圓中繼裝置的透視圖；圖3(a)和圖3(b)分別為用在圖1的拋光設(shè)備中的晶圓中繼裝置的俯視圖和橫截面圖；圖4(a)和圖4(b)為某一個(gè)用在圖1的拋光設(shè)備中的晶圓中繼裝置的橫截面圖，其圖示藉由晶圓中繼裝置執(zhí)行的晶圓轉(zhuǎn)移過程；圖5(a)到圖5(n)為在圖1的拋光站中處理晶圓的方法范例，拋光站的順序俯視圖；圖6到圖8為根據(jù)本發(fā)明其他實(shí)施例，可以用在圖1的拋光設(shè)備中的拋光站的俯視圖；圖9和圖10分別為根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例，可以用在圖1的拋光設(shè)備中的拋光站的俯視圖和側(cè)視圖；圖11到圖17為根據(jù)本發(fā)明其他實(shí)施例，可以用在圖1的拋光設(shè)備中的拋光站的俯視圖；圖18和圖19分別為根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例，可以用在圖1的拋光設(shè)備中的拋光站的俯視圖和側(cè)視圖；圖20(a)和圖20(b)分別為圖18的拋光站，在晶圓載入和載出過程時(shí)的俯視圖；圖21(a)到圖21(c)為根據(jù)本發(fā)明其他實(shí)施例，可以用在圖1的拋光設(shè)備中的拋光站的俯視圖；圖22為根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例，可以用在圖1的拋光設(shè)備中的拋光站的俯視圖；
圖23和圖24分別為根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例，可以用在圖1的拋光設(shè)備中的拋光站的俯視圖和側(cè)視圖；圖25(a)到圖25(c)為根據(jù)本發(fā)明其他實(shí)施例，可以用在圖1的拋光設(shè)備中的拋光站的俯視圖；圖26為根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例，可以用在圖1的拋光設(shè)備中的拋光站的俯視圖；圖27和圖28分別為根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例，可以用在圖1的拋光設(shè)備中的拋光站的俯視圖和側(cè)視圖；圖29為根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例，可以用在圖1的拋光設(shè)備中的拋光站的俯視圖；圖30(a)和圖30(b)為用在圖29的拋光站中的拋光單元的側(cè)視圖；圖31和圖32分別為根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例，可以用在圖1的拋光設(shè)備中的拋光站的俯視圖和側(cè)視圖；圖33為根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例，可以用在圖1的拋光設(shè)備中的拋光站的俯視圖；圖34(a)到圖34(c)為可以用在圖33的拋光站中的拋光單元的俯視圖；圖35為根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的晶圓中繼裝置圖；圖36為圖35的晶圓中繼裝置的俯視圖；圖37(a)和圖37(b)為用在圖35的晶圓中繼裝置中的載入/載出載杯的橫截面圖；圖38(a)到圖38(f)為圖35的晶圓中繼裝置的載入/載出載杯，在將晶圓載入在晶圓載具上的過程的順序橫截面圖；圖39為根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例，拋光物體的方法的流程圖；圖40為根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例，拋光物體的方法的流程圖；圖41為根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例，拋光物體的方法的流程圖；圖42為根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例，拋光物體的方法的流程圖；及圖43為根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例，拋光物體的方法的流程圖。
10拋光設(shè)備20，25，30，35拋光站40，45，50，55拋光站 60，65，70，80拋光站85，90，100拋光站 110，120，130拋光站102晶圓輸入站 104晶圓輸出站135第一拋光單元 140拋光單元150第一晶圓輸送裝置 155，165線性軌道156，166，176晶圓固定部分 157清洗站160晶圓輸送裝置 210第二晶圓輸送裝置215線性軌道 220晶圓清洗器
222第一清洗站 224第二清洗站226吹干站 230第三晶圓輸送裝置232第一晶圓輸送裝置 234第二晶圓輸送裝置235線性軌道 250，251，252拋光單元255拋光墊 256拋光臺258墊調(diào)節(jié)器 260晶圓載具組件262晶圓載具 264載具桿266旋轉(zhuǎn)/垂直驅(qū)動機(jī)構(gòu)275中央流體組件276第一流體噴嘴 277第二流體噴嘴278第一噴嘴 280，281晶圓中繼裝置282載入/載出載杯283樞軸旋轉(zhuǎn)臂284樞軸旋轉(zhuǎn)桿 285真空通道，晶圓轉(zhuǎn)移站286樞軸旋轉(zhuǎn)/垂直驅(qū)動機(jī)構(gòu)287垂直驅(qū)動機(jī)構(gòu)289加強(qiáng)環(huán) 290杯座295杯 300升降器302升降活塞 304升降器氣缸310晶圓盤 340第一多口噴嘴350第二多口噴嘴 360排泄通道370第一流體通道 371第二流體通道372第三流體通道 373第四流體通道374第五流體通道 380載入/載出載杯400晶圓氣囊 405晶圓氣囊固定器410線性往復(fù)移動機(jī)構(gòu) 412往復(fù)移動桿414線性軌道 416，486往復(fù)移動驅(qū)動機(jī)構(gòu)420對準(zhǔn)器 422放射氣囊423垂直氣囊 424垂直氣囊固定器425a第一垂直面 425b第二垂直面426a第一水平面 426b第二水平面480晶圓運(yùn)送裝置 482運(yùn)送器484運(yùn)送軌道 500晶圓中繼裝置530載杯上升/下降機(jī)構(gòu)550流體通道680晶圓中繼裝置具體實(shí)施方式
為更進(jìn)一步闡述本發(fā)明為達(dá)成預(yù)定發(fā)明目的所采取的技術(shù)手段及功效，以下結(jié)合附圖及較佳實(shí)施例，對依據(jù)本發(fā)明提出的使用一個(gè)或多個(gè)拋光面拋光半導(dǎo)體晶圓的設(shè)備與方法其具體實(shí)施方式
、結(jié)構(gòu)、方法、步驟、特征及其功效，詳細(xì)說明如后。
請參閱圖1所示，其圖示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的拋光設(shè)備10。圖1是拋光設(shè)備10的俯視圖。拋光設(shè)備10包括拋光站20，晶圓輸入站102、晶圓輸出站104、第一晶圓輸送裝置150、第二晶圓輸送裝置210、第三晶圓輸送裝置230、和晶圓清洗器220。拋光站20包括第一拋光單元250a、第二拋光單元250b、第三拋光單元250c、第一晶圓中繼裝置280a、第二晶圓中繼裝置280b、第三晶圓中繼裝置280c、及第四晶圓中繼裝置280d。
晶圓輸入站102容納要藉由拋光站20拋光的半導(dǎo)體晶圓或其他可相提并論的物體。晶圓輸出站104容納分別已藉由拋光站20和晶圓清洗器220拋光和清洗的半導(dǎo)體晶圓或其他可相提并論的物體。晶圓輸入站102和輸出站104可建構(gòu)以包括許多細(xì)長孔，以容納許多晶圓。拋光設(shè)備10可建構(gòu)包括晶圓輸入站102，而沒有晶圓輸出站104。在此種組態(tài)中，要被拋光的晶圓和已被拋光的晶圓都被一起收納在晶圓輸入站102。
第一晶圓輸送裝置150的建構(gòu)是要將晶圓自晶圓輸入站102轉(zhuǎn)移到拋光站20。尤其，第一晶圓輸送裝置150的建構(gòu)是要將晶圓自晶圓輸入站102轉(zhuǎn)移到拋光站20的第一晶圓中繼裝置280a，下面將會更詳細(xì)的說明。第二晶圓輸送裝置210的建構(gòu)是要將晶圓自拋光站20轉(zhuǎn)移到晶圓清洗器220。尤其，第二晶圓輸送裝置210的建構(gòu)是要將晶圓自拋光站20的第四晶圓中繼裝置280d轉(zhuǎn)移到晶圓清洗器220，下面將會更詳細(xì)的說明。第二晶圓輸送裝置230的建構(gòu)是要將晶圓自晶圓清洗器220轉(zhuǎn)移到晶圓輸出站104，或轉(zhuǎn)移到晶圓輸入站102，下面將會更詳細(xì)的說明。
第一、第二和第三晶圓輸送裝置150、210和230可位在個(gè)別的線性軌道155、215和235上，使得晶圓輸送裝置可以藉由個(gè)別的線性驅(qū)動機(jī)構(gòu)(未圖示)，在線性軌道上以線性方式移動。例如，第一、第二和第三晶圓輸送裝置150、210和230可包括一機(jī)械手臂，以處理晶圓的轉(zhuǎn)移。第一、第二和第三晶圓輸送裝置150、210和230也可被建構(gòu)以包括雙機(jī)械手臂，使裝置可以同時(shí)處理兩片晶圓。第一和第二晶圓輸送裝置150和210也可被建構(gòu)，在晶圓分別轉(zhuǎn)移到拋光站20和晶圓清洗器220之前可先旋轉(zhuǎn)。
以下列方式配置4個(gè)晶圓中繼裝置280a-280d和3個(gè)拋光單元250a-250c第一拋光單元250a是位在第一和第二晶圓中繼裝置280a和280b之間，第二拋光單元250b是位在第二和第三晶圓中繼裝置280b和280c之間，而第三拋光單元250c則位在第三和第四晶圓中繼裝置280c和280d之間。
拋光單元250最好是以線性方式排列，以最小化拋光站20的寬度，如圖1所示。拋光單元250可被排列，使得兩個(gè)相鄰的拋光單元250之間的距離相同，如圖1所示。晶圓中繼裝置280也可以線性方式排列，以最小化拋光站20的寬度，如圖1所示。尤其，晶圓中繼裝置280是線性排列，使得當(dāng)載入/載出載杯停放在其個(gè)別的停放位置時(shí)，晶圓中繼裝置280的載入/載出載杯282是以線性方式定位，如圖1所示。晶圓中繼裝置280可以線性方式排列，使得兩個(gè)相鄰的載入/載出載杯282之間的距離是相同的，如圖1所示。當(dāng)載入/載出載杯282停放在其個(gè)別的停放位置時(shí)，會有部分的載入/載出載杯282位在其相鄰的拋光臺256上方，如圖1所示。
為了最小化拋光設(shè)備10的寬度，最好要定位晶圓清洗器220，使得其較長側(cè)220L會面對拋光站20的較側(cè)20L，如圖1所示。拋光站20的區(qū)域是大致由拋光站20的拋光臺256a、256b和256c所定義的區(qū)域。
晶圓中繼裝置280藉由樞軸旋轉(zhuǎn)移動裝置A、B、C、D、E和F，以下面的方式，分別在拋光單元250a-250c的晶圓載具262a-262c之間移動晶圓，如圖1所示。首先，第一晶圓中繼裝置280a的載入/載出載杯282a自第一晶圓輸送裝置150接收晶圓，然后藉由樞軸旋轉(zhuǎn)移動裝置A，將其轉(zhuǎn)移到到第一拋光單元250a的晶圓載具262a。其次，藉由樞軸旋轉(zhuǎn)移動裝置B和C，第二晶圓中繼裝置280b的載入/載出載杯282b將晶圓自第一拋光單元250a的晶圓載具262a轉(zhuǎn)移到第二拋光單元250b的晶圓載具262b。其次，第三晶圓中繼裝置280c的載入/載出載杯282c，藉由樞軸旋轉(zhuǎn)移動裝置D和E，將晶圓自第二拋光單元250b的晶圓載具262b轉(zhuǎn)移到第三拋光單元250c的晶圓載具262c。其次，第四晶圓中繼裝置280d的載入/載出載杯282d，藉由樞軸旋轉(zhuǎn)移動裝置F，將晶圓自第三拋光單元250c的晶圓載具262c轉(zhuǎn)移。然后，第二晶圓輸送中繼裝置210自第四晶圓中繼裝置280d的載入/載出載杯282d移出晶圓，且將晶圓轉(zhuǎn)移到晶圓清洗器220。
請參閱圖2所示，使用拋光單元250a和250b及晶圓中繼裝置280b當(dāng)作范例，進(jìn)一步說明拋光站20的拋光單元250和晶圓中繼裝置280。圖2是拋光站20的第二晶圓中繼裝置280b、第一拋光單元250a和第二拋光單元250b的透視圖。各拋光單元250都包括拋光臺256和晶圓載具組件260。拋光臺256可繞著樞軸旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)。拋光墊255是貼在拋光臺256上，用于半導(dǎo)體晶圓的化學(xué)和機(jī)械式的拋光制程。拋光墊255可使用一種或多種含有磨料粒子和/或化學(xué)溶液，如KOH，的研磨液拋光半導(dǎo)體晶圓。在拋光制程期間，各拋光單元250還可包括墊調(diào)整器258，以在拋光制程中調(diào)整拋光墊255的表面，為了有適當(dāng)?shù)膾伖?，可以再新拋光墊的表面。雖然此處所說明的晶圓拋光是在一個(gè)或許多個(gè)拋光墊表面上拋光，但是晶圓可以在任何拋光面上拋光，如拋光臺的拋光面。
各晶圓載具組件260都包括晶圓載具262，載具桿264和旋轉(zhuǎn)/垂直驅(qū)動機(jī)構(gòu)266。晶圓載具262是要設(shè)計(jì)以承載半導(dǎo)體晶圓，使得晶圓要被拋光的表面是面向拋光墊255。晶圓載具262通過載具桿264連接到旋轉(zhuǎn)/垂直驅(qū)動機(jī)構(gòu)266。旋轉(zhuǎn)/垂直驅(qū)動機(jī)構(gòu)266及其他晶圓載具組件260的旋轉(zhuǎn)/垂直驅(qū)動機(jī)構(gòu)266，是被安置在拋光站20的上容體結(jié)構(gòu)(未圖示)中。旋轉(zhuǎn)/垂直驅(qū)動機(jī)構(gòu)266通過連結(jié)的載具桿264控制晶圓載具262的旋轉(zhuǎn)和垂直移動。因此，旋轉(zhuǎn)/垂直驅(qū)動機(jī)構(gòu)266的建構(gòu)，是藉由旋轉(zhuǎn)連接的載具桿264旋轉(zhuǎn)晶圓載具262，及藉由垂直移動連接的載具桿264垂直移動晶圓載具262。示于圖2的晶圓載具262的位置是其在個(gè)別的拋光臺256上的晶圓載入/載出位置。為了要拋光半導(dǎo)體晶圓，晶圓載具262藉由個(gè)別的旋轉(zhuǎn)/垂直驅(qū)動機(jī)構(gòu)266自其晶圓載入/載出位置，向下移動到在個(gè)別的拋光墊255上的拋光位置，然后將由晶圓載具262固定的晶圓壓在個(gè)別的拋光墊255上。
各晶圓中繼裝置280都包括載入/載出載杯282、樞軸旋轉(zhuǎn)臂283、樞軸旋轉(zhuǎn)桿284和樞軸旋轉(zhuǎn)/垂直驅(qū)動機(jī)構(gòu)286。載入/載出載杯282藉由樞軸旋轉(zhuǎn)臂283連接到樞軸旋轉(zhuǎn)桿284。樞軸旋轉(zhuǎn)桿284連接到樞軸旋轉(zhuǎn)/垂直驅(qū)動機(jī)構(gòu)286。樞軸旋轉(zhuǎn)/垂直驅(qū)動機(jī)構(gòu)286通過各樞軸旋轉(zhuǎn)桿284和樞軸旋轉(zhuǎn)臂283，控制載入/載出載杯282的樞軸旋轉(zhuǎn)和垂直的移動。因此，樞軸旋轉(zhuǎn)/垂直驅(qū)動機(jī)構(gòu)286的建構(gòu)，是要通過連接的樞軸旋轉(zhuǎn)桿284，繞著在樞軸旋轉(zhuǎn)桿的樞軸旋轉(zhuǎn)軸，樞軸載入/載出載杯282，及通過連接的樞軸旋轉(zhuǎn)桿，垂直移動載入/載出載杯282。
示于圖2的晶圓中繼裝置280b的載入/載出載杯282b，是被定位在兩個(gè)拋光單元250a和250b之間的停放位置。晶圓中繼裝置280b的載入/載出載杯282b可以藉由個(gè)別的樞軸旋轉(zhuǎn)移動機(jī)構(gòu)B和C，樞軸旋轉(zhuǎn)到兩個(gè)晶圓載具262a和262b的晶圓載入/載出位置。圖2的透視排列的晶圓中繼裝置，圖示載入/載出載杯282b可以定位在個(gè)別的晶圓載具262a及262b下方的個(gè)別的晶圓載入/載出位置。
請參閱圖3(a)和圖3(b)所示，其使用一般的晶圓中繼裝置說明拋光站20的晶圓中繼裝置280，其中其可以是晶圓中繼裝置280b或晶圓中繼裝置280a，280c或280d。圖3(a)是晶圓中繼裝置280的俯視圖。圖3(b)是圖3(a)沿著線QQ的晶圓中繼裝置280的載入/載出載杯282橫截面圖。
如圖3(a)和圖3(b)所示，載入/載出載杯282包括杯座290、杯環(huán)295、升降器300、晶圓盤310、第一多口噴嘴340、第二多口嘴嘴350、泄流通道360、第一流體通道370和第二流體通道371。流體通道370和371可通過樞軸旋轉(zhuǎn)臂283和樞軸旋轉(zhuǎn)桿284連接到流體源(未圖示)。泄流通道360可通過樞軸旋轉(zhuǎn)臂283b和樞軸旋轉(zhuǎn)桿284b連接到泄流泵(未圖示)，此類似于其他流體通道370和371。
杯環(huán)295和晶圓盤310是安置在杯座290之上。晶圓盤310是包括位在中心的凹洞，其允許升降器300可以定位在杯座290的中心。升降器300是通過升降活塞302連接到升降器氣缸304，如圖3(b)所示。升降器300是一晶圓處理裝置，以將晶圓升到晶圓載具，或自晶圓載具下降。升降器300最好是由軟性材料制成，如橡膠，以避免傷害到晶圓表面。升降器300所具有的表面積小于要藉由升降器處理的晶圓的表面積。升降器氣缸304是連接到第一流體通道370，且藉由通過第一流體通道供應(yīng)的流體操作。氮?dú)馐强梢允褂玫牧黧w的其中之一范例。升降器300可以藉由使用供應(yīng)流體的壓力的升降器氣缸304上下移動。升降器300可以上升高過杯環(huán)295的上表面，以自晶圓輸送裝置150接收晶圓W，如圖3(b)所示。在升降器300接收到晶圓W之后，升降器可以向下移動到低于晶圓盤310，將晶圓W放置在晶圓盤310上。
第一多口噴嘴340是安置在杯座290的上方，而第二多口噴嘴350是安置在杯環(huán)295之上，如圖3(b)所示。第一和第二噴嘴340和350都是連接到第二流體通道372，因此，可以通過第二流體通道372的供應(yīng)噴出流體，如去離子(DI)水。使用過的流體，如使用過的DI水，是藉由泄流泵(未圖示)，通過泄流通道360泄流。
請參閱圖4(a)和圖4(b)所示，說明藉由載入/載出載杯282的其中之一執(zhí)行的晶圓輸送制程。圖4(a)和圖4(b)是載入/載出載杯282的順序橫截面圖。如上面參照圖3(b)的說明，在晶圓W定位在晶圓盤310之上后，載入/載出載杯282輸送到晶圓載具262定位的位置，如圖4(a)所示。晶圓載具262包括一保留環(huán)289，以在拋光制程中限制晶圓。其次，升降器300向上移動，然后使用通過真空通道285所供應(yīng)的真空，藉由晶圓載具262接收在升降器上的晶圓，如圖4(b)所示。在晶圓藉由晶圓載具262接收之后，升降器300向下移動。為了自晶圓載具262將晶圓載出在載入/載出載杯282上，移除通過真空通道285所提供的真空，其可以將晶圓W自晶圓載具262釋放在載入/載出載杯282的升降器300上。
藉由將DI水噴灑在晶圓載具262上，載入/載出載杯282可以清洗晶圓載具262。在圖1的拋光站20中，第一晶圓載具262a可以藉由第一和第二載入/載出載杯282a和282b清洗。第二晶圓載具262b可以藉由第二和第三載入/載出載杯282b和282c清洗。第三晶圓載具262c可以藉由第三和第四載入/載出載杯282c和282d清洗。
即使載入/載出載杯282的特定組態(tài)及其晶圓載入與載出的過程都已說明，但是可以將晶圓載入和載出晶圓載具262及清洗晶圓載具262的任何型式裝置，都可以用在晶圓中繼裝置280中。
請參閱圖5(a)到圖5(n)所示，其說明處理拋光站20中的晶圓的方法。圖5(a)到圖5(n)是拋光站20的順序透視圖，以圖示制程順序。
在圖5(a)中，載入/載出載杯282a，282b，282c和282d都定位在其個(gè)別的停放位置Xa，Xb，Xc和Xd。晶圓載具262a，262b和262c定位在個(gè)別的拋光臺256a，256b和256c上的個(gè)別的晶圓載入/載出位置。第一晶圓W1藉由第一晶圓輸送裝置150(未圖示)，被供應(yīng)到在停放位置Xa的第一載入/載出載杯282a。
在圖5(b)中，第一載入/載出載杯282a被樞軸旋轉(zhuǎn)到在第一拋光臺256a上的第一晶圓載具262a的晶圓載入/載出位置，然后將第一晶圓W1載入在第一晶圓載具262a上。
在圖5(c)中，第一載入/載出載杯282a樞軸旋轉(zhuǎn)回到停放位置Xa，然后藉由第一晶圓輸送裝置150(未圖示)將第二晶圓W2供應(yīng)到第一載入/載出載杯282a。第一晶圓載具262a使用在第一拋光臺256a上的拋光墊255a拋光第一晶圓W1。在完成第一晶圓W1的拋光制程之后，第一晶圓載具262a自拋光臺256a上升到其晶圓載入/載出位置。
在圖5(d)中，第二載入/載出載杯282b被樞軸旋轉(zhuǎn)到第一晶圓載具262a的晶圓載入/載出位置，然后自第一晶圓載具262a接收第一晶圓W1。
在圖5(e)中，第二載入/載出載杯282b被樞軸旋轉(zhuǎn)到第一晶圓載具262b的晶圓載入/載出位置，然后將第一晶圓W1載入在第二晶圓載具262a上。在第一晶圓載具262a空了之后，第一載入/載出載杯282a被樞軸旋轉(zhuǎn)到第一晶圓載具262a的晶圓載入/載出位置，然后將第二晶圓W2載入在第一晶圓載具262a上。
在圖5(f)中，第一和第二載入/載出載杯282a和282b樞軸旋轉(zhuǎn)回到個(gè)別的停放位置Xa和Xb。第一和第二晶圓載具262a和262b，分別使用在第一和第二拋光臺256a和256b上的拋光墊255a和255b，拋光第二和第一晶圓W2和W1。在完成第一和第二晶圓W1和W2的拋光制程之后，第一和第二晶圓載具262a和262b自個(gè)別的拋光臺256a和256b上升到個(gè)別的晶圓載入/載出位置。
在圖5(g)中，第二和第三載入/載出載杯282b和282c被分別樞軸旋轉(zhuǎn)到第一和第二晶圓載具262a和262b的晶圓載入/載出位置，然后分別自第一和第二晶圓載具262a和262b接收第二和第一晶圓W2和W1。
在圖5(h)中，第二和第三載入/載出載杯282b和282c被分別樞軸旋轉(zhuǎn)到第二和第三晶圓載具262b和262c的晶圓載入/載出位置，然后分別將第二和第一晶圓W2和W1載入到第二和第三晶圓載具262b和262c上。
在圖5(i)中，第二和第三載入/載出載杯282b和282c樞軸旋轉(zhuǎn)回到個(gè)別的停放位置Xb和Xc。第二和第三晶圓載具262b和262c，分別使用在第二和第三拋光臺256b和256c上的拋光墊255b和255c，拋光第二和第一晶圓W2和W1。在完成第一和第二晶圓W1和W2的拋光制程之后，第二和第三晶圓載具262b和262c自個(gè)別的拋光臺256b和256c上升到個(gè)別的晶圓載入/載出位置。
在圖5(j)中，第三和第四載入/載出載杯282c和282d被分別樞軸旋轉(zhuǎn)到第二和第三晶圓載具262b和262c的晶圓載入/載出位置，然后分別自第二和第三晶圓載具262b和262c接收第二和第一晶圓W2和W1。
在圖5(k)中，第四載入/載出載杯282d樞軸旋轉(zhuǎn)回到其停放位置Xd。第三載入/載出載杯282c被樞軸旋轉(zhuǎn)到第三晶圓載具262c的晶圓載入/載出位置，然后將第二晶圓W2載入到第三晶圓載具262c上。
在圖5(1)中，第三晶圓載具262c樞軸旋轉(zhuǎn)回到其停放位置Xc，然后藉由使用在第三拋光臺256c上的拋光墊255c，第三晶圓載具262c拋光第二晶圓W2。在完成第二晶圓W2的拋光制程之后，第三晶圓載具262c自拋光臺256c上升到其晶圓載入/載出位置。藉由第二晶圓輸送裝置210(未圖示)，第一晶圓W1自第四載入/載出載杯282d移走。
在圖5(m)中，第四載入/載出載杯282d被樞軸旋轉(zhuǎn)到第三晶圓載具262c的晶圓載入/載出位置，然后自第三晶圓載具262c接收第二晶圓W2。
在圖5(n)中，第四載入/載出載杯282d樞軸旋轉(zhuǎn)回到其停放位置Xd，然后藉由第二晶圓輸送裝置210(未圖示)，自第四載入/載出載杯282d移走第二晶圓W2。
即使已經(jīng)使用兩片晶圓W1和W2說明拋光站20中輸送和拋光半導(dǎo)體晶圓的順序例，但是在拋光站20中，可以和這兩片晶圓W1和W2輸送和拋光相同的方式，連續(xù)輪流輸送和拋光許多晶圓。
拋光站20的載入/載出載杯282的樞軸旋轉(zhuǎn)移動機(jī)構(gòu)可以個(gè)別控制。但是，載入/載出載杯282的樞軸旋轉(zhuǎn)移動最好是同時(shí)發(fā)生，使得載入/載出載杯282不能同時(shí)樞軸旋轉(zhuǎn)到相同的晶圓載入/載出位置。如參照圖5(g)和圖5(h)的說明，因?yàn)闉榱嗽诰A載具262的晶圓一自晶圓載具262移走或載出，晶圓載具262要立即輸入下一片晶圓，藉由使同時(shí)移動可能發(fā)生，可以增加拋光站20的產(chǎn)出，所以載入/載出載杯282的同時(shí)載入移動和同時(shí)載出移動也可以是較佳的選擇。
在拋光站20中，不同的拋光參數(shù)，如拋光壓力，研磨液和拋光墊，都可以用在不同的拋光單元250a，250b和250c。因?yàn)榫A是藉由所有的晶圓載具262和在拋光站20的所有拋光墊255上依序處理，所以在拋光站20中拋光的晶圓具有很均勻的拋光結(jié)果，而不會有墊到墊變異和晶圓載具到晶圓載具變異。
雖然已在圖1中所說明的拋光站20包括三個(gè)拋光單元250和四個(gè)晶圓中繼裝置280，但是拋光站20可以包括其他數(shù)量的拋光單元250和晶圓中繼裝置280。一般而言，拋光站20包括N個(gè)拋光單元250和N+1個(gè)晶圓中繼裝置280，其中N為大于或等于2的整數(shù)。第一晶圓中繼裝置280自第一晶圓輸送裝置150接收晶圓，然后將其轉(zhuǎn)移到第一拋光單元250的晶圓載具262。上一個(gè)晶圓中繼裝置280自上一個(gè)拋光單元250的晶圓載具262將晶圓轉(zhuǎn)移到第二晶圓輸送裝置210。N+1個(gè)晶圓中繼裝置280的每一個(gè)其他的晶圓中繼裝置280是位在兩個(gè)不同的相鄰拋光單元250之間，而且自其中之一相鄰拋光單元的晶圓載具262，將晶圓輸送到另一個(gè)相鄰拋光單元250的晶圓載具262。
回到圖1所示，說明拋光設(shè)備10的晶圓清洗器220。晶圓清洗器220包括第一清洗站222、第二清洗站224、吹干站226、第一晶圓輸送裝置232、及第二晶圓輸送裝置234。第一晶圓輸送裝置232將晶圓自第一清洗站222轉(zhuǎn)移到第二清洗站224。第二晶圓輸送裝置234將晶圓自第二清洗站224轉(zhuǎn)移到吹干站226。已吹干的晶圓藉由第三晶圓輸送裝置230自吹干站226移走，然后轉(zhuǎn)移到晶圓輸出站104。第一和第二清洗站222和224使用DI水和/或化學(xué)溶液，如NH4OH、稀釋的HF和有機(jī)化學(xué)溶液，自晶圓表面移除研磨液顆粒。在完成清洗制程之后，將晶圓浸泡在DI水中，然后在吹干站226吹干。晶圓清洗器220可包括多于二個(gè)的清洗站或可只包括一個(gè)清洗站。在另一實(shí)施例中，晶圓清洗器220在第一清洗站222之前，還可包括緩沖站(未圖示)和額外的晶圓轉(zhuǎn)移裝置(未圖示)。緩沖站容納許多要在第一清洗站222清洗的晶圓，而額外的晶圓轉(zhuǎn)移裝置將晶圓自緩沖站轉(zhuǎn)移到第一清洗站222。
請參閱他6到圖8所示，說明根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的拋光站25a，25b和25c。圖6到圖8分別是這些拋光站25a，25b和25c的俯視圖。這些拋光站25a，25b和25c的任何一個(gè)都可以用在圖1的拋光設(shè)備10中，取代拋光站20。在圖6到圖8中，晶圓載具262沒有圖示個(gè)別的載具桿264和個(gè)別的旋轉(zhuǎn)/垂直驅(qū)動機(jī)構(gòu)266。但是，如上述參照圖1和圖2的說明，拋光站25a，25b和25c的各晶圓載具262都是晶圓載具組件260的一部分。
圖6的拋光站25a可以藉由自拋光站20移走第一晶圓中繼裝置280a，由圖1的拋光站20推演而得。因此，晶圓載具262a可以被定義為拋光站25a中晶圓載具的最終晶圓載具。在此拋光站25a中，第一晶圓輸送裝置150將晶圓直接載入在第一拋光單元250a的晶圓載具262a上。晶圓是通過最后一個(gè)晶圓輸送裝置280d，以和上述在拋光站20中處理的晶圓相同的方式，在來自第一拋光單元250a的晶圓載具262a的拋光站25a中處理。在拋光站25a中，第一晶圓載具262a可以藉由可被樞軸旋轉(zhuǎn)到第一晶圓載具262a的載入/載出載杯282b清洗。
圖7的拋光站25b可以藉由自拋光站20移走第四晶圓中繼裝置280d，由圖1的拋光站20推演而得。因此，晶圓載具262c可以被定義為拋光站25b中晶圓載具的最終晶圓載具。在此拋光站25b中，第二晶圓輸送裝置210將晶圓直接自第三拋光單元250c的晶圓載具262c移走。晶圓是通過第三拋光單元250c的晶圓載具262c，以和上述在拋光站20中處理的晶圓相同的方式，在來自第一晶圓中繼裝置280a的拋光站25b中處理。在拋光站25b中，第三晶圓載具262c可以藉由可被樞軸旋轉(zhuǎn)到第三晶圓載具262c的載入/載出載杯282c清洗。
圖8的拋光站25c可以藉由自拋光站20移走第一和第四晶圓中繼裝置280a和280d，由圖1的拋光站20推演而得。因此，晶圓載具262a和262c可以被定義為拋光站25b中晶圓載具的最終晶圓載具。在此拋光站25c中，第一晶圓輸送裝置150將晶圓直接載入在第一拋光單元250a的晶圓載具262a上，及第二晶圓輸送裝置210將晶圓直接自第三拋光單元250c的晶圓載具262c移走。晶圓是通過第三拋光單元250c的晶圓載具262c，以和上述在拋光站20中處理的晶圓相同的方式，在來自第一拋光單元250a的晶圓載具262a的拋光站25c中處理。在拋光站25c中，第一晶圓載具262a可以藉由可被樞軸旋轉(zhuǎn)到第一晶圓載具262a的載入/載出載杯282a清洗。此外，第四晶圓載具262d可以藉由可被樞軸旋轉(zhuǎn)到第三晶圓載具262c的載入/載出載杯282c清洗。
一般而言，拋光站25a和25b具有N個(gè)拋光單元250和N個(gè)晶圓中繼裝置280，其中N為大于或等于2的整數(shù)。拋光站25c具有N個(gè)拋光單元250和N-1個(gè)晶圓中繼裝置280。在拋光站25a和25c中，第一晶圓載具262直接自第一晶圓輸送裝置150接收晶圓。在拋光站25b和25c中，最后一個(gè)晶圓載具262直接將晶圓載出到第二晶圓輸送裝置210。
請參閱圖9和圖10所示，說明根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的拋光站30。圖9為拋光站30的俯視圖。圖10為圖9的U方向看入的拋光站30的側(cè)視圖。拋光站30可以用在圖1的拋光設(shè)備10中，取代拋光站20。
拋光站30包括第一拋光單元250a、第二拋光單元250b、第三拋光單元250c、線性往復(fù)移動機(jī)構(gòu)410和一組4個(gè)的晶圓中繼裝置281a，281b，281c和281d。拋光站30的組態(tài)，除了晶圓中繼裝置281a，281b，281c和281d是連接到線性往復(fù)移動機(jī)構(gòu)410，使得晶圓中繼裝置可以在圖9和圖10的箭頭M方向，以線性往復(fù)移動方式移動之外，其余都和圖1的拋光站20類似。
線性往復(fù)移動機(jī)構(gòu)410包括往復(fù)移動桿412、線性軌道414和往復(fù)移動驅(qū)動機(jī)構(gòu)416。晶圓中繼裝置281a，281b，281c和281d是被安置在往復(fù)移動桿412上。往復(fù)移動桿412是連接到線性軌道414。往復(fù)移動驅(qū)動機(jī)構(gòu)416沿著線性軌道414，藉由往復(fù)移動往復(fù)移動桿412，控制晶圓中繼裝置281的線性往復(fù)移動M。
拋光單元250a，250b，和250c定位，使得其晶圓載具262a，262b，和262c在線性方式下具有相等的間距。晶圓中繼裝置281a，281b，281c和281d被安置在往復(fù)移動桿412上，使得其載入/載出載杯282a，282b，282c，和282d在線性方式下具有相等的間距，而且兩個(gè)相鄰的載入/載出載杯282之間的間距等于兩個(gè)相鄰的晶圓載具262之間的間距。
除了在拋光站30中晶圓中繼裝置281的載入/載出載杯282不需要樞軸旋轉(zhuǎn)之外，拋光站30的晶圓中繼裝置281和圖1的晶圓中繼裝置280類似。因此，拋光站30的晶圓中繼裝置281的樞軸旋轉(zhuǎn)桿284連接到個(gè)別的垂直驅(qū)動機(jī)構(gòu)287，取代拋光站20的樞軸旋轉(zhuǎn)/垂直驅(qū)動機(jī)構(gòu)286。
請參閱圖9所示，說明一種在拋光站30處理晶圓的方法。首先，如圖9所示，晶圓中繼裝置281a，281b，281c和281d都定位在其個(gè)別的停放位置Xa，Xb，Xc和Xd。第一晶圓中繼裝置281a自第一晶圓輸送裝置150接收晶圓，然后藉由線性移動M，將第一片晶圓輸送到第一晶圓載具262a。其次，第一晶圓中繼裝置281a線性移動回到其停放位置Xa，然后第一晶圓載具262a使用在第一拋光站256a上的拋光墊255a拋光晶圓。
在完成拋光制程之后，第一晶圓載具262a自拋光臺256a上升，然后第二晶圓中繼裝置281b自第一晶圓載具262a藉由線性移動M，將第一片晶圓轉(zhuǎn)移到第二晶圓載具262b。其次，第二晶圓中繼裝置281b線性移動回到其停放位置Xb，然后第二晶圓載具262b使用第二拋光臺256b上的拋光墊255b拋光晶圓。
在完成拋光制程之后，第二晶圓載具262b自拋光臺256b上升，然后第三晶圓中繼裝置281c自第二晶圓載具262b藉由線性移動M，將第一片晶圓轉(zhuǎn)移到第三晶圓載具262c。其次，第三晶圓中繼裝置281c線性移動回到其停放位置Xc，然后第三晶圓載具262c使用第三拋光臺256c上的拋光墊255c拋光晶圓。
在完成拋光制程之后，第三晶圓載具262c自拋光臺256c上升，然后第四晶圓中繼裝置281d自第三晶圓載具262c藉由線性移動M，將第一片晶圓轉(zhuǎn)移到第二晶圓輸送裝置210。
一般而言，拋光站30具有N個(gè)拋光單元250和N+1個(gè)晶圓中繼裝置281，其中N為大于或等于2的整數(shù)。第一晶圓中繼裝置281自第一晶圓輸送裝置150接收晶圓，然后將晶圓轉(zhuǎn)移到第一晶圓載具262。最后一個(gè)晶圓中繼裝置281自最后一個(gè)晶圓載具262接收晶圓，然后將晶圓轉(zhuǎn)移到第二晶圓輸送裝置210。每一個(gè)其他的N+1個(gè)晶圓中繼裝置281在個(gè)別的兩個(gè)相鄰晶圓載具262之間轉(zhuǎn)移晶圓。
請參閱圖11到圖13所示，說明根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的拋光站35a，35b和35c。圖11到圖13是這些拋光站35a，35b和35c的俯視圖。這些拋光站35a，35b和35c的任何一個(gè)都可以用在圖1的拋光設(shè)備10中，取代拋光站20。
圖11的拋光站35a可以藉由自拋光站30移走第一晶圓中繼裝置281a，由圖9的拋光站30推演而得。在此拋光站35a中，第一晶圓輸送裝置150將晶圓直接載入在第一拋光單元250a的晶圓載具262a上。晶圓是通過最后一個(gè)晶圓中繼裝置280d，以和上述參照圖9的拋光站30中處理的晶圓相同的方式，在來自第一拋光單元250a的晶圓載具262a的拋光站35a中處理。在拋光站35a中，第一晶圓載具262a可以藉由可被移動到第一晶圓載具262a的載入/載出載杯282b清洗。
圖12的拋光站35b可以藉由自拋光站30移走第四晶圓中繼裝置281d，由圖9的拋光站30推演而得。在此拋光站35b中，第二晶圓輸送裝置210將晶圓直接自第三拋光單元250c的晶圓載具262c移走。晶圓是通過第三拋光單元250c的晶圓載具262c，以和上述參照圖9的拋光站30中處理的晶圓相同的方式，在來自第一晶圓中繼裝置281a的拋光站35b中處理。在拋光站35b中，第三晶圓載具262c可以藉由可被移動到第三晶圓載具262c的載入/載出載杯282c清洗。
圖13的拋光站35c藉由自拋光站30移走第一和第四晶圓中繼裝置281a和281d，由圖9的拋光站30推演而得。在此拋光站35c中，第一晶圓輸送裝置150將晶圓直接載入第一拋光單元250a的晶圓載具262a上，及第二晶圓輸送裝置210將晶圓直接自第三拋光單元250c的晶圓載具262c移走。晶圓是通過第三拋光單元250c的晶圓載具262c，以和上述參照圖9的拋光站30中處理的晶圓相同的方式，在來自第一拋光單元250a的晶圓載具262a的拋光站35c中處理。在拋光站35c中，第一晶圓載具262a可以藉由可被移動到第一晶圓載具262a的載入/載出載杯282b清洗。此外，第三晶圓載具262c可以藉由可被移動到第三晶圓載具262c的載入/載出載杯282c清洗。
一般而言，拋光站35a和35b可以具有N個(gè)拋光單元250和N個(gè)晶圓中繼裝置281，其中N為大于或等于2的整數(shù)。拋光站35c可以具有N個(gè)拋光單元250和N-1個(gè)晶圓中繼裝置281。在拋光站35a和35c中，第一晶圓載具262直接自第一晶圓輸送裝置150接收晶圓。在拋光站35b和35c中，最后一個(gè)晶圓載具262直到將晶圓載出到第二晶圓輸送裝置210。
請參閱圖14所示，說明根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的拋光站40。圖14為拋光站40的俯視圖。從圖14的U方向看入的拋光站40的側(cè)視圖類似于圖10所示的拋光站30的側(cè)視圖。拋光站40可以用在圖1的拋光設(shè)備10中，取代拋光站20。
拋光站40包括第一拋光單元251a、第二拋光單元251b、第三拋光單元251c、第一和第二線性往復(fù)移動機(jī)構(gòu)410和410′，及第一組和第二組4個(gè)晶圓中繼裝置281a-281d和281a′-281d′。
除了拋光站40還包括第二組4個(gè)晶圓中繼裝置281a′-281d′和第二線性往復(fù)移動機(jī)構(gòu)410′之外，拋光站40的組態(tài)類似于圖9所示的拋光站30。另一個(gè)差異點(diǎn)是拋光站40包括拋光單元251a，251b和251c，取代拋光單元250a，250b和250c。各拋光單元251都包括一拋光臺256及第一和第二晶圓載具262和262′。各拋光單元251還可包括墊調(diào)節(jié)器258。
拋光單元251a，251b和251c被定位在拋光站40，使得第一晶圓載具262a，262b和262c在線性方式下具有相等的間距，第二晶圓載具262a′，262b′和262c′在線性方式下也具有相等的間距，及第一及第二晶圓載具262a-262c和262a′-262c′是平行排列。
如參照圖9的拋光站30的說明，第二晶圓中繼裝置281a′，281b′，281c′和281d′是連接到第二線性往復(fù)移動機(jī)構(gòu)410′，此方式和第一晶圓中繼裝置281a，218b，281c和281d連接到第一線性往復(fù)移動機(jī)構(gòu)410的方式相同。第二線性往復(fù)移動機(jī)構(gòu)410′控制第二晶圓中繼裝置281a′-281d′的往復(fù)移動M′，如上參照圖9的拋光站30的說明，此方式和第一線性往復(fù)移動機(jī)構(gòu)410控制第一晶圓中繼裝置281a-281d的往復(fù)移動M的方式相同。
如上所述，拋光單元251a-251c的第二晶圓載具262a′-262c′、第二組晶圓中繼裝置281a′-281d′、和拋光臺256a-256c，是以和拋光站30的晶圓載具262a-262c，第一組晶圓中繼裝置281a-281d，和拋光臺256a-256c的轉(zhuǎn)移和拋光晶圓方式相同的方式轉(zhuǎn)移和拋光晶圓。
下面參照圖14說明一種在拋光站40處理晶圓的方法。藉由第一晶圓輸送裝置150，將第1、第3、...和第(2N-1)′片晶圓供應(yīng)到第一組晶圓中繼裝置281a-281d的第一晶圓中繼裝置281a，然后通過第四晶圓中繼裝置281d，經(jīng)由拋光單元251a-251c的第一晶圓載具262a-262c，自第一晶圓中繼裝置281a轉(zhuǎn)移。在轉(zhuǎn)移期間，藉由拋光單元251a-251c的第一晶圓載具262a-262c，依序?qū)伖馀_256a-256c上的晶圓拋光。第2、第4、...和第2N片晶圓藉由第一晶圓輸送裝置150供應(yīng)到第二組晶圓中繼裝置281a′-281d′的第一晶圓中繼裝置281a′，然后通過第四晶圓中繼裝置281d′，經(jīng)由拋光單元251a-251c的第二晶圓載具262a′-262c′，自第一晶圓中繼裝置281a′轉(zhuǎn)移。在轉(zhuǎn)移期間，藉由拋光單元251a-251c的第二晶圓載具262a′-262c′，依序?qū)伖馀_256a-256c上的晶圓拋光。因此，兩片晶圓可以同時(shí)在每一拋光臺256a-256c上拋光。
一般而言，拋光站40可以具有N個(gè)拋光單元251和兩組N+1個(gè)晶圓中繼裝置281，其中N為大于或等于2的整數(shù)。第一晶圓輸送裝置150將晶圓轉(zhuǎn)移到前2個(gè)晶圓中繼裝置281，而第二晶圓輸送裝置210將晶圓自最后2個(gè)晶圓中繼裝置281移走。
拋光站40可以藉由自圖14的拋光站40移除第一晶圓中繼裝置281a和281a′修正，使得第一晶圓輸送裝置150可以直接將晶圓轉(zhuǎn)移到第一拋光單元251a的晶圓載具262a和262a′。晶圓是通過最后一個(gè)晶圓中繼裝置281d和281d′，以和上述參照圖14的拋光站40中處理的晶圓相同的方式，在來自第一拋光單元251a的晶圓載具262a和262a′的此修正拋光站中處理。在此修正拋光站中，第一拋光單元251a的晶圓載具262a和262a′可以分別藉由可移動到晶圓載具262a和262a′的載入/載出載杯282b和282b′清洗。
一般而言，修正拋光站具有N個(gè)拋光單元251和2組N個(gè)晶圓中繼裝置281，其中N為大于或等于2的整數(shù)。第一晶圓輸送裝置150是將晶圓轉(zhuǎn)移到第一拋光單元251的晶圓載具262，而第二晶圓輸送裝置210是將晶圓自最后兩個(gè)晶圓中繼裝置281移走。
拋光站40可以藉由自圖14的拋光站40移除最后一個(gè)晶圓中繼裝置281d和281d′修正，使得第二晶圓輸送裝置210可以直接將晶圓自最后一個(gè)拋光單元251c的晶圓載具262c和262c′轉(zhuǎn)移。晶圓是通過第三拋光單元251c的晶圓載具262c和262c′，以和上述參照圖14的拋光站40中處理的晶圓相同的方式，在來自第一晶圓中繼裝置281a和281a′的此修正拋光站中處理。在此修正拋光站中，第三拋光單元251c的晶圓載具262c和262c′可以分別藉由可移動到晶圓載具262c和262c′的載入/載出載杯282c和282c′清洗。
一般而言，修正拋光站具有N個(gè)拋光單元251和2組N個(gè)晶圓中繼裝置281，其中N為大于或等于2的整數(shù)。第一晶圓輸送裝置150是將晶圓轉(zhuǎn)移到第一晶圓中繼裝置281，而第二晶圓輸送裝置210是將晶圓自最后的晶圓中繼裝置281的晶圓載具262移走。
拋光站40還可以修正，使得第一和第二晶圓輸送裝置150和210，可以藉由自圖14的拋光站40移走第一晶圓中繼裝置281a和281a′和最后的晶圓中繼裝置281d和281d′，將晶圓分別直接轉(zhuǎn)移到第一拋光單元251a的晶圓載具262和自最后的拋光單元251c的晶圓載具262直接轉(zhuǎn)移。晶圓是以和上述參照圖14的拋光站40中處理的晶圓相同的方式，在自第一拋光單元251a的晶圓載具262a和262a′到第三拋光單元251c的晶圓載具262c和262c′的此修正拋光站中處理。在此修正拋光站40中，第一拋光單元251a的晶圓載具262a和262a′可以分別藉由可移動到晶圓載具262a和262a′的載入/載出載杯282b和282b′清洗。此外，第三拋光單元251c的晶圓載具262c和262c′可以分別藉由可移動到晶圓載具262c和262c′的載入/載出載杯282c和282c′清洗。
一般而言，修正拋光站具有N個(gè)拋光單元251和N-1個(gè)晶圓中繼裝置281，其中N為大于或等于2的整數(shù)。第一晶圓輸送裝置150是將晶圓轉(zhuǎn)移到第一拋光單元251a的晶圓載具262，而第二晶圓輸送裝置210是將晶圓自最后的拋光單元251的晶圓載具262移走。
請參閱圖15所示，說明根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的拋光站45。圖15為拋光站45的俯視圖。從圖15的U方向看入的拋光站45的側(cè)視圖類似于圖10所示的拋光站30的側(cè)視圖。拋光站45可以用在圖1的拋光設(shè)備10中，取代拋光站20。
拋光站45可以藉由自拋光站40移走第二線性往復(fù)移動機(jī)構(gòu)410′和將載入/載出載杯282a′，282b′，282c′和282d′分別連接到載入/載出載杯282a，282b，282c和282d，形成雙晶圓中繼裝置680a-680d，推演而得。拋光站45的每一個(gè)雙晶圓中繼裝置680都包括第一和第二載入/載出載杯282和282′；機(jī)械臂283、往復(fù)移動桿284和垂直驅(qū)動機(jī)構(gòu)287。第一和第二載入/載出載杯282和282′是連接到已連接到往復(fù)移動桿284的機(jī)械臂283。往復(fù)移動桿284是連接到垂直驅(qū)動機(jī)構(gòu)287。4個(gè)雙晶圓中繼裝置680a-680d的垂直驅(qū)動機(jī)構(gòu)287a-287d都連接到線性往復(fù)移動機(jī)構(gòu)410。載入/載出載杯282a和282a′、282b和282b′、282c和282c′、及282d和282d′的垂直驅(qū)動是由個(gè)別的垂直驅(qū)動機(jī)構(gòu)287a，287b，287c和287d控制。示于圖15的箭頭M是4個(gè)雙晶圓中繼裝置680a-680d的線性往復(fù)移動，其是由線性往復(fù)移動機(jī)構(gòu)410控制。
下面參照圖15說明一種在拋光站45中處理晶圓的方法。首先，第一雙晶圓中繼裝置680a自第一晶圓輸送裝置150接收晶圓，然后藉由線性移動M將其轉(zhuǎn)移到第一拋光單元251a的晶圓載具262a和262a′。在第一雙晶圓中繼裝置680a回到其位在第一晶圓輸送裝置150和第一拋光單元251a之間的停放位置后，晶圓載具262a和262a′使用拋光臺256a上的拋光墊255a拋光晶圓。
在完成拋光制程之后，自拋光臺256a升起晶圓載具262a和262a′，然后第二雙晶圓中繼裝置680b藉由線性移動M，將晶圓自晶圓載具262a和262a′轉(zhuǎn)移到第二拋光單元251b的晶圓載具262b和262b′。其次，移動第二雙晶圓中繼裝置680b回到其位在第一和第二拋光單元251a和251b之間的停放位置。然后，晶圓載具262b和262b′使用第二拋光臺256b上的拋光墊255b拋光晶圓。
在完成拋光制程之后，自拋光臺256b升起晶圓載具262b和262b′，然后第三雙晶圓中繼裝置680c藉由線性移動M，將晶圓自晶圓載具262b和262b′轉(zhuǎn)移到晶圓載具262c和262c′。其次，移動第三雙晶圓中繼裝置680c回到其位在第二和第三拋光單元251b和251c之間的停放位置。然后，晶圓載具262c和262c′使用第三拋光臺256c上的拋光墊255c拋光晶圓。
在完成拋光制程之后，自拋光臺256c升起晶圓載具262c和262c′，然后第四雙晶圓中繼裝置680d藉由線性移動M，將晶圓自晶圓載具262c和262c′轉(zhuǎn)移到第二晶圓輸送裝置210。
一般而言，拋光站45可以具有N個(gè)拋光單元251和N+1個(gè)雙晶圓中繼裝置680，其中N為大于或等于2的整數(shù)。第一晶圓輸送裝置150將晶圓轉(zhuǎn)移到第一雙晶圓中繼裝置680，而第二晶圓輸送裝置210將晶圓自最后的晶圓中繼裝置680移走。
拋光站45可以藉由自拋光站45移除第一雙晶圓中繼裝置680a修正，使得第一晶圓輸送裝置150可以直接將晶圓轉(zhuǎn)移到第一拋光單元251a的晶圓載具262a和262a′。晶圓是通過最后一個(gè)雙晶圓中繼裝置680d，以和上述參照圖15的拋光站45中處理的晶圓相同的方式，在來自第一拋光單元251a的晶圓載具262a和262a′的此修正拋光站中處理。在此修正拋光站中，第一拋光單元251a的晶圓載具262a和262a′可以藉由可移動到晶圓載具262a和262a′的雙晶圓中繼裝置680b清洗。
一般而言，此修正拋光站具有N個(gè)拋光單元251和N個(gè)雙晶圓中繼裝置680，其中N為大于或等于2的整數(shù)。第一晶圓輸送裝置150是將晶圓轉(zhuǎn)移到第一拋光單元251的晶圓載具262，而第二晶圓輸送裝置210是將晶圓自最后的雙晶圓中繼裝置680移走。
拋光站45也可以藉由自拋光站45移除最后一個(gè)雙晶圓中繼裝置680d修正，使得第二晶圓輸送裝置210可以直接將晶圓自最后一個(gè)拋光單元251c的晶圓載具262c和262c′轉(zhuǎn)移。晶圓是以和上述參照圖15的拋光站45中處理的晶圓相同的方式，在此修正拋光站的第一雙晶圓中繼裝置680a到第三拋光單元251c中的晶圓載具262c和262c′中處理。在此修正拋光站中，第三拋光單元251c的晶圓載具262c和262c′可以藉由可移動到晶圓載具262c和262c′的雙晶圓中繼裝置680c清洗。
一般而言，此修正拋光站具有N個(gè)拋光單元251和N個(gè)雙晶圓中繼裝置680，其中N為大于或等于2的整數(shù)。第一晶圓輸送裝置150是將晶圓轉(zhuǎn)移到第一雙晶圓中繼裝置680，而第二晶圓輸送裝置210是將晶圓自最后一個(gè)拋光單元251的晶圓載具262移走。
拋光站45還可以修正，藉由自拋光站45移走第一和最后一個(gè)雙晶圓中繼裝置680a和680c，使得第一和第二晶圓輸送裝置150和210可以分別將晶圓直接轉(zhuǎn)移到第一拋光單元251的晶圓載具262，和自最后一個(gè)拋光單元251的晶圓載具262直接轉(zhuǎn)移。晶圓是以和上述參照圖15的拋光站45中處理的晶圓相同的方式，在此修正拋光站的第一拋光單元251a的晶圓載具262a和262a′到第三拋光單元251c的晶圓載具262c和262c′中處理。在此修正拋光站中，第一拋光單元251a的晶圓載具262a和262a′可以藉由可移動到晶圓載具262a和262a′的雙晶圓中繼裝置680b清洗。此外，第三拋光單元251c的晶圓載具262c和262c′可以藉由可移動到晶圓載具262c和262c′的雙晶圓中繼裝置680c清洗。
一般而言，此修正拋光站具有N個(gè)拋光單元251和N-1個(gè)雙晶圓中繼裝置680，其中N為大于或等于2的整數(shù)。第一晶圓輸送裝置150是將晶圓轉(zhuǎn)移到第一拋光單元251的晶圓載具262，而第二晶圓輸送裝置210是將晶圓自最后一個(gè)拋光單元251的晶圓載具262移走。
下面請參閱圖16所示，說明根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的拋光站50。圖16為拋光站50的俯視圖。拋光站50可以用在圖1的拋光設(shè)備10中，取代拋光站20。
拋光站50可以藉由將拋光站30的第一晶圓中繼裝置281a連接到第一線性往復(fù)移動機(jī)構(gòu)410a，將拋光站30的第二和第三晶圓中繼裝置281b和281c連接到第二線性往復(fù)移動機(jī)構(gòu)410b，及將拋光站30的第四晶圓中繼裝置281d連接到第三線性往復(fù)移動機(jī)構(gòu)410c，自圖9的載入/載出載杯30推演而得。
第一線性往復(fù)移動機(jī)構(gòu)410a控制第一晶圓中繼裝置281a的往復(fù)移動，如圖16的箭頭Ma所示。第二線性往復(fù)移動機(jī)構(gòu)410b控制第二和第三晶圓中繼裝置281b和281c的往復(fù)移動，如圖16的箭頭Mb所示。第三線性往復(fù)移動機(jī)構(gòu)410c控制第四晶圓中繼裝置281d的往復(fù)移動，如圖16的箭頭Mc。
除了拋光站50中的第一晶圓中繼裝置281a、第二和第三晶圓中繼裝置281b和281c、及第四晶圓中繼裝置281d的線性往復(fù)移動是個(gè)別控制之外，在拋光站50中中處理晶圓的方法和圖9的拋光站30處理晶圓的方法類似。
一般而言，拋光站50可以具有N個(gè)拋光單元250和N+1個(gè)晶圓中繼裝置281，其中N為大于或等于2的整數(shù)。第一晶圓輸送裝置150將晶圓轉(zhuǎn)移到第一晶圓中繼裝置281，而第二晶圓輸送裝置210將晶圓自最后一個(gè)晶圓中繼裝置281移走。
拋光站50可以藉由移除第一晶圓中繼裝置281a和第一線性往復(fù)移動機(jī)構(gòu)410a修正，使得第一晶圓輸送裝置150可以直接將晶圓轉(zhuǎn)移到第一拋光單元250a的晶圓載具262a。晶圓是以和上述參照圖16的拋光站50中處理的晶圓相同的方式，在此修正拋光站的第一拋光單元250a的晶圓載具262a到最后一個(gè)晶圓中繼裝置281d中處理。在此修正拋光站中，第一拋光單元250a的晶圓載具262a可以藉由可移動到晶圓載具262a的晶圓中繼裝置281b清洗。
一般而言，拋光站50可以被修正，以具有N個(gè)拋光單元250和N個(gè)晶圓中繼裝置281，其中N為大于或等于2的整數(shù)，使得第一晶圓輸送裝置150是將晶圓轉(zhuǎn)移到第一拋光單元250的晶圓載具，而第二晶圓輸送裝置210是將晶圓自最后一個(gè)晶圓中繼裝置281移走。
拋光站50也可以藉由移除最后一個(gè)晶圓中繼裝置281c和第三線性往復(fù)移動機(jī)構(gòu)410c修正，使得第二晶圓輸送裝置210可以直接自最后一個(gè)拋光單元250c的晶圓載具262c轉(zhuǎn)移晶圓。晶圓是以和上述參照圖16的拋光站50中處理的晶圓相同的方式，在此修正拋光站的第一晶圓中繼裝置281a到第三拋光單元250c的晶圓載具262c中處理。在此修正拋光站中第三拋光單元250c的晶圓載具262c可以藉由可移動到晶圓載具262c的晶圓中繼裝置281c清洗。
一般而言，拋光站50可以被修正，以具有N個(gè)拋光單元250和N個(gè)晶圓中繼裝置281，其中N為大于或等于2的整數(shù)，使得第一晶圓輸送裝置150是將晶圓轉(zhuǎn)移到第一晶圓中繼裝置281，而第二晶圓輸送裝置210是將晶圓自最后一個(gè)拋光單元250的晶圓載具262移走。
拋光站50還可以藉由移除第一和最后一個(gè)晶圓中繼裝置281a和281c，及第一和第三線性往復(fù)移動機(jī)構(gòu)410a和410c修正，使得第一和第二晶圓輸送裝置150和210可以分別直接將晶圓轉(zhuǎn)移到第一拋光單元250a的晶圓載具262，和直接自最后一個(gè)拋光單元250c的晶圓載具262轉(zhuǎn)移晶圓。晶圓是以和上述參照圖16的拋光站50中處理的晶圓相同的方式，在此修正拋光站的第一拋光單元250a的晶圓載具262a到第三拋光單元250c的晶圓載具262c中處理。在此修正拋光站中，第一拋光單元250a的晶圓載具262a可以藉由可移動到晶圓載具262a的晶圓中繼裝置281b清洗。此外，第三拋光單元250c的晶圓載具262c可以藉由可移動到晶圓載具262c的晶圓中繼裝置281c清洗。
一般而言，拋光站50可以被修正，以具有N個(gè)拋光單元250和N-1個(gè)晶圓中繼裝置281，其中N為大于或等于2的整數(shù)。第一晶圓輸送裝置150是將晶圓轉(zhuǎn)移到第一拋光單元250的晶圓載具262，而第二晶圓輸送裝置210是將晶圓自最后一個(gè)拋光單元250的晶圓載具262移走。
圖16的拋光站50及其上述的修正實(shí)施例可以修正，使得各晶圓中繼裝置281都連接到其自己的線性往復(fù)移動機(jī)構(gòu)410。在此修正拋光站中，各晶圓中繼裝置281是藉由個(gè)別的線性往復(fù)移動機(jī)構(gòu)410個(gè)別驅(qū)動。因此，此修正拋光站包括數(shù)量和晶圓中繼裝置281相同的線性往復(fù)移動機(jī)構(gòu)410。
除了各晶圓中繼裝置281的線性往復(fù)移動是個(gè)別控制之外，這些修正拋光站中處理晶圓的方法，與圖9、圖11、圖12和圖13的拋光站35、35(a)、35(b)、35(c)中處理晶圓的方法類似。
下面請參閱圖17所示，說明根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的拋光站55。圖17為拋光站55的俯視圖。拋光站55可以用在圖1的拋光設(shè)備10中，取代拋光站20。
除了在圖16的拋光站50的第1組4個(gè)晶圓中繼裝置281a-281d和第1組3個(gè)線性往復(fù)移動機(jī)構(gòu)410a-410c上，還包括第2組4個(gè)晶圓中繼裝置281a′-281d′和第2組3個(gè)線性往復(fù)移動機(jī)構(gòu)410a′-410c′之外，拋光站55的組態(tài)與圖16的拋光站55類似。另一個(gè)不同點(diǎn)是拋光站55包括拋光單元251a，251b，和251c，取代拋光單元250a，250b，和250c。每一個(gè)拋光單元251都包括拋光臺256，及第一和第二晶圓載具262和262′。雖然沒有圖示，但是每一個(gè)拋光單元251也都可包括拋光墊調(diào)節(jié)器258。
第2組晶圓中繼裝置281a′-281d′，以和圖16的拋光站55中第1組晶圓中繼裝置281a-281d連接到第1組3個(gè)線性往復(fù)移動機(jī)構(gòu)410a-410c相同的方式，連接到第2組3個(gè)線性往復(fù)移動機(jī)構(gòu)410a′-410c′。第2組3個(gè)線性往復(fù)移動機(jī)構(gòu)410a′-410c′，如上面參照圖16的說明，以和第1組3個(gè)線性往復(fù)移動機(jī)構(gòu)410a-410c控制第1組晶圓中繼裝置281a-281d的往復(fù)移動Ma，Mb，和Mc相同的方式，控制第2組晶圓中繼裝置281a′-281d′的往復(fù)移動Ma′，Mb′，和Mc′。
如上面參照圖16的說明，第2組晶圓中繼裝置281a′-281d′和拋光單元251a-251c的第二晶圓載具262a′-262c′，是以和第1組晶圓中繼裝置281a-281d和拋光單元251a-251c的第一晶圓載具262a-262c相同的方式轉(zhuǎn)移和拋光晶圓。
除了拋光站55中的第一晶圓中繼裝置281a，第二和第三晶圓中繼裝置281b和281c、第四晶圓中繼裝置281d、第一晶圓中繼裝置281a′、第二和第三晶圓中繼裝置281b′和281c′、及第四晶圓中繼裝置281d′的線性往復(fù)移動是個(gè)別控制之外，在拋光站55中處理晶圓的方法和圖14的拋光站40處理晶圓的方法類似。
一般而言，拋光站55可以具有N個(gè)拋光單元251和2×(N+1)個(gè)晶圓中繼裝置281，其中N為大于或等于2的整數(shù)。第一晶圓輸送裝置150將晶圓轉(zhuǎn)移到前二個(gè)晶圓中繼裝置281，而第二晶圓輸送裝置210將晶圓自最后二個(gè)晶圓中繼裝置281移走。
拋光站55可以藉由移除第一晶圓中繼裝置281a和281a′及第一線性往復(fù)移動機(jī)構(gòu)410a和410a′修正，使得第一晶圓輸送裝置150可以直接將晶圓轉(zhuǎn)移到第一拋光單元251a的晶圓載具262a和262a′。晶圓是以和拋光站55中處理的晶圓相同的方式，在此修正拋光站的第一拋光單元250a的晶圓載具262a和262a′到最后一個(gè)晶圓中繼裝置281d和281d′中處理。在此修正拋光站中，第一拋光單元250a的晶圓載具262a和262a′可以藉由可移動到晶圓載具262a和262a′的載入/載出載杯282b和282b′清洗。
一般而言，拋光站55可以被修正，以具有N個(gè)拋光單元251和2*N個(gè)晶圓中繼裝置281，其中N為大于或等于2的整數(shù)，使得第一晶圓輸送裝置150是將晶圓轉(zhuǎn)移到第一拋光單元251的兩個(gè)晶圓載具，而第二晶圓輸送裝置210是將晶圓自最后二個(gè)晶圓中繼裝置281移走。
拋光站55也可以藉由分別移除最后一個(gè)晶圓中繼裝置281d和281d′，及第三線性往復(fù)移動機(jī)構(gòu)410c和410c′修正，使得第二晶圓輸送裝置210可以直接自最后一個(gè)拋光單元251的晶圓載具262c和262c′轉(zhuǎn)移晶圓。晶圓是以和上述參照圖17的拋光站55中處理的晶圓相同的方式，在此修正拋光站的第一晶圓中繼裝置281a和281a′到第三拋光單元251c的晶圓載具262c和262c′中處理。在此修正拋光站中，第三拋光單元251c的晶圓載具262c和262c′可以分別藉由可移動到晶圓載具262c和262c′的載入/載出載杯282c和282c′清洗。
一般而言，拋光站55可以被修正，以具有N個(gè)拋光單元251和2×N個(gè)晶圓中繼裝置281，其中N為大于或等于2的整數(shù)，使得第一晶圓輸送裝置150是將晶圓轉(zhuǎn)移到第一晶圓中繼裝置281a和和281a′，而第二晶圓輸送裝置210是將晶圓自最后一個(gè)拋光單元251的晶圓載具262移走。
拋光站55還可以藉由移除第一晶圓中繼裝置281a和281a′，最后一個(gè)晶圓中繼裝置281d和281d′，及第一和最后一個(gè)往復(fù)移動機(jī)構(gòu)410a，410a′，410c，和410c′修正，使得第一和第二晶圓輸送裝置150和210可以分別直接將晶圓轉(zhuǎn)移到第一拋光單元251a的晶圓載具262，和直接自最后一個(gè)拋光單元251c的晶圓載具262轉(zhuǎn)移晶圓。
一般而言，拋光站55可以被修正，以具有N個(gè)拋光單元251和2×(N-1)個(gè)晶圓中繼裝置281，其中N為大于或等于2的整數(shù)。第一晶圓輸送裝置150是將晶圓轉(zhuǎn)移到第一拋光單元251的晶圓載具262，而第二晶圓輸送裝置210是將晶圓自最后一個(gè)拋光單元251的晶圓載具262移走。在此修正拋光站中，第一拋光單元251a的晶圓載具262a和262a′可以分別藉由可移動到晶圓載具262a和262a′的載入/載出載杯282b和282b′清洗。此外，第三拋光單元251c的晶圓載具262c和262c′可以分別藉由可移動到晶圓載具262c和262c′的載入/載出載杯282c和282c′清洗。
圖17的拋光站55及其上述的修正實(shí)施例可以修正，使得各晶圓中繼裝置281都連接到其自己的線性往復(fù)移動機(jī)構(gòu)410。在這些修正拋光站中，各晶圓中繼裝置281是藉由個(gè)別的線性往復(fù)移動機(jī)構(gòu)410個(gè)別驅(qū)動。因此，此修正拋光站包括和晶圓中繼裝置281相同的線性往復(fù)移動機(jī)構(gòu)410的數(shù)量。
除了各晶圓中繼裝置281的線性往復(fù)移動都是個(gè)別控制之外，在這些修正拋光站中的晶圓的處理方法，和圖17的拋光站55中的晶圓的處理方法類似。
下面請參閱圖18和圖19所示，說明根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的拋光站60。拋光站60可以用在拋光設(shè)備10中，取代拋光站20。圖18為拋光站60的俯視圖。圖19為圖18在U方向看入的拋光站60的側(cè)視圖。
拋光站60包括一組4個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285a-285d、3個(gè)拋光臺256a-256c、3個(gè)晶圓載具組件260a-260c、和晶圓運(yùn)送裝置480。拋光站60毗鄰第一晶圓輸送裝置150的區(qū)域是拋光站的輸入?yún)^(qū)域，以接收晶圓進(jìn)入拋光站。拋光站60毗鄰第二晶圓輸送裝置210的區(qū)域是拋光站的輸出區(qū)域，以自拋光站輸出拋光晶圓。拋光站60的輸入?yún)^(qū)域和輸出區(qū)域最好位在拋光站的相對端。晶圓轉(zhuǎn)移站285a-285d是以線性方式相等間隔，使得一拋光臺256位在兩相鄰晶圓轉(zhuǎn)移站285之間。各晶圓轉(zhuǎn)移站285都包括有載入/載出載杯282、往復(fù)移動桿284和垂直驅(qū)動機(jī)構(gòu)287，如圖19所示。載入/載出載杯282是安置在連接到垂直驅(qū)動機(jī)構(gòu)287的往復(fù)移動桿284上。因此，載入/載出載杯282可以藉由垂直驅(qū)動機(jī)構(gòu)287垂直移動。當(dāng)晶圓載具262位在載入/載出載杯282上時(shí)，載入/載出載杯282可以藉由噴灑DI水清洗晶圓載具262。
拋光臺256a-256c也可以線性方式排列，使得拋光臺256是位在兩相鄰晶圓轉(zhuǎn)移站285之間。第一、第二和第三晶圓載具262a，262b和262c，分別使用在第一、第二和第三拋光臺256a-256c上的拋光墊255a-255c拋光晶圓。
晶圓運(yùn)送裝置480包括運(yùn)送器482、運(yùn)送軌道484和往復(fù)移動驅(qū)動機(jī)構(gòu)486。3個(gè)晶圓載具組件260a-260c被安置到運(yùn)送器482上，使得晶圓載具262間隔相等。相鄰的兩個(gè)晶圓載具262之間的距離，設(shè)為和相鄰的兩個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285之間的距離相等，使得晶圓載具262a-262c可以同時(shí)定位在晶圓轉(zhuǎn)移站285a-285c或285c-285d上。運(yùn)送器482是安置在連接到往復(fù)移動驅(qū)動機(jī)構(gòu)486的運(yùn)送軌道484上。往復(fù)移動驅(qū)動機(jī)構(gòu)486是藉由沿著運(yùn)送軌道484往復(fù)移動運(yùn)送器482，以線性方式來回移動晶圓載具組件260a-260c。如圖20和圖21所示，順向和反向的線性移動是分別以X和Y表示。運(yùn)送軌道484被安置到拋光站40的上收納室488中。
下面請參閱圖18、圖20(a)和圖20(b)所示，說明拋光站60中處理晶圓的方法。圖20(a)和圖20(b)分別是晶圓載具262被定位在晶圓載入位置和晶圓載出位置的拋光站60的俯視圖。圖20(a)是圖示晶圓載入程序。圖20(b)是圖示晶圓載出程序。首先，如圖18所示，晶圓載具262a-262c被暫存分別定位在拋光臺256a，256b和256c上方。第一晶圓藉由第一晶圓輸送裝置150供應(yīng)到第一晶圓轉(zhuǎn)移站285a。
其次，如圖20(a)所示，藉由運(yùn)送器482的順向線性X，將晶圓載具262a，262b，和262c分別轉(zhuǎn)移到位在晶圓轉(zhuǎn)移站285a-285c上方的個(gè)別的晶圓載入位置。第一晶圓自第一晶圓轉(zhuǎn)移站285a載入在第一晶圓載具262a之上。
其次，如圖18所示，藉由運(yùn)送器482的反向線性移動Y，將晶圓載具262a-262c分別轉(zhuǎn)移到位在拋光臺256a-256c上方的個(gè)別的晶圓拋光位置。第一晶圓載具262a使用在第一拋光臺256a上的拋光墊255a拋光第一晶圓。在完成第一晶圓的拋光制程之后，自拋光臺256a升起第一晶圓載具262a。
其次，如圖20(b)所示，藉由運(yùn)送器482的反向線性移動Y，將晶圓載具262a-262c分別轉(zhuǎn)移到位在晶圓轉(zhuǎn)移站285b-285d上方的個(gè)別的晶圓載出位置。第一晶圓自第一晶圓載具262a載出到第二晶圓轉(zhuǎn)移站285b。
其次，如圖20(a)所示，藉由運(yùn)送器482的順向線性移動X，將晶圓載具262a-262c再次轉(zhuǎn)移到個(gè)別的晶圓載入位置。第一晶圓自第二晶圓轉(zhuǎn)移站285b載入到第二晶圓載具262b上。
其次，如圖18所示，藉由運(yùn)送器482的反向線性移動Y，將晶圓載具262a-262c再次轉(zhuǎn)移到個(gè)別的晶圓拋光位置。第二晶圓載具262b使用在第二拋光臺256b上的拋光墊255b拋光第一晶圓。在完成第一晶圓的拋光制程之后，自拋光臺256b升起第二晶圓載具262b。
其次，如圖20(b)所示，藉由運(yùn)送器482的反向線性移動Y，將晶圓載具262a-262c再次轉(zhuǎn)移到個(gè)別的晶圓載出位置。第一晶圓自第二晶圓載具262b載出到第三晶圓轉(zhuǎn)移站285c。
其次，如圖20(a)所示，藉由運(yùn)送器482的順向線性移動X，將晶圓載具262a-262c再次轉(zhuǎn)移到個(gè)別的晶圓載入位置。第一晶圓自第三晶圓轉(zhuǎn)移站285c載入到第三晶圓載具262c上。
其次，如圖18所示，藉由運(yùn)送器482的反向線性移動Y，將晶圓載具262a-262c轉(zhuǎn)移到個(gè)別的晶圓拋光位置。第三晶圓載具262c使用在第三拋光臺256c上的拋光墊255c拋光第一晶圓。在完成第一晶圓的拋光制程之后，自拋光臺256c升起第三晶圓載具262c。
其次，如圖20(b)所示，藉由運(yùn)送器482的反向線性移動Y，將晶圓載具262a-262c再次轉(zhuǎn)移到個(gè)別的晶圓載出位置。第一晶圓自第三晶圓載具262c載出到第四晶圓轉(zhuǎn)移站285d。
其次，如圖20(a)所示，藉由運(yùn)送器482的順向線性移動X，將晶圓載具262a-262c再次轉(zhuǎn)移到個(gè)別的晶圓載入位置。第一晶圓藉由第二晶圓輸送裝置210自第四晶圓轉(zhuǎn)移站285d移走。在此形式中，晶圓可以依序逐片在拋光臺256a-256c上拋光。
一般而言，拋光站60包括N個(gè)拋光臺256、N+1個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285、一個(gè)晶圓運(yùn)送裝置480和N個(gè)晶圓載具262，其中N為大于或等于2的整數(shù)。第一晶圓輸送裝置150是將要拋光的晶圓轉(zhuǎn)移到N+1個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285的第一晶圓轉(zhuǎn)移站285，而第二晶圓輸送裝置210是將已拋光晶圓自N+1個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285的最后一個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285轉(zhuǎn)移走。
下面參照圖21(a)、圖21(b)、和圖21(c)，說明根據(jù)本發(fā)明其他實(shí)施例的拋光站65a，65b和65c。這些拋光站的任何一個(gè)都可以用在圖1的拋光設(shè)備10中，取代拋光站20。圖21(a)、圖21(b)和圖21(c)分別是拋光站65a，65b，和65c的俯視圖。
圖21(a)的拋光站65a可以藉由自拋光站60移除第一晶圓轉(zhuǎn)移站285a推演而得。在此拋光站65a中，第一晶圓輸送裝置150直接將晶圓轉(zhuǎn)移到第一晶圓載具262a。晶圓是以和上述拋光站60中處理的晶圓相同的方式，在此拋光站65a的第一晶圓載具262a到最后一個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285d中處理。在此拋光站65a中，第一晶圓載具262a可以在位于第一和第二拋光臺256a和256b之間的晶圓轉(zhuǎn)移站285b清洗。
圖21(b)的拋光站65b可以藉由自拋光站60移除最后一個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285d推演而得。因此，第二晶圓輸送裝置210是直接自晶圓載具262c轉(zhuǎn)移晶圓。晶圓是以和上述拋光站60中處理的晶圓相同的方式，在此拋光站65b的第一晶圓轉(zhuǎn)移站285a到最后一個(gè)晶圓載具262c中處理。在此拋光站65b中，第三晶圓載具262c可以在位于第二和第三拋光臺256b和256c之間的晶圓轉(zhuǎn)移站285c清洗。
圖21(c)的拋光站65c可以藉由自拋光站60移除第一和最后一個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285a和285d推演而得。在此拋光站65c中，第一晶圓輸送裝置150是直接將晶圓載入在第一晶圓載具262a上，而第二晶圓輸送裝置210是直接自最后一個(gè)晶圓載具262c移走晶圓。晶圓是以和上述拋光站60中處理的晶圓相同的方式，在此拋光站65c的第一晶圓載具262a到最后一個(gè)晶圓載具262c中處理。在此拋光站65c中，第一晶圓載具262a可以在位于第一拋光臺256a和第二拋光臺256b之間的晶圓轉(zhuǎn)移站285b清洗。此外，第三晶圓載具262c可以在位于第二拋光臺256b和第三拋光臺256c之間的晶圓轉(zhuǎn)移站285c清洗。
一般而言，拋光站65a和65b可以具有N個(gè)拋光臺256、N個(gè)晶圓載具262、和N個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285，其中N為大于或等于2的整數(shù)。拋光站65C具有N個(gè)拋光臺256、N個(gè)晶圓載具262、和N-1個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285。在拋光站65a和65c中，第一晶圓載具262直接自第一晶圓輸送裝置150接收晶圓。在拋光站65b和65c中，最后一個(gè)晶圓載具262是直接將晶圓載出到第二晶圓輸送裝置210。
下面請參閱圖22所示，說明根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的拋光站70。圖22為拋光站70的俯視圖。從圖22的U方向看入的拋光站70的側(cè)視圖類似于圖19所示的拋光站60的側(cè)視圖。拋光站70可以用在圖1的拋光設(shè)備10中，取代拋光站20。拋光站70可以藉由在拋光站60中加入第二晶圓運(yùn)送裝置480′、第2組4個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285a′-285d′、及第2組3個(gè)晶圓載具組件260a′-260c′，根據(jù)圖18所示的拋光站60修正。
第2組晶圓轉(zhuǎn)移站285a′-285d′是以和第1組晶圓轉(zhuǎn)移站285a-285d相對于拋光臺256a，256b和256c的排列方式相同的方式排列。類似于第1組3個(gè)晶圓載具262a-262c可以藉由第一晶圓運(yùn)送裝置480，以往復(fù)移動方式移動，第2組3個(gè)晶圓載具262a′-262c′可以藉由第二晶圓運(yùn)送裝置480′，以往復(fù)移動方式移動。第二晶圓運(yùn)送裝置480′是以平行第一晶圓運(yùn)送裝置480的方式排列，使得第2組3個(gè)晶圓載具262a′-262c′可以分別在第一、第二和第三拋光臺256a-256c上拋光晶圓。第二晶圓運(yùn)送裝置480′是以和第一晶圓運(yùn)送裝置480相同的方式轉(zhuǎn)移晶圓。第一和第二運(yùn)送裝置480和480′可以個(gè)別或共同操作。
在個(gè)別方式中，如圖22所示，要被拋光的第一和第二晶圓W1和W2藉由第一晶圓輸送裝置150，分別供應(yīng)到第1和第2組晶圓轉(zhuǎn)移站285的前2個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285a和285a′。其次，第一晶圓W1自第一晶圓轉(zhuǎn)移站285a轉(zhuǎn)移到第一晶圓載具262a，然后根據(jù)上述參照圖18、圖20(a)、和圖20(b)的順序，在拋光臺256上拋光。在第一晶圓W1自第一晶圓轉(zhuǎn)移站285a轉(zhuǎn)移之后，第二晶圓W2自第一晶圓轉(zhuǎn)移站285a′轉(zhuǎn)移到第一晶圓載具262a′，然后根據(jù)上述參照圖18、圖20(a)、和圖20(b)的相同順序，在拋光臺256上拋光。第3、第5、...、和第(2N-1)晶圓是以和第一晶圓W1相同的方式處理。第4、第6、...、和第2N晶圓是以和第二晶圓W2相同的方式處理。
在共同方式中，第一和第二晶圓W1和W2是同時(shí)自前2個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285a和285a′分別轉(zhuǎn)移到第一晶圓載具262a和262a′，然后根據(jù)上述參照圖18、圖20(a)、和圖20(b)的順序，在拋光臺256上同時(shí)拋光。
在圖22的拋光站70中，第一和第二晶圓運(yùn)送裝置480和480′的運(yùn)送器482和482′可以使用連接器(未圖示)連接，使得其往復(fù)移動可以藉由單一往復(fù)移動驅(qū)動機(jī)構(gòu)共同控制。
一般而言，拋光站70包括N個(gè)拋光臺256、2組N個(gè)晶圓載具262、2組N+1個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285、和至少一個(gè)晶圓運(yùn)送裝置480，其中N為大于或等于2的整數(shù)。第一晶圓輸送裝置1450是將晶圓轉(zhuǎn)移到前2個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285，而第二晶圓輸送裝置210是將晶圓自最后2個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285移走。
圖22的拋光站70可以藉由自拋光站70移除前2個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285a和285a′修正，使得第一晶圓輸送裝置150可以將晶圓直接轉(zhuǎn)移到第一晶圓載具262a和262a′。晶圓是以和上述參照圖22的拋光站70中處理晶圓相同的方式，在此修正拋光站之前2個(gè)晶圓載具262a和262a′到最后2個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285d和285d′中處理。在此修正拋光站中，前2個(gè)晶圓載具262a和262a′可以在位于第一拋光臺256a和第二拋光臺256b之間的晶圓轉(zhuǎn)移站285b和285b′清洗。
一般而言，此修正拋光站包括N個(gè)拋光臺256、2組N個(gè)晶圓載具262、2組N個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285、及至少一個(gè)晶圓運(yùn)送裝置480，其中N為大于或等于2的整數(shù)。第一晶圓輸送裝置150是將晶圓轉(zhuǎn)移到前2個(gè)晶圓載具262，而第二晶圓輸送裝置210是將晶圓自最后2個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285移走。
圖22的拋光站70也可以藉由移除最后2個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285d和285d′修正，使得第二晶圓輸送裝置210可以直接將晶圓自最后2個(gè)晶圓載具262c和262c′轉(zhuǎn)移。晶圓是以和上述參照圖22的拋光站70中處理晶圓相同的方式，在此修正拋光站的前2個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285a和285a′到第3組2個(gè)晶圓載具262c和262c′中處理。在此修正拋光站中，第三晶圓載具262c和262c′可以在位于第二和第三拋光臺256b和256c之間的晶圓轉(zhuǎn)移站285c和285c′清洗。
一般而言，此修正拋光站包括N個(gè)拋光臺256、2組N個(gè)晶圓載具262、2組N個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285、及至少一個(gè)晶圓運(yùn)送裝置480，其中N為大于或等于2的整數(shù)。第一晶圓輸送裝置150是將晶圓轉(zhuǎn)移到前2個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285，而第二晶圓輸送裝置210是將晶圓自最后2個(gè)晶圓載具262移走。
圖22的拋光站70還可以藉由移除前2個(gè)和最后2個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285a，285a′，285d和285d′修正，使得第一晶圓輸送裝置150可以直接將晶圓轉(zhuǎn)移到前2個(gè)晶圓載具262a和262a′，及第二晶圓輸送裝置210可以直接將晶圓自最后2個(gè)晶圓載具262c和262c′移走。晶圓是以和上述參照圖22的拋光站70中處理晶圓相同的方式，在此修正拋光站之前2個(gè)晶圓載具262a和262a′到第3組2個(gè)晶圓載具262c和262c′中處理。在此修正拋光站中，第一晶圓載具262a和262a′可以在于第一和第二拋光臺256a和256b之間的晶圓轉(zhuǎn)移站285b和285b′清洗。此外，第三晶圓載具262c和262c′可以在位于第二和第三拋光臺256b和256c之間的晶圓轉(zhuǎn)移站285c和285c′清洗。
一般而言，此修正拋光站包括N個(gè)拋光臺256、2組N個(gè)晶圓載具262、2組(N-1)個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285、及至少一個(gè)晶圓運(yùn)送裝置480，其中N為大于或等于2的整數(shù)。第一晶圓輸送裝置150是將晶圓轉(zhuǎn)移到前2個(gè)晶圓載具262，而第二晶圓輸送裝置210是將晶圓自最后2個(gè)晶圓載具262移走。
下面請參閱圖23和圖24所示，說明根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的拋光站80。拋光站80可以用在圖1的拋光設(shè)備10中，取代拋光站20。圖23為拋光站80的俯視圖。圖24為圖23在U方向看入的拋光站80的側(cè)視圖。除了各晶圓載具組件260可以藉由晶圓運(yùn)送裝置481，在兩個(gè)相鄰晶圓轉(zhuǎn)移站285之間各自移動之外，拋光站80類似于參照圖18和圖19說明的拋光站60。
如圖24所示，晶圓運(yùn)送裝置481包括運(yùn)送軌道484和往復(fù)移動驅(qū)動機(jī)構(gòu)486。3個(gè)晶圓載具組件260是被安置在連接到往復(fù)移動驅(qū)動機(jī)構(gòu)486的運(yùn)送軌道484上。往復(fù)移動驅(qū)動機(jī)構(gòu)486是以線性方式，沿著運(yùn)送軌道484，前后移動晶圓載具組件260。如圖23和圖24所示，順向和反向線性移動分別以X和Y表示。運(yùn)送軌道484被安置到拋光站80的上收納室488中。
下面請參閱圖23所示，說明拋光站80中處理晶圓的方法。首先，第一晶圓藉由第一晶圓輸送裝置150供應(yīng)到第一晶圓轉(zhuǎn)移站285a，然后藉由其順向線性移動X，沿著運(yùn)送軌道484，將第一晶圓載具262a轉(zhuǎn)移到第一晶圓轉(zhuǎn)移站285a。其次，第一晶圓自第一晶圓轉(zhuǎn)移站285a載入在第一晶圓載具262a之上，然后藉由其反向線性移動Y，將第一晶圓載具262a轉(zhuǎn)移到第一拋光臺256a。其次，第一晶圓載具262a使用在第一拋光臺256a上的拋光墊255a拋光第一晶圓。
其次，在完成第一晶圓的拋光制程之后，自拋光臺256a升起第一晶圓載具262a，然后藉由反向線性移動Y，沿著運(yùn)送軌道484，將第一晶圓載具262a轉(zhuǎn)移到第二晶圓轉(zhuǎn)移站285b。其次，將第一晶圓W1自第一晶圓載具262a載出到第二晶圓轉(zhuǎn)移站285b。其次，第一晶圓載具262a被轉(zhuǎn)移到第一晶圓轉(zhuǎn)移站285a，以接取下一片要拋光的晶圓，然后藉由其順向線性移動X，沿著運(yùn)送軌道484，將第二晶圓載具262b轉(zhuǎn)移到第二晶圓轉(zhuǎn)移站285b。
其次，將第一晶圓自第二晶圓轉(zhuǎn)移站285b載入到第二晶圓載具262b上，然后，藉由其反向線性移動Y，沿著運(yùn)送軌道484，將第二晶圓載具262b轉(zhuǎn)移到第二拋光臺256b。其次，第二晶圓載具262b使用在第二拋光臺256b上的拋光墊255b拋光第一晶圓。
其次，在完成第一晶圓的拋光制程之后，自第二拋光臺256b升起第二晶圓載具262b，然后藉由反向線性移動Y，沿著運(yùn)送軌道484，將其轉(zhuǎn)移到第三晶圓轉(zhuǎn)移站285c。其次，將第一晶圓自第二晶圓載具262b載出到第三晶圓轉(zhuǎn)移站285c。
其次，第二晶圓載具262b被轉(zhuǎn)移到第二晶圓轉(zhuǎn)移站285b，以接取下一片晶圓，然后藉由其順向線性移動X，沿著運(yùn)送軌道484，將第三晶圓載具262c轉(zhuǎn)移到第三晶圓轉(zhuǎn)移站285c。其次，第一晶圓自第三晶圓轉(zhuǎn)移站285c載入在第三晶圓載具262c上，然后藉由其反向線性移動Y，沿著運(yùn)送軌道484，第三晶圓載具262c轉(zhuǎn)移到第三拋光臺256c。其次，第三晶圓載具262c使用在第三拋光臺256c上的拋光墊255c拋光第一晶圓。
其次，在完成拋光制程之后，自拋光臺256c升起第三晶圓載具262c，然后藉由其反向線性移動Y，沿著運(yùn)送軌道484，將第三晶圓載具262c轉(zhuǎn)移到第四晶圓轉(zhuǎn)移站285d。其次，將第一晶圓自第三晶圓載具262c載出到第四晶圓轉(zhuǎn)移站285d，然后將第三晶圓載具轉(zhuǎn)移到第三晶圓轉(zhuǎn)移站285c，以接取下一片晶圓。其次，藉由第二晶圓輸送裝置210，自第四晶圓轉(zhuǎn)移站285d移走第一晶圓。在此形式下，晶圓可以依序逐片在拋光臺256a-256c上拋光。
一般而言，拋光站80包括N個(gè)拋光臺256、N個(gè)晶圓載具262、N+1個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285、及一個(gè)晶圓運(yùn)送裝置481，其中N為大于或等于2的整數(shù)。第一晶圓輸送裝置150是將晶圓轉(zhuǎn)移到第一晶圓轉(zhuǎn)移站285，而第二晶圓輸送裝置210是將晶圓自最后一個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285移走。
下面請參閱圖25(a)到圖25(c)所示，說明根據(jù)本發(fā)明其他實(shí)施例的拋光站85a-85c。這些拋光站的任何一個(gè)都可以用在圖1的拋光設(shè)備10中，取代拋光站20。圖25(a)到圖25(c)分別是拋光站85a-85c的俯視圖。
圖25(a)的拋光站85a可以藉由自圖23的拋光站80移除第一晶圓轉(zhuǎn)移站285a推演而得。在此拋光站85a中，第一晶圓輸送裝置150直接將晶圓轉(zhuǎn)移到第一晶圓載具262a。晶圓是以和上述參照圖23的拋光站80中處理的晶圓相同的方式，在此拋光站85a的第一晶圓載具262a到最后一個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285d中處理。在此拋光站85a中，第一晶圓載具262a可以在位于第一和第二拋光臺256a和256b之間的晶圓轉(zhuǎn)移站285b清洗。
一般而言，拋光站85a可以包括N個(gè)拋光臺256、N個(gè)晶圓載具262、N個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285、和一個(gè)晶圓運(yùn)送裝置481，其中N為大于或等于2的整數(shù)。第一晶圓輸送裝置150是將晶圓轉(zhuǎn)移到第一晶圓載具262，而第二晶圓輸送裝置210是將晶圓自最后一個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285移走。
圖25(b)的拋光站85b可以藉由自圖23的拋光站80移除最后一個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285d推演而得。在此拋光站85b中，第二晶圓輸送裝置210直接將晶圓自第三晶圓載具262c移走。晶圓是以和上述參照圖23的拋光站80中處理的晶圓相同的方式，在此拋光站85b的第一晶圓轉(zhuǎn)移站285a到第三晶圓載具262c中處理。在此拋光站85b中，第三晶圓載具262c可以在位于第二和第三拋光臺256b和256c之間的晶圓轉(zhuǎn)移站285c清洗。
一般而言，拋光站85b可以包括N個(gè)拋光臺256、N個(gè)晶圓載具262、N個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285、及一個(gè)晶圓運(yùn)送裝置481，其中N為大于或等于2的整數(shù)。第一晶圓輸送裝置150是將晶圓轉(zhuǎn)移到第一晶圓轉(zhuǎn)移站285，而第二晶圓輸送裝置210是將晶圓自最后一個(gè)晶圓載具262移走。
圖25(c)的拋光站85c可以藉由自圖23的拋光站80移除第一和最后一個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285a和285d推演而得。在此拋光站85c中，第一晶圓輸送裝置150直接將晶圓轉(zhuǎn)移到第一晶圓載具262a，而第二晶圓輸送裝置210直接將晶圓自第三晶圓載具262c移走。晶圓是以和上述參照圖23的拋光站80中處理的晶圓相同的方式，在此拋光站85c的第一晶圓載具262a到第三晶圓載具262c中處理。在此拋光站85c中，第一晶圓載具262a可以在位于第一和第二拋光臺256a和256b之間的晶圓轉(zhuǎn)移站285b清洗。此外第三晶圓載具262c可以在位于第二和第三拋光臺256b和256c之間的晶圓轉(zhuǎn)移站285c清洗。
一般而言，修正的拋光站85c可以包括N個(gè)拋光臺256、N個(gè)晶圓載具262、N-1個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285、及一個(gè)晶圓運(yùn)送裝置481，其中N為大于或等于2的整數(shù)。第一晶圓輸送裝置150是將晶圓轉(zhuǎn)移到第一晶圓載具262，而第二晶圓輸送裝置210是將晶圓自最后一個(gè)晶圓載具262移走。
下面請參閱圖26所示，說明根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的拋光站90。拋光站90可以用在圖1的拋光設(shè)備10中，取代拋光站20。圖26為拋光站90的俯視圖。除了各晶圓載具組件260可以各自藉由晶圓運(yùn)送裝置481和481′，在2個(gè)相鄰晶圓轉(zhuǎn)移站285之間移動之外，拋光站90類似于參照圖22說明的拋光站70。
第1和第2組3個(gè)晶圓載具組件260a-260c和260a′-260c′是分別被安置在第一和第二晶圓運(yùn)送裝置481和481′的運(yùn)送軌道484和484′上。第一晶圓運(yùn)送裝置481的往復(fù)移動驅(qū)動機(jī)構(gòu)486(未圖示)，各自以線性方式前后移動3個(gè)晶圓載具組件260a-260c的每一個(gè)。同樣地，第二晶圓運(yùn)送裝置481′的往復(fù)移動驅(qū)動機(jī)構(gòu)486′(未圖示)，也是各自以線性方式前后移動3個(gè)晶圓載具組件260a′-260c′的每一個(gè)。
拋光站90處理晶圓的方法，類似于上述參照圖23的拋光站80處理晶圓的方法。以上述晶圓是在使用4個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285a-285d、3個(gè)晶圓載具262a-262c、及3個(gè)拋光臺256a-256c的拋光站80中處理類似的方式，此處的晶圓是以相同的方式使用4個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285a′-285d′、3個(gè)晶圓載具262a′-262c′、及3個(gè)拋光臺256a-256c處理。
一般而言，此拋光站90包括N個(gè)拋光臺256、2組N個(gè)晶圓載具262、2組(N+1)個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285、及2個(gè)晶圓運(yùn)送裝置481，其中N為大于或等于2的整數(shù)。第一晶圓輸送裝置150是將晶圓轉(zhuǎn)移到前2個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285，而第二晶圓輸送裝置210是將晶圓自最后2個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285移走。
圖26的拋光站90可以藉由自拋光站90移走前2個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285a和285a′修正，使得第一晶圓輸送裝置150是直接將晶圓轉(zhuǎn)移到前2個(gè)晶圓載具262a和262a′。此處的晶圓是以和拋光站90中相同的晶圓處理方式，在此修正拋光站之前2個(gè)晶圓載具262a和262a′到最后2個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285d和285d′中處理。在此修正拋光站中，前2個(gè)晶圓載具262a和262a′可以分別在位于第一拋光臺256a和第二拋光臺256b之間的晶圓轉(zhuǎn)移站285b和285b′清洗。
一般而言，此修正拋光站包括N個(gè)拋光臺256、2組N個(gè)晶圓載具262、2組N個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285、及2個(gè)晶圓運(yùn)送裝置481，其中N為大于或等于2的整數(shù)。第一晶圓輸送裝置150是將晶圓轉(zhuǎn)移到前2個(gè)晶圓載具262，而第二晶圓輸送裝置210是將晶圓自最后2個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285移走。
圖26的拋光站90也可以藉由移除最后2個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285d和285d′修正，使得第二晶圓輸送裝置210是直接將晶圓自最后2個(gè)晶圓載具262c和262c′轉(zhuǎn)移。此處的晶圓是以和拋光站90中相同的晶圓處理方式，在此修正拋光站之前2個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285a和285a′到最后2個(gè)晶圓載具262c和262c′中處理。在此修正拋光站中，第三晶圓載具262c和262c′可以在位于第二和第三拋光臺256b和256c之間的晶圓轉(zhuǎn)移站285c和285c′清洗。
一般而言，此修正拋光站包括N個(gè)拋光臺256、2組N個(gè)晶圓載具262、2組N個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285、及2個(gè)晶圓運(yùn)送裝置481，其中N為大于或等于2的整數(shù)。第一晶圓輸送裝置150是將晶圓轉(zhuǎn)移到前2個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285，而第二晶圓輸送裝置210是將晶圓自最后2個(gè)晶圓載具262移走。
圖26的拋光站90還可以藉由移走前2個(gè)和最后2個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285a，285a′，285d和285d′修正，使得第一晶圓輸送裝置150是直接將晶圓轉(zhuǎn)移到前2個(gè)晶圓載具262a和262a′，及第二晶圓輸送裝置210是直接將晶圓自最后2個(gè)晶圓載具262c和262c′移走。此處的晶圓是以和拋光站90中相同的晶圓處理方式，在此修正拋光站之前2個(gè)晶圓載具262a和262a′到最后2個(gè)晶圓載具262c和262c′中處理。在此修正拋光站中，第一晶圓載具262a和262a′可以在位于第一和第二拋光臺256a和256b之間的晶圓轉(zhuǎn)移站285b和285b′清洗。此外，第三晶圓載具262c和262c′可以在位于第二和第三拋光臺256b和256c之間的晶圓轉(zhuǎn)移站285c和285c′清洗。
一般而言，此修正拋光站包括N個(gè)拋光臺256、2組N個(gè)晶圓載具262、2組(N-1)個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285、及2個(gè)晶圓運(yùn)送裝置481，其中N為大于或等于2的整數(shù)。第一晶圓輸送裝置150是將晶圓轉(zhuǎn)移到前2個(gè)晶圓載具262，而第二晶圓輸送裝置210是將晶圓自最后2個(gè)晶圓載具262移走。
下面請參閱圖27和圖28所示，說明根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的拋光站100。拋光站100可以用在圖1的拋光設(shè)備10中，取代拋光站20。圖27為拋光站100的俯視圖。圖28為圖27從V方向看入的拋光站100的側(cè)視圖。除了第一、第二和第三組2個(gè)晶圓載具組件260a和260a′，260b和260b′，及260c和260c′是藉由個(gè)別的連接器487彼此相互連接之外，拋光站100類似于參照圖26說明的拋光站90。如圖28所示，連接器487是被安置在拋光站100的晶圓運(yùn)送裝置481的運(yùn)送軌道484上。連接器487的線性往復(fù)移動X和Y是藉由往復(fù)移動驅(qū)動機(jī)構(gòu)486控制。
藉由沿著運(yùn)送軌道484，往復(fù)移動連接到晶圓載具組件260a和260a′的第一連接器487a，第一晶圓載具262a和262a′可以在第一晶圓轉(zhuǎn)移站285a和285a′，第一拋光臺256a，及第二晶圓轉(zhuǎn)移站285b和285b′之間一起轉(zhuǎn)移。同樣地，藉由沿著運(yùn)送軌道484，往復(fù)移動連接到晶圓載具組件260b和260b′的第二連接器487b，第二晶圓載具262b和262b′可以在第二晶圓轉(zhuǎn)移站285b和285b′，第二拋光臺256b，及第三晶圓轉(zhuǎn)移站285c和285c′之間一起轉(zhuǎn)移。藉由沿著運(yùn)送軌道484，往復(fù)移動連接到晶圓載具組件260c和260c′的第三連接器487c，第三晶圓載具262c和262c′也可以在第三晶圓轉(zhuǎn)移站285c和285c′，第三拋光臺256c，及第四晶圓轉(zhuǎn)移站285d和285d′之間一起轉(zhuǎn)移。
除了藉由個(gè)別的連接器487彼此相互連接的各對晶圓載具，是藉由線性往復(fù)移動X和Y一起移動之外，拋光站100處理晶圓的方法類似于上述參照圖23說明的拋光站80處理晶圓的方法。另一個(gè)不同點(diǎn)是在拋光站100，在一個(gè)拋光臺256上可以拋光2片晶圓。
一般而言，拋光站100包括N個(gè)拋光臺256、2組N個(gè)晶圓載具262、2組N+1個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285、及一個(gè)晶圓運(yùn)送裝置481，其中N為大于或等于2的整數(shù)。第一晶圓輸送裝置150是將晶圓轉(zhuǎn)移到前2個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285，而第二晶圓輸送裝置210是將晶圓自最后2個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285移走。
圖27的拋光站100可以藉由自拋光站100移除前2個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285a和285a′修正，使得第一晶圓輸送裝置150可以將晶圓直接轉(zhuǎn)移到晶圓載具262a和262a′。此處的晶圓是以和拋光站100中相同的晶圓處理方式，在此修正拋光站之前2個(gè)晶圓載具262a和262a′到最后2個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285d和285d′中處理。在此修正拋光站中，晶圓載具262a和262a′可以在位于第一拋光臺256a和第二拋光臺256b之間的晶圓轉(zhuǎn)移站285b和285b′清洗。
一般而言，此修正拋光站包括N個(gè)拋光臺256、2組N個(gè)晶圓載具262、2組N個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285、及一個(gè)晶圓運(yùn)送裝置481，其中N為大于或等于2的整數(shù)。第一晶圓輸送裝置150是將晶圓轉(zhuǎn)移到前2個(gè)晶圓載具262，而第二晶圓輸送裝置210是將晶圓自最后2個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285移走。
圖27的拋光站100也可以藉由移除最后2個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285d和285d′修正，使得第二晶圓輸送裝置210可以將晶圓直接自最后2個(gè)晶圓載具262c和262c′轉(zhuǎn)移。此處的晶圓是以和拋光站100中相同的晶圓處理方式，在此修正拋光站之前2個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285a和2285a′到最后2個(gè)晶圓載具262c和262c′中處理。在此修正拋光站中，第三晶圓載具262c和262c′可以在位于第二和第三拋光臺256b和256c之間的晶圓轉(zhuǎn)移站285c和285c′清洗。
一般而言，此修正拋光站包括N個(gè)拋光臺256、2組N個(gè)晶圓載具262、2組N個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285、及一個(gè)晶圓運(yùn)送裝置481，其中N為大于或等于2的整數(shù)。第一晶圓輸送裝置150是將晶圓轉(zhuǎn)移到前2個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285，而第二晶圓輸送裝置210是將晶圓自最后2個(gè)晶圓載具262移走。
圖27的拋光站100還可以藉由移除前2個(gè)和最后2個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285a，285a′，285d和285d′修正，使得第一晶圓輸送裝置150可以將晶圓轉(zhuǎn)移到前2個(gè)晶圓載具262a和262a′，及第二晶圓輸送裝置210可以直接將晶圓自最后2個(gè)晶圓載具262c和262c′移走。此處的晶圓是以和拋光站90中相同的晶圓處理方式，在此修正拋光站之前2個(gè)晶圓載具262a和262a′到最后2個(gè)晶圓載具262c和262c′中處理。在此修正拋光站中，第一晶圓載具262a和262a′可以在位于第一和第二拋光臺256a和256b之間的晶圓轉(zhuǎn)移站285b和285b′清洗。此外，第三晶圓載具262c和262c′可以在位于第二和第三拋光臺256b和256c之間的晶圓轉(zhuǎn)移站285c和285c′清洗。一般而言，此修正拋光站包括N個(gè)拋光臺256、2組N個(gè)晶圓載具262、2組(N-1)個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285、及一個(gè)晶圓運(yùn)送裝置481，其中N為大于或等于2的整數(shù)。第一晶圓輸送裝置150是將晶圓轉(zhuǎn)移到前2個(gè)晶圓載具262，而第二晶圓輸送裝置210是將晶圓自最后2個(gè)晶圓載具262移走。
下面請參閱圖29、圖30(a)、和圖30(b)所示，說明根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的拋光站110。拋光站110可以用在圖1的拋光設(shè)備10中，取代拋光站20。圖29為拋光站110的俯視圖。圖30(a)為圖29從U方向看入的拋光站110的拋光單元252側(cè)視圖。圖30(b)為圖29從V方向看入的拋光單元252的側(cè)視圖。
拋光站110包括第一拋光單元252a、第二拋光單元252b、第三拋光單元252c、第一晶圓轉(zhuǎn)移站285a、第二晶圓轉(zhuǎn)移站285b、第三晶圓轉(zhuǎn)移站285c、及第四晶圓轉(zhuǎn)移站285d。
各拋光單元252都包括拋光臺256和晶圓載具組件260。各拋光單元252還可包括拋光墊調(diào)節(jié)器258。各拋光單元252還可包括樞軸旋轉(zhuǎn)臂267、樞軸旋轉(zhuǎn)桿268、及樞軸旋轉(zhuǎn)/垂直驅(qū)動機(jī)構(gòu)269。樞軸旋轉(zhuǎn)臂267是將晶圓載具組件260連接到樞軸旋轉(zhuǎn)桿268，其中樞軸旋轉(zhuǎn)桿268是被連接到樞軸旋轉(zhuǎn)/垂直驅(qū)動機(jī)構(gòu)269。因此，晶圓載具組件260的晶圓載具262可以藉由樞軸旋轉(zhuǎn)/垂直驅(qū)動機(jī)構(gòu)269，以樞軸旋轉(zhuǎn)和垂直方式移動。
排列4個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285a-285d和晶圓載具262a-262c，使得晶圓可以下列方式藉由晶圓載具262a-262c，自第一晶圓轉(zhuǎn)移站285a轉(zhuǎn)移到最后的晶圓轉(zhuǎn)移站285d。首先，如圖30所示，第一拋光單元252a的晶圓載具262a藉由其樞軸旋轉(zhuǎn)移動a和b，將第一晶圓自第一晶圓轉(zhuǎn)移站285a轉(zhuǎn)移到第二晶圓轉(zhuǎn)移站285b。其次，同樣地，藉由其樞軸旋轉(zhuǎn)移動c和d，第二拋光單元252b的晶圓載具262b將第一晶圓自第二晶圓轉(zhuǎn)移站285b轉(zhuǎn)移到第三晶圓轉(zhuǎn)移站285c。其次，同樣地，藉由其樞軸旋轉(zhuǎn)移動e和f，第三拋光單元252c的晶圓載具262c將第一晶圓自第三晶圓轉(zhuǎn)移站285c轉(zhuǎn)移到第四晶圓轉(zhuǎn)移站285d。第一晶圓輸送裝置150是將晶圓供應(yīng)到第一晶圓轉(zhuǎn)移站285a，而第二晶圓輸送裝置210是將晶圓自第四晶圓轉(zhuǎn)移站285d移走。
晶圓載具262的樞軸旋轉(zhuǎn)移動可以個(gè)別控制。但是，晶圓載具262的樞軸旋轉(zhuǎn)移動最好可以同步，使得晶圓載具262不會同時(shí)樞軸旋轉(zhuǎn)相同的晶圓轉(zhuǎn)移站285。
除了拋光站110中的各晶圓載具262是藉由其個(gè)別的樞軸旋轉(zhuǎn)移動，在2個(gè)相鄰晶圓轉(zhuǎn)移站285之間轉(zhuǎn)移晶圓，而拋光站80中的各晶圓載具262則是藉由其個(gè)別的線性移動，在2個(gè)相鄰晶圓轉(zhuǎn)移站285之間轉(zhuǎn)移晶圓之外，拋光站110中處理晶圓的方法類似于上述參照圖23的拋光站80中處理晶圓的方法。晶圓載具262a同時(shí)朝向相同方向作樞軸旋轉(zhuǎn)移動也是較佳的選擇，因?yàn)橥瑫r(shí)移動可以使晶圓載具262上的晶圓一被自晶圓載具262載出，晶圓載具262就可載入下一片晶圓，而可以增加拋光站110的產(chǎn)出。
一般而言，拋光站110包括N個(gè)拋光單元252、及N+1個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285，其中N為大于或等于2的整數(shù)。第一晶圓輸送裝置150是將晶圓轉(zhuǎn)移到第一晶圓轉(zhuǎn)移站285，而第二晶圓輸送裝置210是將晶圓自最后的晶圓轉(zhuǎn)移站285移走。
圖29的拋光站110可以藉由自拋光站110移除第一晶圓轉(zhuǎn)移站285a修正，使得第一晶圓輸送裝置150可以直接將晶圓轉(zhuǎn)移到第一拋光單元252a的晶圓載具262a。此處的晶圓是以和拋光站110中相同的晶圓處理方式，在此修正拋光站的第一拋光單元252a的晶圓載具262a到最后的晶圓轉(zhuǎn)移站285d中處理。在此修正拋光站中，第一拋光單元252a的晶圓載具262a可以在位于第一拋光單元252a和第二拋光單元252b之間的晶圓轉(zhuǎn)移站285b清洗。
一般而言，此修正拋光站包括N個(gè)拋光單元252、及N個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285，其中N為大于或等于2的整數(shù)。第一晶圓輸送裝置150是將晶圓轉(zhuǎn)移到第一拋光單元252的晶圓載具262，而第二晶圓輸送裝置210是將晶圓自最后的晶圓轉(zhuǎn)移站285移走。
圖29的拋光站110也可以藉由移除最后的晶圓轉(zhuǎn)移站285d修正，使得第二晶圓輸送裝置210可以直接將晶圓自第三拋光單元252c的晶圓載具262c轉(zhuǎn)移。此處的晶圓是以和拋光站110中相同的晶圓處理方式，在此修正拋光站的第一晶圓轉(zhuǎn)移站285a到第三拋光單元252c的晶圓載具262c中處理。在此修正拋光站中，第三晶圓載具262c可以在位于第二和第三拋光臺256b和256c之間的晶圓轉(zhuǎn)移站285c清洗。
一般而言，此修正拋光站包括N個(gè)拋光單元252、及N個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285，其中N為大于或等于2的整數(shù)。第一晶圓輸送裝置150是將晶圓轉(zhuǎn)移到第一晶圓轉(zhuǎn)移站285，而第二晶圓輸送裝置210是將晶圓自最后拋光單元252的晶圓載具262移走。
圖29的拋光站110還可以藉由移除第一和最后晶圓轉(zhuǎn)移站285a和285d修正，使得第一晶圓輸送裝置150可以直接將晶圓轉(zhuǎn)移到第一拋光單元252a的晶圓載具262，及第二晶圓輸送裝置210可以直接將晶圓自第三拋光單元252c的晶圓載具262c移走。此處的晶圓是以和拋光站110中相同的晶圓處理方式，在此修正拋光站第一拋光單元252a晶圓載具262a到第三拋光單元252c的晶圓載具262c中處理。在此修正拋光站中，第一晶圓載具262a可以在位于第一和第二拋光臺256a和256b之間的晶圓轉(zhuǎn)移站285b清洗。此外，第三晶圓載具262c可以在位于第二和第三拋光臺256b和256c之間的晶圓轉(zhuǎn)移站285c清洗。
一般而言，此修正拋光站包括N個(gè)拋光單元252、及N-1個(gè)晶圓轉(zhuǎn)移站285，其中N為大于或等于2的整數(shù)。第一晶圓輸送裝置150是將晶圓轉(zhuǎn)移到第一拋光單元252的晶圓載具262，而第二晶圓輸送裝置210是將晶圓自最后拋光單元252的晶圓載具262移走。
下面請參閱圖31所示，說明根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的拋光站120。拋光站120可以用在圖1的拋光設(shè)備10中，取代拋光站20。圖31為拋光站120的俯視圖。
拋光站120包括第一拋光單元251a、第二拋光單元251b、及晶圓輸送裝置160。晶圓輸送裝置160是位在第一和第二拋光單元251a和251b之間，且將晶圓自第一拋光單元251a的晶圓載具262a和262a′轉(zhuǎn)移到第二拋光單元251b的晶圓載具262b和262b′。拋光站120毗鄰第一晶圓輸送裝置150的側(cè)是拋光站的輸入端，以接收晶圓進(jìn)入拋光站。拋光站120毗鄰第二晶圓輸送裝置210的側(cè)是拋光站的輸出端，以自拋光站輸出已拋光的晶圓。拋光站120的輸入端和輸出端最好位在拋光站的相對側(cè)。
晶圓輸送裝置160可被安置在線性軌道165上，使得晶圓輸送裝置160可以在線性軌道165上，以線性方式移動。例如，晶圓輸送裝置160可包括機(jī)械臂，以處理晶圓的轉(zhuǎn)移。晶圓輸送裝置160還可被建構(gòu)以包括雙機(jī)械臂，使得晶圓輸送裝置可以一次處理2片晶圓。
如圖31所示，拋光站120還可以包括清洗站157a-157c。當(dāng)晶圓輸送裝置150、160、和210的晶圓固定部分156、166、和176需要清洗時(shí)，晶圓固定部分156、166、和176會被分別送到清洗站157a-157c清洗。
各清洗站157都包括第一多口噴嘴，以噴灑或噴射DI水或清潔化學(xué)溶液，如KOH，以清洗晶圓輸送裝置150、160、和210的其中之一的晶圓固定部分。各清洗站157還可包括第二多口噴嘴，以噴射氣體，如氮?dú)?，以移除附著到晶圓輸送裝置150、160、和210的其中之一的晶圓固定部分的研磨液顆粒。
用在拋光站120的各拋光單元251，可包括中央流體組件275，以提供用于研磨液和DI水的流體通道。下面參照圖32詳細(xì)說明中央流體組件，其中圖32為拋光單元251a。中央流體組件275包括分別供應(yīng)研磨液和DI水到聯(lián)合拋光臺256的第一流體噴嘴276和第二流體噴嘴277。中央流體組件275還可包括分別將DI水噴射到晶圓載具262a和262b的第一噴嘴278和第二噴嘴279。各中央流體組件275最好是安裝在個(gè)別拋光單元251的拋光臺256的中央。
下面參照圖31說明拋光站120處理晶圓的方法。首先，藉由第一晶圓輸送裝置150，將第一晶圓轉(zhuǎn)移到第一拋光單元251a的第一晶圓載具262a，然后第一晶圓載具262a使用在拋光臺256a上的拋光墊255a拋光第一晶圓。其次，藉由第一晶圓輸送裝置150，將第二晶圓轉(zhuǎn)移到第一拋光單元251a的第二晶圓載具262a′，然后第二晶圓載具262a′使用在拋光臺256a上的拋光墊255a拋光第二晶圓。
其次，在完成第一晶圓的拋光制程之后，自拋光臺256a升起第一晶圓載具262a到其晶圓載入/載出位置，然后晶圓輸送裝置160將第一晶圓轉(zhuǎn)移到第二拋光單元251b的第一晶圓載具262b。然后，第二拋光單元251b的第一晶圓載具262b使用在拋光臺256b上的拋光墊255b拋光第一晶圓。
其次，在完成第一拋光單元251a中的第二晶圓的拋光制程之后，自拋光臺256a升起第一拋光單元251a的第二晶圓載具262a′到其晶圓載入/載出位置，然后晶圓輸送裝置160將第二晶圓自第一拋光單元251a的第二晶圓載具262a′，轉(zhuǎn)移到第二拋光單元251b的第二晶圓載具262b′。第二拋光單元251b的第二晶圓載具262b′，使用在第二拋光單元251b的拋光臺256b上的拋光墊255b拋光第二晶圓。
其次，在完成拋光單元251b中第一和第二晶圓的拋光制程之后，自拋光臺256b升起第二拋光單元251b的第一和第二晶圓載具262b和262b′，到其各自的晶圓載入/載出位置，然后第二晶圓輸送裝置210將第一和第二晶圓自第一和第二晶圓載具262b和262b′移走，接著將晶圓送到拋光設(shè)備10中的下一站。
一般而言，拋光站120可以包括N個(gè)拋光單元251、及N-1個(gè)晶圓輸送裝置160，其中N為大于或等于1的整數(shù)。各晶圓輸送裝置160是位在2個(gè)相鄰拋光單元251之間，且將晶圓自一拋光單元251的2個(gè)晶圓載具262轉(zhuǎn)移到另一拋光單元251的2個(gè)晶圓載具262。第一晶圓輸送裝置150是將要拋光的晶圓轉(zhuǎn)移到第一拋光單元的晶圓載具262，而第二晶圓輸送裝置210是將已拋光的晶圓自最后拋光單元251的晶圓載具262移走。
下面請參閱圖33所示，說明根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的拋光站130。拋光站130可以用在圖1的拋光設(shè)備10中，取代拋光站20。圖34為拋光站130的俯視圖。
拋光站130包括第一拋光單元135a、第二拋光單元135b、及晶圓輸送裝置160。晶圓輸送裝置160是位在第一和第二拋光單元135a和135b之間，且將晶圓自第一拋光單元135a轉(zhuǎn)移到第二拋光單元135b。
各拋光單元135都包括一個(gè)拋光臺256、2個(gè)晶圓載具262、及2個(gè)晶圓中繼裝置280x和280y。2個(gè)晶圓載具262都位在拋光臺256之上。第一晶圓中繼裝置280x是位在晶圓載具的右側(cè)，而第二晶圓中繼裝置280y是位在晶圓載具的左側(cè)。
因此，樞軸旋轉(zhuǎn)桿284和載入/載出載杯282的樞軸旋轉(zhuǎn)軸最好是位在拋光臺256之上。為了將樞軸旋轉(zhuǎn)桿284定位在拋光臺256之上，最好將樞軸旋轉(zhuǎn)/垂直驅(qū)動機(jī)構(gòu)286安置到和安置晶圓載具組件260相同的上收納室(未圖示)。
示于圖33的各拋光站的載入/載出載杯282x和282y是位在其各自的停放位置X和Y。第一晶圓中繼裝置280x的載入/載出載杯282x可以藉由個(gè)別的樞軸旋轉(zhuǎn)移動A和B，被樞軸旋轉(zhuǎn)到2個(gè)晶圓載具262a和262a′或262b和262b′的晶圓載入/載出位置。第二晶圓中繼裝置280y的載入/載出載杯282y可以藉由個(gè)別的樞軸旋轉(zhuǎn)移動C和D，被樞軸旋轉(zhuǎn)到2個(gè)晶圓載具262a和262a′或262b和262b′的晶圓載入/載出位置。
下面參照圖33說明拋光站130中處理晶圓的方法。首先，藉由第一晶圓輸送裝置150，將第一晶圓供應(yīng)到在停放位置X的第一拋光單元135a的第一載入/載出載杯282x。其次，第一載入/載出載杯282x藉由其樞軸旋轉(zhuǎn)移動A，將晶圓轉(zhuǎn)移到第一拋光單元135a的第一晶圓載具262a。其次，第一載入/載出載杯282x樞軸旋轉(zhuǎn)回到停放位置X，然后第一晶圓載具262a使用拋光臺256a上的拋光墊255a拋光第一晶圓W1。
其次，藉由第一晶圓輸送裝置150，將第二晶圓供應(yīng)到第一載入/載出載杯282x，然后，第一載入/載出載杯282x藉由其樞軸旋轉(zhuǎn)移動B，將第二晶圓轉(zhuǎn)移到第二晶圓載具262a′。其次，第一載入/載出載杯282x樞軸旋轉(zhuǎn)回到停放位置X，然后第二晶圓載具262a′使用拋光臺256a上的拋光墊255a拋光第二晶圓W2。
其次，在完成第一晶圓的拋光制程之后，自拋光臺256a升起第一晶圓載具262a，然后第二載入/載出載杯282y藉由其樞軸旋轉(zhuǎn)移動C，自第一晶圓載具262a移走第一晶圓。其次，第一拋光單元135a的第二載入/載出載杯282y樞軸旋轉(zhuǎn)回到其停放位置Y，然后藉由晶圓輸送裝置160，將第一晶圓自第一拋光單元135a的第二載入/載出載杯282y轉(zhuǎn)移到第二拋光單元135b的第一載入/載出載杯282x′。
其次，第一載入/載出載杯282x′藉由其樞軸旋轉(zhuǎn)移動A，將晶圓轉(zhuǎn)移到第二拋光單元135b的第一晶圓載具262b。其次，第一載入/載出載杯282x′樞軸旋轉(zhuǎn)回到停放位置X，然后第一晶圓載具262b使用在拋光臺256b上的拋光墊255b拋光第一晶圓。
其次，在完成第二晶圓的拋光制程之后，自拋光臺256a升起第二晶圓載具262a′，然后第二載入/載出載杯282y藉由其樞軸旋轉(zhuǎn)移動D，自第二晶圓載具262a′移出第二晶圓。其次，第一拋光單元135a的第二載入/載出載杯282y樞軸旋轉(zhuǎn)回到其停放位置Y，然后藉由晶圓輸送裝置160，將第二晶圓自第一拋光單元135a的第二載入/載出載杯282y，轉(zhuǎn)移到第二拋光單元135b的第一載入/載出載杯282x′。
其次，第一載入/載出載杯282x′藉由其樞軸旋轉(zhuǎn)移動B，將第二晶圓轉(zhuǎn)移到第二拋光單元135b的第二晶圓載具262b′。其次，第一載入/載出載杯282x′樞軸旋轉(zhuǎn)回到停放位置X，然后第二晶圓載具262b′使用在拋光臺256b上的拋光墊255b拋光第一晶圓。
其次，在完成第一晶圓的拋光制程之后，自拋光臺256b升起第一晶圓載具262b，然后第二載入/載出載杯282y′藉由其樞軸旋轉(zhuǎn)移動C，自第一晶圓載具262b移出第一晶圓。其次，第二拋光單元135b的第二載入/載出載杯282y樞軸旋轉(zhuǎn)回到其停放位置Y，然后藉由晶圓輸送裝置210，自第二拋光單元135b的第二載入/載出載杯282y移出第一晶圓。
其次，在完成第二晶圓的拋光制程之后，自拋光臺256b升起第二晶圓載具262b′，然后第二載入/載出載杯282y′藉由其樞軸旋轉(zhuǎn)移動D，自第二晶圓載具262b′移出第二晶圓。其次，第二拋光單元135b的第二載入/載出載杯282y樞軸旋轉(zhuǎn)回到其停放位置Y，然后藉由晶圓輸送裝置210，自第二拋光單元135b的第二載入/載出載杯282y移出第二晶圓。
一般而言，拋光站130可以包括N個(gè)拋光單元135和N-1個(gè)晶圓輸送裝置160，其中N為大于或等于1的整數(shù)。各晶圓輸送裝置160是位在2個(gè)相鄰拋光單元135之間，且將晶圓自一拋光單元135的晶圓中繼裝置280y轉(zhuǎn)移到另一拋光單元135的晶圓中繼裝置280x。第一晶圓輸送裝置150是將拋光的晶圓轉(zhuǎn)移到第一拋光單元135的晶圓中繼裝置280x，而第二晶圓輸送裝置210是將已拋光晶圓自最后拋光單元135的晶圓中繼裝置280y移出。
下面請參閱圖34(a)到圖34(c)所示，說明根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的拋光單元140a-140c。這些拋光單元140a-140c都可以用在圖33的拋光站130中，取代拋光單元135。圖34(a)到圖34(c)分別為拋光單元140a-140c的俯視圖。
除了其包括2個(gè)拋光臺256a和256b，使得2個(gè)晶圓載具262和262′的每一個(gè)都可以使用在個(gè)別拋光臺256上的拋光墊255拋光晶圓之外，圖34(a)的拋光單元140a類似于圖33的拋光單元135。除了各晶圓載具262都使用拋光單元140a中個(gè)別拋光臺256上的拋光墊255拋光晶圓之外，在具有拋光單元140a的拋光站130中處理晶圓的方法，類似于參照圖33說明，在具有拋光單元135的拋光站130中處理晶圓的方法。
圖34(b)的拋光單元140b可以藉由自拋光單元140a移除晶圓中繼裝置280y，根據(jù)圖33(a)的拋光單元135推演而得。拋光單元140b可以定位在拋光站130中，使得晶圓中繼裝置280位在第一晶圓輸送裝置150隔壁。在此組態(tài)中，晶圓是藉由第一晶圓輸送裝置150供應(yīng)到晶圓中繼裝置280，然后藉由晶圓中繼裝置280載入在2個(gè)晶圓載具262和262′之上。已拋光晶圓是藉由晶圓輸送裝置160自晶圓載具262和262′移出，然后轉(zhuǎn)移到包括在拋光站130中的第二拋光單元140b。
在另一組態(tài)中，拋光單元140b可只包括晶圓中繼裝置280y，而不是晶圓中繼裝置280x。在此另一組態(tài)中，晶圓是藉由第一晶圓輸送裝置150，直接供應(yīng)到2個(gè)晶圓載具262和262′。已拋光晶圓是藉由晶圓中繼裝置280y自晶圓載具262和262′個(gè)別移出。因?yàn)榫A中繼裝置280y是位在晶圓載具262和262a與晶圓輸送裝置160之間，所以藉由晶圓輸送裝置160，已拋光晶圓可以自晶圓中繼裝置280y轉(zhuǎn)移到包括在拋光站130中的第二拋光單元140b。
圖34(c)的拋光單元140c可以藉由將2個(gè)晶圓中繼裝置280x和280y定位在2個(gè)晶圓載具262和262′的相同側(cè)上，根據(jù)拋光單元135推演而得。在圖示的組態(tài)中，2個(gè)晶圓中繼裝置280x和280y都定位在2個(gè)晶圓載具262和262′的右側(cè)。拋光單元140c可以定位在拋光站130之中，使得晶圓中繼裝置280x和280y可以位在第一晶圓輸送裝置150的隔壁。在此組態(tài)中，晶圓是藉由第一晶圓輸送裝置150供應(yīng)到晶圓中繼裝置280x和280y，然后藉由晶圓中繼裝置280x和280y，分別載入在2個(gè)晶圓載具262和262′之上。已拋光晶圓是藉由晶圓輸送裝置160自晶圓載具262和262′移出，然后轉(zhuǎn)移到包括在拋光站130中的第二拋光單元140c。
在另一組態(tài)中，2個(gè)晶圓中繼裝置280x和280y都定位在2個(gè)晶圓載具262和262′的左側(cè)。在此另一組態(tài)中，晶圓是藉由第一晶圓輸送裝置150，直接供應(yīng)到2個(gè)晶圓載具262和262′。已拋光晶圓是分別藉由晶圓中繼裝置280x和280y自晶圓載具262和262′移出。因?yàn)榫A中繼裝置280x和280y是位在晶圓載具262和262′與晶圓輸送裝置160之間，所以藉由晶圓輸送裝置160，已拋光晶圓可以自晶圓中繼裝置280x和280y轉(zhuǎn)移到包括在拋光站130中的第二拋光單元140c。
拋光單元140b和140c可以修正，以具有2個(gè)拋光臺256，使得2個(gè)晶圓載具262和262′可以在個(gè)別的拋光臺256上拋光晶圓。
下面請參閱圖35所示，說明根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的晶圓中繼裝置500。圖35為晶圓中繼裝置500。晶圓中繼裝置500包括參照圖3(a)和圖3(b)說明的載入/載出載杯282，上升/下降裝置520，如升降桿、載杯上升/下降機(jī)構(gòu)530、樞軸旋轉(zhuǎn)臂283、樞軸旋轉(zhuǎn)桿284、及載杯驅(qū)動機(jī)構(gòu)286。載杯上升/下降機(jī)構(gòu)530是連接到流體通道550，且藉由流過流體通道550供應(yīng)的流體操作。氮?dú)馐且豢梢允褂靡粤黧w例。可以收納要載入在晶圓載具262上的半導(dǎo)體晶圓的任何型式載入/載出載杯，都可以用在晶圓中繼裝置500之中。
載入/載出載杯282是連接到上升/下降裝置520，而上升/下降裝置520則連接到載杯上升/下降機(jī)構(gòu)530。載杯上升/下降機(jī)構(gòu)530是被安置到樞軸旋轉(zhuǎn)臂283。樞軸旋轉(zhuǎn)臂283被連接到樞軸旋轉(zhuǎn)桿284，而樞軸旋轉(zhuǎn)桿284則連接到載杯驅(qū)動機(jī)構(gòu)286。載杯驅(qū)動機(jī)構(gòu)286經(jīng)由樞軸旋轉(zhuǎn)桿284、樞軸旋轉(zhuǎn)臂283、載杯上升/下降機(jī)構(gòu)530、及上升/下降裝置520，控制載入/載出載杯282的樞軸旋轉(zhuǎn)移動。
為了將晶圓W載入在晶圓載具262上，及自其載出，載入/載出載杯282是朝向晶圓載具262樞軸旋轉(zhuǎn)。然后藉由上升/下降裝置520的垂直移動，載入/載出載杯朝向晶圓載具262向上移動。然后，晶圓載具262自載入/載出載杯282接收晶圓。在此載入過程期間，載入/載出載杯282接收一來自晶圓載具262的垂直作用力。為了吸收此作用力，可以設(shè)計(jì)載杯上升/下降機(jī)構(gòu)530，使具有作用力感測機(jī)構(gòu)(未圖示)及作用力吸收機(jī)構(gòu)(未圖示)，如空氣墊緩沖機(jī)構(gòu)。作用力吸收機(jī)構(gòu)可以吸收作用在載入/載出載杯282上的作用力。
晶圓中繼裝置500可以使用氣囊當(dāng)作上升/下降裝置520。一藉由使用經(jīng)由流體通道550供應(yīng)的流體，使氣囊膨脹和緊縮，氣囊可以使載入/載出載杯282上升和下降。
下面請參閱圖36、圖37(a)、和圖37(b)所示，說明根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的載入/載出載杯380。載入/載出載杯380可以用在圖1的晶圓中繼裝置280、圖9的晶圓中繼裝置281、圖19的雙載杯晶圓中繼裝置680、及圖18的晶圓轉(zhuǎn)移站285中，取代載入/載出載杯282。圖36是載入/載出載杯380的俯視圖。圖39(a)和圖39(b)是圖36所示的載入/載出載杯380，分別沿著線PP和QQ的橫截面圖。
載入/載出載杯380是藉由樞軸旋轉(zhuǎn)臂283連接到樞軸旋轉(zhuǎn)桿284。載入/載出載杯380也有可能不用樞軸旋轉(zhuǎn)臂283而直接連接到樞軸旋轉(zhuǎn)桿284。樞軸旋轉(zhuǎn)桿284是連接到載杯驅(qū)動機(jī)構(gòu)286。載杯驅(qū)動機(jī)構(gòu)286經(jīng)由樞軸旋轉(zhuǎn)桿284和樞軸旋轉(zhuǎn)臂283，控制載入/載出載杯380的樞軸旋轉(zhuǎn)和垂直移動。
載入/載出載杯380包括杯座290、杯環(huán)295、晶圓氣囊400、晶圓氣囊固定座405、許多對準(zhǔn)器420、許多放射氣囊422、許多垂直氣囊423、許多垂直氣囊固定座424、第一多口噴嘴340、第二多口噴嘴350、許多排泄口360、第一流體通道370、第二流體通道371、第三流體通道372、第四流體通道373、及第五流體通道374。流體通道370，371，372和373可以經(jīng)由樞軸旋轉(zhuǎn)臂283和樞軸旋轉(zhuǎn)桿284，連接到流體源(未圖示)，如圖36所示。杯座290和杯環(huán)295可以一起視為晶圓支撐結(jié)構(gòu)。
如圖37(a)和圖37(b)所示，晶圓氣囊400是被安置在晶圓氣囊固定座405上，而晶圓氣囊固定座405是被安置在杯座290的上表面上。晶圓氣囊400是藉由經(jīng)由第一流體通道370，供應(yīng)流體進(jìn)入氣囊400和自氣囊移去流體而膨脹和緊縮。氮?dú)饪梢杂米魇咕A氣囊400膨脹和緊縮的氣體。
各放射氣囊422都會連接一個(gè)對準(zhǔn)器420到被安置在杯座290上的杯環(huán)295。各放射氣囊422是藉由經(jīng)由第二流體通道371，供應(yīng)流體進(jìn)入放射氣囊422和自放射氣囊422移去流體而膨脹和緊縮。氮?dú)饪梢杂米魇狗派錃饽?22膨脹和緊縮的氣體。
各垂直氣囊423都會連接一個(gè)對準(zhǔn)器420到垂直氣囊固定座424。各垂直氣囊423是藉由經(jīng)由第四流體通道373，供應(yīng)流體進(jìn)入垂直氣囊423和自垂直氣囊423移去流體而膨脹和緊縮。氮?dú)饪梢杂米魇勾怪睔饽?23膨脹和緊縮的氣體。
各對準(zhǔn)器420都有包括第一垂直面425a、第二垂直面425b、第一水平面426a和第二水平面426b，如圖37(a)所示。晶圓是被定位在對準(zhǔn)器420的第一水平面426a上。水平面426a和426b可以分別藉由垂直氣囊423的膨脹和緊縮，向上和向下移動。垂直面425a和425b可以分別藉由放射氣囊422的膨脹和緊縮，向內(nèi)和向外移動。
如圖37(a)和圖37(b)所示，第一多口噴嘴340和排泄口360是被安置在杯座290的上表面上，而第二多口噴嘴350是被安置在杯環(huán)295。第一和第二多口噴嘴340和350是連接到第三流體通道372，而且噴灑經(jīng)由第三流體通道372供應(yīng)的DI水。使用過的DI水則經(jīng)由連接到排泄口360的第五流體通道374排泄。
下面請參閱圖38(a)到圖38(f)所示，說明自載入/載出載杯380載入晶圓W在晶圓載具262上，及自晶圓載具262載出晶圓W在載入/載出載杯380的方法。圖38(a)到圖38(f)為載入/載出載杯380的順序橫截面圖。在圖38(a)中，藉由緊縮垂直和放射氣囊422和423，將對準(zhǔn)器420定位在向外和向下的位置。然后藉由晶圓輸送裝置150，將晶圓W轉(zhuǎn)移到載入/載出載杯380，且放置在對準(zhǔn)器420的第一水平面426a上。
其次，如圖38(b)所示，載入/載出載杯380被轉(zhuǎn)移到在晶圓載具262下的晶圓載入/載出位置。晶圓載具262包括加強(qiáng)環(huán)289，以限制在拋光制程期間的晶圓。其次，如圖38(c)所示，藉由膨脹垂直氣囊423，將對準(zhǔn)器420向上移動，直到對準(zhǔn)器420的第二水平面426b接觸到加強(qiáng)環(huán)289的底面483。對準(zhǔn)器420的第二垂直面425b的高度，最好設(shè)計(jì)成大于晶圓W的厚度。
其次，如圖38(d)所示，藉由膨脹放射氣囊422，將對準(zhǔn)器420向內(nèi)移動，直到對準(zhǔn)器420的第一垂直面425a接觸到晶圓載具262的加強(qiáng)環(huán)289的外表面。當(dāng)對準(zhǔn)器420向內(nèi)移動時(shí)，一些對準(zhǔn)器420的第二垂直面425b會接觸到晶圓，且使晶圓向內(nèi)移動。當(dāng)對準(zhǔn)器420的向內(nèi)移動藉由加強(qiáng)環(huán)289的外表面停止時(shí)，晶圓會自動水平對準(zhǔn)，使得晶圓可以安全地載入在加強(qiáng)環(huán)289的晶圓載具262上。為了達(dá)到此晶圓的自動對準(zhǔn)，對準(zhǔn)器420的第二水平面426b的寬度應(yīng)大于加強(qiáng)環(huán)289的底面483的寬度。
與其先將對準(zhǔn)器420向上移動再向內(nèi)移動，不如對準(zhǔn)器可以先向內(nèi)移動再向上移動。對準(zhǔn)器420也有可能向內(nèi)和向上同時(shí)移動。
其次，如圖38(e)所示，藉由膨脹晶圓氣囊400，將晶圓轉(zhuǎn)移(升起)到晶圓載具262。晶圓載具262使用經(jīng)由真空通道285供應(yīng)的真空接收晶圓。其次，如圖38(f)所示，在晶圓被藉由晶圓載具262接收之后，緊縮晶圓氣囊400，且藉由緊縮放射和垂直氣囊422和423，將對準(zhǔn)器420向外及向下移動。
為了將晶圓自晶圓載具262載出在載入/載出載杯380，如參照圖38(b)到圖38(d)的說明，載入/載出載杯380被定位在晶圓載具262下方，且將對準(zhǔn)器420向上及向內(nèi)移動，使得載入/載出載杯380對準(zhǔn)晶圓載具262。然后將晶圓自晶圓載具262載出到對準(zhǔn)器420的第一水平面426a。如圖38(e)所示，在晶圓氣囊400膨脹之后，晶圓也有可能被載出到晶圓氣囊400。在將晶圓載出到載入/載出載杯380之前或之后，可以用自載入/載出載杯380的第一和第二多口噴嘴340和350噴灑的DI水，清洗晶圓載具262和晶圓。
下面請參閱圖39的流程圖，說明根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例拋光物體，如半導(dǎo)體晶圓，的方法。在方塊3902，將物體轉(zhuǎn)移到位在第一拋光面上方的第一物體載具。其次，在方塊3904，物體在第一拋光面上使用第一物體載具拋光。其次，在方塊3906，使用第一載入/載出載杯，將物體自第一物體載具轉(zhuǎn)移到位在第二拋光面上方的第二物體載具。物體自第一物體載具到第二物體載具的轉(zhuǎn)移，包括繞著樞軸旋轉(zhuǎn)軸樞軸旋轉(zhuǎn)載入/載出載杯。其次，在方塊3908，物體在第二拋光面上使用第二物體載具拋光。其次，在方塊3910，將物體轉(zhuǎn)移到位在第一和第二物體載具其中之一附近的第二載入/載出載杯，以將物體載入在第一物體載具上，或自第二物體載具載出物體。
下面請參閱圖40的流程圖，說明根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例拋光物體的方法。在方塊4002，使用許多載入/載出載杯，將物體順序轉(zhuǎn)移到位在許多拋光面上方的許多物體載具。順序轉(zhuǎn)移在物體載具之間的物體，包括繞著樞軸旋轉(zhuǎn)軸樞軸旋轉(zhuǎn)每一個(gè)載入/載出載杯，使晶圓可以在物體載具的2個(gè)相鄰物體載具之間轉(zhuǎn)移。其次，在方塊4004，物體在拋光面上使用物體載具順序拋光。
下面請參閱圖41的流程圖，說明根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例拋光物體的方法。在方塊4102，將物體轉(zhuǎn)移到位在第一拋光面上方的第一物體載具。其次，在方塊4104，物體在第一拋光面上使用第一物體載具拋光。其次，在方塊4106，使用載入/載出載杯，將物體自第一物體載具轉(zhuǎn)移到位在第二拋光面上方的第二物體載具。物體自第一物體載具的轉(zhuǎn)移，包括載入/載出載杯自第一物體載具到第二物體載具的線性移位。其次，在方塊4108，物體在第二拋光面上使用第二物體載具拋光。
下面請參閱圖42的流程圖，說明根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例拋光物體的方法。在方塊4202，在物體拋光站的輸入?yún)^(qū)接收物體。其次，在方塊4204，使用物體拋光站的許多物體載具，將物體順序轉(zhuǎn)移到物體拋光站的許多拋光面。其次，在方塊4206，物體在拋光面上使用物體載具順序拋光。其次，在方塊4208，使用物體載具的第一物體載具，將物體自拋光面的第一相鄰拋光面，轉(zhuǎn)移到物體拋光站的物體轉(zhuǎn)移站。其次，在方塊4210，使用物體載具的第二物體載具，將物體自物體拋光站轉(zhuǎn)移到拋光面的第二相鄰拋光面。其次，在方塊4212，在物體已在拋光面上拋光之后，將物體自物體拋光站的輸出區(qū)輸出。
下面請參閱圖43的流程圖，說明根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例拋光物體的方法。在方塊4302，使用第一物體輸送裝置，將第一和第二物體轉(zhuǎn)移到物體拋光單元的第一終端。其次，在方塊4304，在物體拋光單元的至少一個(gè)拋光面上，使用物體拋光單元的第一物體載具拋光第一物體。其次，在方塊4306，在至少一個(gè)拋光面上，使用物體拋光單元的第二物體載具拋光第二物體。其次，在方塊4308，使用第二物體輸送裝置，將第一和第二物體自物體拋光單元的第二終端轉(zhuǎn)移出去。第一和第二終端是位在物體拋光單元的相反端。
以上所述，僅是本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并非對本發(fā)明作任何形式上的限制，雖然本發(fā)明已以較佳實(shí)施例揭露如上，然而并非用以限定本發(fā)明，任何熟悉本專業(yè)的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案范圍內(nèi)，當(dāng)可利用上述揭示的方法及技術(shù)內(nèi)容作出些許的更動或修飾為等同變化的等效實(shí)施例，但是凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)對以上實(shí)施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種用于拋光物體的設(shè)備，其特征在于該設(shè)備包括位在第一拋光面上的第一物體載具；位在第二拋光面上的第二物體載具；位在該第一和第二物體載具之間的第一物體中繼裝置，該第一物體中繼裝置包括第一載入/載出載杯和第一樞軸旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)，該第一樞軸旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)被建構(gòu)，以繞著第一樞軸旋轉(zhuǎn)軸，樞軸旋轉(zhuǎn)該第一載入/載出載杯來回該第一和第二物體載具，將該物體自該第一物體載具轉(zhuǎn)移到該第二物體載具；以及位在該第一和第二物體載具其中之一附近的第二物體中繼裝置，該第二物體中繼裝置包括第二載入/載出載杯和第二樞軸旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)，該第二樞軸旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)被建構(gòu)，以繞著第二樞軸旋轉(zhuǎn)軸，樞軸旋轉(zhuǎn)該第二載入/載出載杯來回該第一和第二物體載具其中之一，將該物體轉(zhuǎn)移到第一物體載具，或自該第二物體載具移出。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于其中所述的第一和第二物體載具是以第一線性方式排列，而該第一和第二物體中繼裝置的該第一和第二載入/載出載杯的停放位置，是以第二線性方式排列，使得該第一和第二物體載具定位在大致平行位在該停放位置的該第一和第二載入/載出載杯。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其特征在于其中所述的第一和第二物體載具之間的距離大致等于該停放位置之間的距離。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于還包括建構(gòu)清洗該物體的物體清洗器，該物體清洗器被定位，使得該物體清洗器的較長側(cè)毗鄰由該第一和第二拋光面界定的區(qū)域的較長側(cè)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于還包括將該物體轉(zhuǎn)移到該第一物體載具，或該第二物體中繼裝置的該第二載入/載出載杯的一第一物體輸送裝置，及將該物體自該第二物體載具或自該第二載入/載出載杯轉(zhuǎn)移出去的一第二物體輸送裝置。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于其中所述的第二物體中繼裝置是位在該第一物體載具附近，使得該第一物體載具位在該第一和第二物體中繼裝置之間，而且還包括位在該第二物體載具附近的第三物體中繼裝置，使得該第二物體載具位在該第一物體中繼裝置和該第三物體中繼裝置之間，該第三物體中繼裝置包括第三載入/載出載杯和第三樞軸旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)，該第三樞軸旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)被建構(gòu)，以繞著第三樞軸旋轉(zhuǎn)軸，樞軸旋轉(zhuǎn)該第三載入/載出載杯來回該第二物體載具，將該物體自該第二物體載具轉(zhuǎn)移出去。
7.一種用于拋光物體的方法，其特征在于該方法包括以下步驟將物體轉(zhuǎn)移到位在第一拋光面上方的第一物體載具；在該第拋光面上，使用該第一物體載具拋光該物體；使用第一載入/載出載杯，將該物體自該第一物體載具轉(zhuǎn)移到位在第二拋光面上方的第二物體載具，其中包括繞著樞軸旋轉(zhuǎn)軸樞軸旋轉(zhuǎn)該載入/載出載杯；在該第二拋光面上，使用該第二物體載具拋光該物體；及將該物體轉(zhuǎn)移到位在該第一和第二物體載具其中之一附近的第二載入/載出載杯，以載入該物體在該第一物體載具之上，或自該第二物體載具載出該物體。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于還包括將該物體轉(zhuǎn)移到該第一物體載具或該第二載入/載出載杯，及將該物體自該第二載入/載出載杯或自該第二物體載具轉(zhuǎn)移出去。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于還包括將該物體自該第二物體載具轉(zhuǎn)移到位在該第二物體載具附近的第三載入/載出載杯。
10.一種用于拋光物體的設(shè)備，其特征在于該設(shè)備包括許多位在許多拋光面上方的物體載具；及許多位在該物體載具之間的物體中繼裝置，使得至少有一個(gè)物體中繼裝置是位在2個(gè)相鄰的物體載具之間，各物體中繼裝置都包括一個(gè)載入/載出載杯和一個(gè)樞軸旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)，該樞軸旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)被建構(gòu)，以繞著樞軸旋轉(zhuǎn)軸，樞軸旋轉(zhuǎn)該載入/載出載杯來回該2個(gè)相鄰的物體載具，在該2個(gè)相鄰的物體載具之間轉(zhuǎn)移該物體。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的設(shè)備，其特征在于其中所述的物體載具是以線性方式排列。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的設(shè)備，其特征在于其中所述的物體中繼裝置的載入/載出載杯的停放位置也是以線性方式排列，使得該物體載具定位大致平行位在該停放位置的該載入/載出載杯。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的設(shè)備，其特征在于其中所述的物體載具與相鄰物體載具之間的距離，大致等于該停放位置與相鄰?fù)７盼恢弥g的距離。
14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的設(shè)備，其特征在于其中所述的物體中繼裝置的載入/載出載杯的停放位置是以線性方式排列。
15.根據(jù)權(quán)利要求10所述的設(shè)備，其特征在于還包括將該物體轉(zhuǎn)移到該物體載具的第一端點(diǎn)物體載具的第一物體輸送裝置，及將該物體自該物體載具的第二端點(diǎn)物體載具轉(zhuǎn)移出去的第二物體輸送裝置。
16.根據(jù)權(quán)利要求10所述的設(shè)備，其特征在于還包括一額外的物體中繼裝置，以將該物體轉(zhuǎn)移到該物體載具的第一端點(diǎn)物體載具，或自其將該物體轉(zhuǎn)移出去，該額外的物體中繼裝置包括載入/載出載杯和樞軸旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的設(shè)備，其特征在于還包括將該物體轉(zhuǎn)移到該額外物體中繼裝置的該載入/載出載杯的第一物體輸送裝置，及將該物體自該物體載具的第二端點(diǎn)物體載具轉(zhuǎn)移出去的第二物體輸送裝置。
18.根據(jù)權(quán)利要求16所述的設(shè)備，其特征在于還包括將該物體轉(zhuǎn)移到該物體載具的第二端點(diǎn)物體載具的第一物體輸送裝置，及將該物體自該額外物體中繼裝置的該載入/載出載杯轉(zhuǎn)移出去的第二物體輸送裝置。
19.根據(jù)權(quán)利要求16所述的設(shè)備，其特征在于還包括將該物體轉(zhuǎn)移到該物體載具的第二端點(diǎn)物體載具的第二額外物體中繼裝置，該第二額外物體中繼裝置包括載入/載出載杯和樞軸旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的設(shè)備，其特征在于還包括將該物體轉(zhuǎn)移到該額外物體中繼裝置的該載入/載出載杯第一物體輸送裝置，及將該物體自該第二額外物體中繼裝置的該載入/載出載杯的第二物體輸送裝置。
21.根據(jù)權(quán)利要求10所述的設(shè)備，其特征在于其中所述的物體載具被排列，使得相鄰物體載具之間的距離大致相等。
22.根據(jù)權(quán)利要求10所述的設(shè)備，其特征在于其中所述的物體中繼裝置的載入/載出載杯的停放位置被排列，使得當(dāng)該載入/載出載杯定位在該停放位置時(shí)，相鄰載入/載出載杯之間的距離大致相等。
23.根據(jù)權(quán)利要求10所述的設(shè)備，其特征在于還包括建構(gòu)清洗該物體的物體清洗器，該物體清洗器被定位，使得該物體清洗器的較長側(cè)毗鄰由該拋光面界定的區(qū)域的較長側(cè)。
24.一種用于拋光物體的方法，其特征在于該方法包括以下步驟使用許多載入/載出載杯，將物體順序轉(zhuǎn)移到位在許多拋光面上的許多物體載具，其中包括繞著樞軸旋轉(zhuǎn)軸，樞軸旋轉(zhuǎn)每一個(gè)該載入/載出載杯，使該物體在該物體載具的2個(gè)相鄰物體載具之間轉(zhuǎn)移；及在該拋光面上，使用該物體載具順序拋光該物體。
25.根據(jù)權(quán)利要求24所述的方法，其特征在于還包括將該物體轉(zhuǎn)移到該物體載具的第一端點(diǎn)物體載具，及將該物體自該物體載具的第二端點(diǎn)物體載具轉(zhuǎn)移出去。
26.根據(jù)權(quán)利要求24所述的方法，其特征在于還包括將該物體轉(zhuǎn)移到位在該物體載具的端點(diǎn)物體載具附近的額外載入/載出載杯，及繞著第二樞軸旋轉(zhuǎn)軸，樞軸旋轉(zhuǎn)該額外載入/載出載杯，使該物體轉(zhuǎn)移到該端點(diǎn)物體載具或自其轉(zhuǎn)移出去。
27.根據(jù)權(quán)利要求26所述的方法，其特征在于還包括將該物體轉(zhuǎn)移到該額外載入/載出載杯，及將該物體自該物體載具的第二端點(diǎn)物體載具轉(zhuǎn)移出去。
28.根據(jù)權(quán)利要求26所述的方法，其特征在于還包括將該物體轉(zhuǎn)移到該物體載具的第二端點(diǎn)物體載具，及將該物體自該額外載入/載出載杯轉(zhuǎn)移出去。
29.根據(jù)權(quán)利要求26所述的方法，其特征在于還包括將該物體轉(zhuǎn)移到位在該物體載具的第二端點(diǎn)物體載具附近的第二額外載入/載出載杯，及繞著第三樞軸旋轉(zhuǎn)軸，樞軸旋轉(zhuǎn)該第二額外載入/載出載杯，使該物體自該第二端點(diǎn)物體載具轉(zhuǎn)移出去。
30.根據(jù)權(quán)利要求29所述的方法，其特征在于還包括將該物體轉(zhuǎn)移到該額外載入/載出載杯，及將該物體自該第二額外載入/載出載杯轉(zhuǎn)移出去。
31.一種用于拋光物體的設(shè)備，其特征在于該設(shè)備包括位在第一拋光面上的第一物體載具；位在第二拋光面上的第二物體載具；位在該第一和第二物體載具之間的物體中繼裝置，該物體中繼裝置包括載入/載出載杯；及連接到該物體中繼裝置操作的線性驅(qū)動機(jī)構(gòu)，該線性驅(qū)動機(jī)構(gòu)被建構(gòu)，是以大致線性往復(fù)移動方式來回該第一和第二物體載具，移動該物體中繼裝置的該載入/載出載杯，將該物體自該第一物體載具轉(zhuǎn)移到該第二物體載具。
32.根據(jù)權(quán)利要求31所述的設(shè)備，其特征在于還包括將該物體轉(zhuǎn)移到該第一物體載具的第一物體輸送裝置，及將該物體自該第二物體載具轉(zhuǎn)移出去的第二物體輸送裝置。
33.根據(jù)權(quán)利要求31所述的設(shè)備，其特征在于還包括位在該第一拋光面上的第一額外物體載具；位在該第二拋光面上的第二額外物體載具；及位在該第一和第二額外物體載具之間的額外物體中繼裝置，該額外物體中繼裝置包括一額外載入/載出載杯，該額外載入/載出載杯是以大致線性往復(fù)移動方式移位，來回該第一和第二額外物體載具，將該物體自該第一額外物體載具轉(zhuǎn)移到該第二額外物體載具。
34.根據(jù)權(quán)利要求33所述的設(shè)備，其特征在于其中所述的額外物體中繼裝置是連接到該物體中繼裝置，使得該額外載入/載出載杯和該載入/載出載杯可以一起線性移動。
35.根據(jù)權(quán)利要求31所述的設(shè)備，其特征在于還包括位在許多拋光面上的許多物體載具，該許多物體載具包括該第一和第二物體載具；及位在該物體載具之間的許多物體中繼裝置，使得至少一個(gè)物體中繼裝置位在2個(gè)相鄰物體載具之間，該物體中繼裝置連接到以線性移動的該線性驅(qū)動機(jī)構(gòu)操作，各物體中繼裝置都包括一載入/載出載杯，該許多物體中繼裝置包括該物體中繼裝置。
36.根據(jù)權(quán)利要求35所述的設(shè)備，其特征在于其中所述的線性驅(qū)動機(jī)構(gòu)被建構(gòu)，以大致線性移動方式共同移動某些該物體中繼裝置。
37.根據(jù)權(quán)利要求35所述的設(shè)備，其特征在于其中所述的線性驅(qū)動機(jī)構(gòu)被建構(gòu)，以大致線性移動方式個(gè)別移動各個(gè)該物體中繼裝置。
38.根據(jù)權(quán)利要求35所述的設(shè)備，其特征在于其中所述的物體載具是以線性方式排列。
39.根據(jù)權(quán)利要求38所述的設(shè)備，其特征在于其中所述的物體中繼裝置的該載入/載出載杯還是以線性方式排列，使得該物體載具定位大致平行該載入/載出載杯。
40.根據(jù)權(quán)利要求39所述的設(shè)備，其特征在于其中所述的物體載具與相鄰物體載具之間的距離，大致等于相鄰物體中繼裝置的載入/載出載杯之間的距離。
41.根據(jù)權(quán)利要求35所述的設(shè)備，其特征在于其中所述的物體中繼裝置的該載入/載出載杯是以線性方式排列。
42.根據(jù)權(quán)利要求35所述的設(shè)備，其特征在于還包括將該物體轉(zhuǎn)移到該物體載具的第一端點(diǎn)物體載具的第一物體輸送裝置，及將該物體自該物體載具的第二端點(diǎn)物體載具轉(zhuǎn)移出去的第二物體輸送裝置。
43.根據(jù)權(quán)利要求35所述的設(shè)備，其特征在于還包括將該物體轉(zhuǎn)移到該物體載具或自該物體載具轉(zhuǎn)移出去的額外物體中繼裝置，該額外物體中繼裝置包括一載入/載出載杯。
44.根據(jù)權(quán)利要求43所述的設(shè)備，其特征在于還包括將該物體轉(zhuǎn)移到該額外物體中繼裝置的該載入/載出載杯的第一物體輸送裝置，及將該物體自該物體載具的第二端點(diǎn)物體載具轉(zhuǎn)移出去的第二物體輸送裝置。
45.根據(jù)權(quán)利要求43所述的設(shè)備，其特征在于還包括將該物體轉(zhuǎn)移到該物體載具的第二端點(diǎn)物體載具的第一物體輸送裝置，及將該物體自該額外物體中繼裝置的該載入/載出載杯轉(zhuǎn)移出去的第二物體輸送裝置。
46.根據(jù)權(quán)利要求43所述的設(shè)備，其特征在于還包括將該物體轉(zhuǎn)移到該物體載具的第二端點(diǎn)物體載具的第二額外物體中繼裝置，該第二額外物體中繼裝置包括載入/載出載杯。
47.根據(jù)權(quán)利要求46所述的設(shè)備，其特征在于還包括將該物體轉(zhuǎn)移到該額外物體中繼裝置的該載入/載出載杯的第一物體輸送裝置，及將該物體自該第二額外物體中繼裝置的該載入/載出載杯轉(zhuǎn)移出去的第二物體輸送裝置。
48.根據(jù)權(quán)利要求35所述的設(shè)備，其特征在于其中所述的物體載具被排列，使得相鄰物體載具之間的距離大致相等。
49.根據(jù)權(quán)利要求35所述的設(shè)備，其特征在于其中所述的物體中繼裝置的該載入/載出載杯被排列，使得當(dāng)該載入/載出載杯是位在個(gè)別的停放位置時(shí)，相鄰載入/載出載杯之間的距離大致相等。
50.根據(jù)權(quán)利要求35所述的設(shè)備，其特征在于還包括位在該許多拋光面上的許多額外物體載具，使得至少一個(gè)該物體載具和至少一個(gè)該額外物體載具位在每一個(gè)該拋光面上方；以及位在該額外物體載具之間的許多額外物體中繼裝置，使得至少一個(gè)額外物體中繼裝置是位在2個(gè)相鄰額外物體載具之間，每一個(gè)該額外物體中繼裝置都包括一個(gè)額外載入/載出載杯，該額外物體中繼裝置的各額外載入/載出載杯是以大致線性往復(fù)移動方式移位，在2個(gè)相鄰額外物體載具之間轉(zhuǎn)移該物體。
51.根據(jù)權(quán)利要求50所述的設(shè)備，其特征在于其中至少一個(gè)該額外物體中繼裝置連接到至少一個(gè)該物體中繼裝置，使得該至少一個(gè)該額外物體中繼裝置的該額外載入/載出載杯，與該至少一個(gè)該物體中繼裝置的該載入/載出載杯可以一起線性移動。
52.根據(jù)權(quán)利要求31所述的設(shè)備，其特征在于還包括建構(gòu)以清洗該物體的物體清洗器，該物體清洗器被定位，使得該物體清洗器的較長側(cè)毗鄰藉由該第一和第二拋光面界定的區(qū)域的較長側(cè)。
53.一種用于拋光物體的方法，其特征在于該方法包括以下步驟將物體轉(zhuǎn)移到位在第一拋光面上的第一物體載具；使用該第一物體載具，拋光在該第一拋光面上的該物體；使用載入/載出載杯，將該物體自該第一物體載具轉(zhuǎn)移到位在第二拋光面上的第二物體載具，其中包括自該第一物體載具線性移位該載入/載出載杯到該第二物體載具；及使用該第二物體載具，拋光在該第二拋光面上的該物體。
54.根據(jù)權(quán)利要求53所述的方法，其特征在于還包括使用第一物體輸送裝置，將該物體轉(zhuǎn)移到該第一物體載具，及使用第二物體輸送裝置，將該物體自該第二物體載具轉(zhuǎn)移出去。
55.根據(jù)權(quán)利要求53所述的方法，其特征在于還包括將第二物體轉(zhuǎn)移到位在該第一拋光面上的第一額外物體載具；使用該第一額外物體載具，拋光在該第一拋光面上的該第二物體；使用額外載入/載出載杯，將該第二物體自該第一額外物體載具轉(zhuǎn)移到位在該第二拋光面上的第二額外物體載具，其中包括自該第一額外物體載具線性移位該額外載入/載出載杯到該第二額外物體載具；及使用該第二額外物體載具，拋光在該第二拋光面上的該第二物體。
56.根據(jù)權(quán)利要求55所述的方法，其特征在于其中將該物體自該第一物體載具到該第二物體載具的該轉(zhuǎn)移，和將該第二物體自該第一額外物體載具到該第二額外物體載具的該轉(zhuǎn)移，包括線性移位該載入/載出載杯和該額外載入/載出載杯。
57.根據(jù)權(quán)利要求53所述的方法，其特征在于其中所述的第一和第二物體載具是位在許多拋光面上的許多物體載具的部分，而且其中該載入/載出載杯是許多載入/載出載杯的部分，其是位在該物體載具之間，使得至少一個(gè)載入/載出載杯位在2個(gè)相鄰物體載具之間。
58.根據(jù)權(quán)利要求57所述的方法，其特征在于其中所述的線性移位該載入/載出載杯包括以大致線性移動方式共同移位某些該載入/載出載杯。
59.根據(jù)權(quán)利要求57所述的方法，其特征在于其中所述的線性移位該載入/載出載杯包括以大致線性移動方式個(gè)別移位該載入/載出載杯。
60.根據(jù)權(quán)利要求57所述的方法，其特征在于還包括將該物體轉(zhuǎn)移到位在該物體載具的第一端點(diǎn)物體載具附近的第一物體輸送裝置，及將該物體轉(zhuǎn)移到位在該物體載具的第二端點(diǎn)物體載具附近的第二物體輸送裝置。
61.根據(jù)權(quán)利要求57所述的方法，其特征在于還包括將該物體轉(zhuǎn)移到位在該物體載具的端點(diǎn)物體載具附近的額外載入/載出載杯，及使用該額外載入/載出載杯，將該物體轉(zhuǎn)移到該端點(diǎn)物體載具，或自其轉(zhuǎn)移出去。
62.根據(jù)權(quán)利要求61所述的方法，其特征在于還包括使用第一物體輸送裝置，將該物體轉(zhuǎn)移到該額外載入/載出載杯，及使用第二物體輸送裝置，將該物體自該物體載具的第二端點(diǎn)物體載具轉(zhuǎn)移出去。
63.根據(jù)權(quán)利要求61所述的方法，其特征在于還包括使用第一物體輸送裝置，將該物體轉(zhuǎn)移到該物體載具的第二端點(diǎn)物體載具，及使用第二物體輸送裝置，將該物體自該額外載入/載出載杯轉(zhuǎn)移出去。
64.根據(jù)權(quán)利要求61所述的方法，其特征在于還包括將該物體轉(zhuǎn)移到位在該物體載具的第二端點(diǎn)物體載具附近的第二額外載入/載出載杯，及使用該第二額外載入/載出載杯，將該物體自該第二端點(diǎn)物體載具轉(zhuǎn)移出去。
65.根據(jù)權(quán)利要求64所述的方法，其特征在于還包括使用第一物體輸送裝置，將該物體轉(zhuǎn)移到該額外載入/載出載杯，及使用第二物體輸送裝置，將該物體自該第二額外載入/載出載杯轉(zhuǎn)移出去。
66.根據(jù)權(quán)利要求57所述的方法，其特征在于還包括將第二物體順序轉(zhuǎn)移到許多額外物體載具，該額外物體載具是位在該許多拋光面上，使得至少一個(gè)該物體載具和至少一個(gè)額外物體載具是位在每一個(gè)該拋光面上方；使用該額外物體載具，順序拋光在該拋光面上的該第二物體；使用許多額外載入/載出載杯，將該第二物體在該額外物體載具之間轉(zhuǎn)移，其中包括在該額外物體載具之間線性移位該額外載入/載出載杯。
67.根據(jù)權(quán)利要求66所述的方法，其特征在于其中所述的第二物體在該額外物體載具之間的該轉(zhuǎn)移，包括一起線性移位至少一個(gè)該額外載入/載出載杯和至少一個(gè)該載入/載出載杯。
68.一種用于拋光物體的設(shè)備，其特征在于該設(shè)備包括具有接收該物體的輸入?yún)^(qū)和輸出該物體的輸出區(qū)的物體拋光站，該物體拋光站包括許多拋光面；位在該拋光面的2個(gè)相鄰拋光面之間的物體轉(zhuǎn)移站；許多物體載具，每一個(gè)該物體載具被建構(gòu)，以取得該物體的其中之一；及至少一個(gè)連接到至少一個(gè)該物體載具操作的驅(qū)動機(jī)構(gòu)，該驅(qū)動機(jī)構(gòu)被建構(gòu)，以移位至少一個(gè)該物體載具來回該物體轉(zhuǎn)移站，及該2個(gè)相鄰拋光面的其中之一；及至少一個(gè)將該物體轉(zhuǎn)移到該物體拋光站的該輸入?yún)^(qū)，和將該物體自該物體拋光站的該輸出區(qū)轉(zhuǎn)移出去的物體輸送裝置；其中，每一個(gè)該物體是藉由該物體拋光站的該拋光面，自該輸入?yún)^(qū)轉(zhuǎn)移到該輸出區(qū)，使得每一個(gè)該物體都是在該拋光面上拋光。
69.根據(jù)權(quán)利要求68所述的設(shè)備，其特征在于其中所述的至少一個(gè)物體輸送裝置被建構(gòu)，將該物體直接轉(zhuǎn)移到該物體拋光站的該物體載具的第一端點(diǎn)物體載具，該至少一個(gè)物體輸送裝置還被建構(gòu)，將該物體直接自該物體載具的第二端點(diǎn)物體載具轉(zhuǎn)移出去。
70.根據(jù)權(quán)利要求68所述的設(shè)備，其特征在于其中所述的物體拋光站的該驅(qū)動機(jī)構(gòu)被建構(gòu)，以大致線性移動方式共同移位某些該物體載具。
71.根據(jù)權(quán)利要求68所述的設(shè)備，其特征在于其中所述的物體拋光站的該驅(qū)動機(jī)構(gòu)被建構(gòu)，以大致線性移動方式個(gè)別移位每一個(gè)該物體載具。
72.根據(jù)權(quán)利要求68所述的設(shè)備，其特征在于其中所述的物體拋光站還包括許多驅(qū)動機(jī)構(gòu)，該驅(qū)動機(jī)構(gòu)包括該驅(qū)動機(jī)構(gòu)，每一個(gè)驅(qū)動機(jī)構(gòu)被建構(gòu)，以樞軸旋轉(zhuǎn)移動方式，個(gè)別移位每一個(gè)該物體載具。
73.根據(jù)權(quán)利要求68所述的設(shè)備，其特征在于其中所述的物體拋光站的該物體載具是以線性方式排列。
74.根據(jù)權(quán)利要求73所述的設(shè)備，其特征在于其中所述的物體拋光站還包括位在該拋光面之間的許多物體轉(zhuǎn)移站，使得至少一個(gè)物體轉(zhuǎn)移站位在2個(gè)相鄰拋光面之間，該許多物體轉(zhuǎn)移站包括該物體轉(zhuǎn)移站，該物體轉(zhuǎn)移站是以線性方式排列，使得該物體轉(zhuǎn)移站定位在大致平行該物體載具。
75.根據(jù)權(quán)利要求74所述的設(shè)備，其特征在于其中所述的物體拋光站的相鄰物體載具之間的距離，大致等于該物體拋光站的相鄰物體轉(zhuǎn)移站之間的距離。
76.根據(jù)權(quán)利要求68所述的設(shè)備，其特征在于其中所述的物體拋光站還包括位在該拋光面之間的許多物體轉(zhuǎn)移站，使得至少一個(gè)物體轉(zhuǎn)移站是位在2個(gè)相鄰拋光面之間，該許多物體轉(zhuǎn)移站包括該物體轉(zhuǎn)移站，該物體轉(zhuǎn)移站是以線性方式排列。
77.根據(jù)權(quán)利要求68所述的設(shè)備，其特征在于其中所述的物體拋光站包括一額外物體轉(zhuǎn)移站，以將該物體轉(zhuǎn)移到該物體載具的端點(diǎn)物體載具，或自其轉(zhuǎn)移出去。
78.根據(jù)權(quán)利要求77所述的設(shè)備，其特征在于其中所述的至少一個(gè)物體輸送裝置被建構(gòu)，以將該物體轉(zhuǎn)移到該物體拋光站的該額外物體轉(zhuǎn)移站，該至少一個(gè)物體輸送裝置還被建構(gòu)，以將該物體自該物體載具的第二端點(diǎn)物體載具轉(zhuǎn)移出去。
79.根據(jù)權(quán)利要求78所述的設(shè)備，其特征在于其中所述的至少一個(gè)物體輸送裝置被建構(gòu)，以將該物體轉(zhuǎn)移到該物體載具的第二端點(diǎn)物體載具，該至少一個(gè)物體輸送裝置還被建構(gòu)，以將該物體自該額外物體轉(zhuǎn)移站轉(zhuǎn)移出去。
80.根據(jù)權(quán)利要求77所述的設(shè)備，其特征在于其中所述的物體拋光站還包括第二額外物體轉(zhuǎn)移站，以將該物體轉(zhuǎn)移到該物體載具的第二端點(diǎn)物體載具。
81.根據(jù)權(quán)利要求80所述的設(shè)備，其特征在于其中所述的至少一個(gè)物體輸送裝置被建構(gòu)，以將該物體轉(zhuǎn)移到該額外物體轉(zhuǎn)移站，該至少一個(gè)物體輸送裝置還被建構(gòu)，以將該物體自該第二額外物體轉(zhuǎn)移站轉(zhuǎn)移出去。
82.根據(jù)權(quán)利要求68所述的設(shè)備，其特征在于其中所述的物體拋光站的該物體載具被排列，使得相鄰物體載具之間的距離大致相等。
83.根據(jù)權(quán)利要求68所述的設(shè)備，其特征在于其中所述的物體拋光站還包括位在該拋光面之間的許多額外物體轉(zhuǎn)移站，使得至少一個(gè)該額外物體轉(zhuǎn)移站是位在2個(gè)相鄰拋光面之間；及許多額外物體載具，每一個(gè)該額外物體載具是以大致線性往復(fù)移動方式移位，以在該額外物體轉(zhuǎn)移站其中之一和該拋光面其中之一之間轉(zhuǎn)移該物體。
84.根據(jù)權(quán)利要求83所述的設(shè)備，其特征在于其中至少一個(gè)該額外物體載具是連接到至少一個(gè)該物體載具，使得該至少一個(gè)該額外物體載具和該至少一個(gè)該物體載具可以一起移位。
85.根據(jù)權(quán)利要求68所述的設(shè)備，其特征在于還包括建構(gòu)以清洗該物體的物體清洗器，該物體清洗器被定位，使得該物體清洗器的較長側(cè)毗鄰藉由該拋光面界定的區(qū)域的較長側(cè)。
86.一種用于拋光物體的方法，其特征在于該方法包括以下步驟在物體拋光站的輸入?yún)^(qū)接收物體；使用該物體拋光站的許多物體載具，將該物體順序轉(zhuǎn)移到該物體拋光站的許多拋光面；使用該物體載具，順序拋光在該拋光面上的該物體；使用該物體載具的第一物體載具，將該物體自該拋光面的一相鄰拋光面轉(zhuǎn)移到該物體拋光站的物體轉(zhuǎn)移站；使用該物體載具的第二物體載具，將該物體自該物體轉(zhuǎn)移站轉(zhuǎn)移到該拋光面的第二相鄰拋光面；及在該物體已在該拋光面上拋光之后，將該物體自該物體拋光站的輸出區(qū)輸出。
87.根據(jù)權(quán)利要求86所述的方法，其特征在于其中所述的接收包括將該物體直接轉(zhuǎn)移到該物體載具的第一端點(diǎn)物體載具，及其中該輸出包括將該物體直接自該物體載具的第二端點(diǎn)物體載具轉(zhuǎn)移出去。
88.根據(jù)權(quán)利要求86所述的方法，其特征在于其中將該物體轉(zhuǎn)移到該物體轉(zhuǎn)移站的該轉(zhuǎn)移，和將該物體自該物體轉(zhuǎn)移站轉(zhuǎn)移出去的該轉(zhuǎn)移，包括以大致線性移動方式共同移位該第一和第二物體載具。
89.根據(jù)權(quán)利要求86所述的方法，其特征在于其中將該物體轉(zhuǎn)移到該物體轉(zhuǎn)移站的該轉(zhuǎn)移，和將該物體自該物體轉(zhuǎn)移站轉(zhuǎn)移出去的該轉(zhuǎn)移，包括以大致線性移動方式個(gè)別移位該第一和第二物體載具。
90.根據(jù)權(quán)利要求86所述的方法，其特征在于其中將該物體轉(zhuǎn)移到該物體轉(zhuǎn)移站的該轉(zhuǎn)移，和將該物體自該物體轉(zhuǎn)移站轉(zhuǎn)移出去的該轉(zhuǎn)移，包括以樞軸旋轉(zhuǎn)移動方式，個(gè)別移位該第一和第二物體載具的每一個(gè)。
91.根據(jù)權(quán)利要求86所述的方法，其特征在于還包括將該物體轉(zhuǎn)移到位在該物體載具的端點(diǎn)物體載具附近的該物體拋光站的額外物體拋光站，使得該端點(diǎn)物體載具可以轉(zhuǎn)移該物體到額外轉(zhuǎn)移站或自其轉(zhuǎn)移出去。
92.根據(jù)權(quán)利要求91所述的方法，其特征在于其中所述的接收包括將該物體直接轉(zhuǎn)移到該額外物體轉(zhuǎn)移站，及其中該輸出包括將該物體直接自該物體載具的第二端點(diǎn)物體載具轉(zhuǎn)移出去。
93.根據(jù)權(quán)利要求91所述的方法，其特征在于其中所述的接收包括將該物體直接轉(zhuǎn)移到該物體載具的第二端點(diǎn)物體載具，及其中該輸出包括將該物體直接自該額外物體轉(zhuǎn)移站轉(zhuǎn)移出去。
94.根據(jù)權(quán)利要求91所述的方法，其特征在于還包括將該物體轉(zhuǎn)移到位在該物體載具的第二端點(diǎn)物體載具附近的該物體拋光站的第二額外物體轉(zhuǎn)移站，使得該第二物體載具可以將該物體轉(zhuǎn)移到該第二額外物體轉(zhuǎn)移站。
95.根據(jù)權(quán)利要求94所述的方法，其特征在于其中所述的接收包括將該物體直接轉(zhuǎn)移到該額外物體轉(zhuǎn)移站，及其中該輸出包括將該物體直接自該第二額外物體轉(zhuǎn)移站轉(zhuǎn)移出去。
96.根據(jù)權(quán)利要求86所述的方法，其特征在于還包括使用該物體拋光站的許多額外物體載具，將第二物體順序轉(zhuǎn)移到該拋光面；使用該額外物體載具，順序拋光在該拋光面上的該第二物體；使用該額外物體載具的第一額外物體載具，將該第二物體自該第一相鄰拋光面轉(zhuǎn)移到該物體拋光站的額外物體轉(zhuǎn)移站；及使用該額外物體載具的第二額外物體載具，將該第二物體自該額外物體轉(zhuǎn)移站轉(zhuǎn)移到該第二相鄰拋光面。
97.根據(jù)權(quán)利要求96所述的方法，其特征在于其中所述的順序轉(zhuǎn)移該第二物體，包括一起移位至少一個(gè)該額外物體載具和至少一個(gè)該物體載具。
98.一種用于拋光物體的設(shè)備，其特征在于該設(shè)備包括第一物體輸送裝置；第二物體輸送裝置；以及位在該第一和第二物體輸送裝置之間的物體拋光單元，該物體拋光單元包括至少一個(gè)拋光面；及位在該拋光面上，拋光在該拋光面上的該物體的第一和第二物體載具，其中每一個(gè)該物體，都是藉由該第一和第二物體載具，自該第一物體輸送裝置轉(zhuǎn)移到該第二物體輸送裝置。
99.根據(jù)權(quán)利要求98所述的設(shè)備，其特征在于其中所述的物體拋光單元還包括第一和第二拋光面，使得該第一物體載具可以拋光在該第一拋光面上的某些該物體，及該第二物體載具可以拋光在該第二拋光面上的某些該物體。
100.根據(jù)權(quán)利要求98所述的設(shè)備，其特征在于其中所述的物體拋光單元還包括位在該第一和第二物體輸送裝置之間的物體中繼裝置，該物體中繼裝置包括載入/載出載杯和樞軸旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)，該樞軸旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)被建構(gòu)，以繞著樞軸旋轉(zhuǎn)軸樞軸旋轉(zhuǎn)該載入/載出載杯，將該物體轉(zhuǎn)移到該第一和第二物體載具，或自該第一和第二物體載具轉(zhuǎn)移出去。
101.根據(jù)權(quán)利要求100所述的設(shè)備，其特征在于其中所述的物體拋光單元還包括位在該物體中繼裝置和該第二物體輸送裝置之間的額外物體中繼裝置，該額外物體中繼裝置包括額外載入/載出載杯和額外樞軸旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)，該額外樞軸旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)被建構(gòu)，以繞著第二樞軸旋轉(zhuǎn)軸樞軸旋轉(zhuǎn)該額外載入/載出載杯，將該物體自該第一和第二物體載具轉(zhuǎn)移出去。
102.根據(jù)權(quán)利要求98所述的設(shè)備，其特征在于其中所述的物體拋光單元還包括位在該第一和第二物體輸送裝置之間的第一和第二物體中繼裝置，該第一和第二物體中繼裝置的每一個(gè)都包括一載入/載出載杯和一樞軸旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)，該第一物體中繼裝置的該樞軸旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)被建構(gòu)，以繞著第一樞軸旋轉(zhuǎn)軸樞軸旋轉(zhuǎn)該第一物體中繼裝置的該載入/載出載杯，將某些該物體轉(zhuǎn)移到該第一物體載具，或自該第一物體載具轉(zhuǎn)移出去，該第二物體中繼裝置的該樞軸旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)被建構(gòu)，以繞著第二樞軸旋轉(zhuǎn)軸樞軸旋轉(zhuǎn)該第二物體中繼裝置的該載入/載出載杯，將某些該物體轉(zhuǎn)移到該第二物體載具，或自該第二物體載具轉(zhuǎn)移出去。
103.一種用于拋光物體的方法，其特征在于該方法包括以下步驟使用第一物體輸送裝置，將第一和第二物體轉(zhuǎn)移到物體拋光單元的第一端點(diǎn)；使用該物體拋光單元的第一物體載具，在至少一個(gè)該物體拋光單元的拋光面上拋光該第一物體；使用該物體拋光單元的第二物體載具，在該至少一個(gè)拋光面上拋光該第二物體；及使用第二物體輸送裝置，將該第一和第二物體自該物體拋光單元的第二端點(diǎn)轉(zhuǎn)移出去，該第一和第二端點(diǎn)是位在該物體拋光單元的相對端點(diǎn)。
104.根據(jù)權(quán)利要求103所述的方法，其特征在于其中所述的拋光該第一物體包括在該物體拋光單元的第一拋光面上拋光該第一物體，及其中該拋光該第二物體包括在該物體拋光單元的第二拋光面上拋光該第二物體。
105.根據(jù)權(quán)利要求103所述的方法，其特征在于還包括使用該物體拋光單元的載入/載出載杯，在該第一和第二物體載具與該第一和第二物體輸送裝置其中之一之間轉(zhuǎn)移該第一和第二物體，其中包括繞著樞軸旋轉(zhuǎn)軸樞軸旋轉(zhuǎn)該載入/載出載杯。
106.根據(jù)權(quán)利要求105所述的方法，其特征在于還包括使用該物體拋光單元的額外載入/載出載杯，在該第一和第二物體載具與該第二物體輸送裝置之間轉(zhuǎn)移該第一和第二物體，其中包括繞著第二樞軸旋轉(zhuǎn)軸樞軸旋轉(zhuǎn)該額外載入/載出載杯。
107.根據(jù)權(quán)利要求103所述的方法，其特征在于還包括使用該物體拋光單元的第一載入/載出載杯，在該第一物體載具與該第一和第二物體輸送裝置其中之一之間轉(zhuǎn)移該第一物體，其中包括繞著第一樞軸旋轉(zhuǎn)軸樞軸旋轉(zhuǎn)該第一載入/載出載杯，及使用該物體拋光單元的第二載入/載出載杯，在該第二物體載具與該第一和第二物體輸送裝置其中之一之間轉(zhuǎn)移該第二物體，其中包括繞著第二樞軸旋轉(zhuǎn)軸樞軸旋轉(zhuǎn)該第二載入/載出載杯。
108.一種用于載入和載出物體的物體中繼裝置，其特征在于該物體中繼裝置包括載入/載出載杯；連接到該載入/載出載杯操作的機(jī)械臂，以橫向移動該載入/載出載杯；以及連接到該載入/載出載杯和該機(jī)械臂操作的載杯上升/下降機(jī)構(gòu)，該載杯上升/下降機(jī)構(gòu)被建構(gòu)，以相對于該機(jī)械臂上升和下降該載入/載出載杯。
109.根據(jù)權(quán)利要求108所述的物體中繼裝置，其特征在于其中所述的載入/載出載杯包括連接到該載入/載出載杯表面的中央氣囊，該中央氣囊被建構(gòu)，以相對于該表面在垂直方向氣動式膨脹和緊縮，該中央氣囊被建構(gòu)，當(dāng)中央氣囊膨脹時(shí)，支撐該物體，以升起該物體。
110.根據(jù)權(quán)利要求108所述的物體中繼裝置，其特征在于還包括連接到該載入/載出載杯操作的空氣緩沖機(jī)構(gòu)，以吸收垂直作用力。
111.根據(jù)權(quán)利要求108所述的物體中繼裝置，其特征在于其中所述的載入/載出載杯包括物體支撐結(jié)構(gòu)；連接到該支撐結(jié)構(gòu)的許多氣囊，每一個(gè)該氣囊被建構(gòu)，以相對于該物體支撐結(jié)構(gòu)的表面，在垂直方向氣動式膨脹和緊縮；及連接到該許多氣囊的許多對準(zhǔn)器，使得至少一個(gè)氣囊連接到各對準(zhǔn)器，當(dāng)該氣囊膨脹時(shí)，每一個(gè)該對準(zhǔn)器都包括一支撐該物體的第一水平部分，和一接觸物體載具的底部的第二水平部分。
112.根據(jù)權(quán)利要求111所述的物體中繼裝置，其特征在于其中所述的載入/載出載杯還包括連接到該物體支撐結(jié)構(gòu)和該對準(zhǔn)器的許多第二氣囊，每一個(gè)該第二氣囊被建構(gòu)，以相對于該物體支撐結(jié)構(gòu)的該表面，在水平方向氣動式膨脹和緊縮。
113.根據(jù)權(quán)利要求112所述的物體中繼裝置，其特征在于其中每一個(gè)該對準(zhǔn)器還包括當(dāng)該第二氣囊膨脹時(shí)，向內(nèi)移動到該物體邊緣的第一垂直部分，及當(dāng)該第二氣囊膨脹時(shí)，接觸該物體載具的外表面的第二垂直部分。
全文摘要
本發(fā)明是有關(guān)于一種利用一個(gè)或多個(gè)拋光面、多晶圓載具和至少一個(gè)載入/載出載杯、拋光物體，如半導(dǎo)體晶圓，的設(shè)備和方法。載入/載出載杯可以樞軸旋轉(zhuǎn)方式建構(gòu)，以前后移動晶圓載具。載入/載出載杯可以線性往復(fù)移動方式建構(gòu)，以前后移動晶圓載具。晶圓載具可以樞軸旋轉(zhuǎn)方式，以前后移動載入/載出載杯。晶圓載具可以線性往復(fù)移動方式建構(gòu)，以前后移動載入/載出載杯。
文檔編號B24B51/00GK1798635SQ200480010777
公開日2006年7月5日 申請日期2004年4月21日 優(yōu)先權(quán)日2003年4月21日
發(fā)明者丁寅權(quán) 申請人:英諾普雷股份有限公司