專利名稱:Hdi板刻蝕液電解再生裝置的制造方法
【專利摘要】本實用新型涉及刻蝕廢液處理技術(shù)領(lǐng)域，具體而言，涉及一種HDI板刻蝕液電解再生裝置，包括電解槽（1），該電解槽內(nèi)設(shè)有陰極（2）、和陽極（3），所述陰極（2）與陽極（3）由陶瓷隔膜（4）隔開，陰極設(shè)計增大電極面積的結(jié)構(gòu)，同時向陰極電解液中加入銅粉、石墨粉或其他導(dǎo)電微粉，采用氣泵鼓入空氣擾動陰極電解液。電解過程中，陰極液中導(dǎo)電微粉與陰極碰撞過程中，銅離子在導(dǎo)電微粉上還原成單質(zhì)銅，實現(xiàn)高效脫銅，尤其是當電解液銅離子濃度逐漸減少，仍有較高電流效率，析氫副反應(yīng)少；同時，陽極發(fā)生氧化反應(yīng)，產(chǎn)生H+并析出氧氣，隨著反應(yīng)進行，刻蝕廢液酸度逐漸恢復(fù)，過濾后電解液可回收用于線路板刻蝕反應(yīng)。
【專利說明】
HDI板刻蝕液電解再生裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實用新型涉及刻蝕廢液處理技術(shù)領(lǐng)域，具體而言，涉及一種HDI板刻蝕液電解再
目.0
【背景技術(shù)】
[0002]普通刻蝕廢液處理通常采用化學(xué)處理銅鹽沉淀法、刻蝕廢液加臭氧(氧化劑)析出氧化銅方法、濃縮后電解再生或加陽離子銅絡(luò)合物電解法等。采用濃縮再電解處理的方法濃縮成本較大;采用化學(xué)銅鹽沉淀或者析出氧化銅方法，廢液成分發(fā)生變化，難以再生使用;絡(luò)合電解法，在銅離子濃度低時電解效率不高，同時再生液中由于添加了銅絡(luò)合離子，影響了刻蝕過程銅腐蝕速度。
[0003]例如授權(quán)公告號為CN 203546157 U的中國實用新型專利，其公開了一種堿性刻蝕液銅回收再生系統(tǒng)，包括有主控單元、收集單元、調(diào)配單元、電解單元以及回用單元，該收集單元包括有收集缸和舊液儲罐，該收集缸與刻蝕機的廢液出口連接，該調(diào)配單元包括有循環(huán)栗和循環(huán)槽，該電解單元包括有復(fù)數(shù)個電解槽，該回用單元包括有再生液儲罐、再生液調(diào)節(jié)罐以及再生子液儲罐，該循環(huán)槽的入口與舊液儲罐的出口相連通，該循環(huán)槽的出口與電解槽的入口相連通，該電解槽的出口與再生液儲罐的入口相連通，該再生液調(diào)節(jié)罐的入口與再生液儲罐的出口連通，該再生液調(diào)節(jié)罐的出口與再生子液儲罐的入口連通，該再生子液儲罐的出口與刻蝕機連通。該堿性刻蝕液銅回收再生系統(tǒng)，采用直接電解技術(shù)不僅能回收蝕刻廢液中的金屬銅離子，而且實現(xiàn)了刻蝕液的循環(huán)回用，是零污染的在線循環(huán)，符合安全指標和環(huán)保要求。但該回收再生系統(tǒng)的設(shè)備較為復(fù)雜，回收成本較高，且不適于低濃度銅離子溶液的回收。
【實用新型內(nèi)容】
[0004]為了解決現(xiàn)有技術(shù)存在的上述技術(shù)缺陷，本實用新型的目的在于提供一種HDI板刻蝕液電解再生裝置，該裝置能夠有效解決HDI板刻蝕液中低銅離子濃度時電解效率低，回收成本高的問題。
[0005]按照本實用新型的一種HDI板刻蝕液電解再生裝置，包括電解槽，該電解槽內(nèi)設(shè)有陰極、和陽極，所述電解槽由陶瓷隔膜分隔；陰極的電解液中設(shè)有氣栗。所述陰極與陽極均為不銹鋼電極，陰極設(shè)計增大電極面積的結(jié)構(gòu)，同時向陰極室電解液中加入銅粉、石墨粉或其他導(dǎo)電微粉，采用氣栗鼓入空氣擾動陰極電解液。電解過程中，陰極液中導(dǎo)電微粉與陰極碰撞過程中，銅離子在導(dǎo)電微粉上還原成單質(zhì)銅，實現(xiàn)高效脫銅，尤其是當電解液銅離子濃度逐漸減少，仍有較高電流效率，析氫副反應(yīng)少；同時，陽極發(fā)生氧化反應(yīng)，產(chǎn)生H+并析出氧氣，隨著反應(yīng)進行，刻蝕廢液酸度逐漸恢復(fù)，過濾后電解液可回收用于線路板刻蝕反應(yīng)。
[0006]優(yōu)選的是，所述陰極與陽極之間的極間距為5?8cm。
[0007]在上述任一方案中優(yōu)選的是，所述陰極部分的電解液中加有150?500目的微粉。
[0008]在上述任一方案中優(yōu)選的是，所述微粉為銅粉或石墨粉。
[0009]在上述任一方案中優(yōu)選的是，所述陽極的電流密度為100?300A/m2。
[0010]綜上所述，本實用新型中的HDI板刻蝕液電解再生裝置具有以下優(yōu)點:采用三維電極電解處理刻蝕廢液，既能高效處理廢液中低濃度銅離子，又能電解產(chǎn)生H+，恢復(fù)刻蝕廢液刻蝕過程中消耗的酸；電解槽用陶瓷隔膜分隔，陰、陽極均采用不銹鋼電極，陰極設(shè)計增大電極面積的結(jié)構(gòu)，同時向陰極電解液中加入銅粉、石墨粉或其他導(dǎo)電微粉，電解過程中，陰極液中導(dǎo)電微粉與陰極碰撞過程中，銅離子在導(dǎo)電微粉上還原成單質(zhì)銅，實現(xiàn)高效脫銅，尤其是當電解液銅離子濃度逐漸減少，仍有較高電流效率，析氫副反應(yīng)少;采用氣栗鼓入空氣擾動陰極電解液，使電解速度加快。
【附圖說明】

[0011]圖1為按照本實用新型的HDI板刻蝕液電解再生裝置的一優(yōu)選實施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0012]附圖中標號:電解槽I，陰極2，陽極3，陶瓷隔膜4。
【具體實施方式】
[0013]以下的說明本質(zhì)上僅僅是示例性的而并不是為了限制本公開、應(yīng)用或用途。下面結(jié)合說明書附圖對本實用新型HDI板刻蝕液電解再生裝置的【具體實施方式】作進一步的說明。
[0014]如圖1所示，按照本實用新型的HDI板刻蝕液電解再生裝置的一優(yōu)選實施例的結(jié)構(gòu)示意圖。按照本實用新型的HDI板刻蝕液電解再生裝置，包括電解槽I，該電解槽內(nèi)設(shè)有陰極2和陽極3，并通過陶瓷隔膜4分隔。所述陰極2與陽極3均為不銹鋼電極，陰極2設(shè)計增大電極面積的結(jié)構(gòu)，陰極2的電解液中設(shè)有氣栗。同時，向陰極電解液中加入銅粉、石墨粉或其他導(dǎo)電微粉，采用氣栗鼓入空氣擾動陰極電解液。電解過程中，陰極液中導(dǎo)電微粉與陰極碰撞過程中，銅離子在導(dǎo)電微粉上還原成單質(zhì)銅，實現(xiàn)高效脫銅，尤其是當電解液銅離子濃度逐漸減少，仍有較高電流效率，析氫副反應(yīng)少；同時，陽極發(fā)生氧化反應(yīng)，產(chǎn)生H+并析出氧氣，隨著反應(yīng)進行，刻蝕廢液酸度逐漸恢復(fù)，過濾后電解液可回收用于線路板刻蝕反應(yīng)。
[0015]在本實施例中，所述陽極3的尺寸為1cmX 10cm，極間距為5cm。
[0016]在本實施例中，所述陰極2的電解液中加有200目的微粉。
[0017]在本實施例中，所述微粉為銅粉或石墨粉。
[0018]在本實施例中，所述陽極3的電流密度為200A/m2。
[0019]本實用新型的HDI板刻蝕液電解再生裝置的工作過程具有兩種實施方式。
[0020]實施方式一:
[0021]電解槽1、陰極2、陽極3結(jié)構(gòu)，陰極2、陽極3均采用不銹鋼，陽極3的尺寸為10cm X1cm，極間距5cm，向陰極2的電解液加入200目銅粉，固液比1:1000，控制陽極3的電流密度2100?300A/m2，當銅離子脫除90%，電流效率達85%以上，電解槽I的電壓在6.3?7.8V之間變化。
[0022]實施方式二:
[0023]電解槽1、陰極2、陽極3結(jié)構(gòu)，陰極2、陽極3均采用不銹鋼，陽極3的尺寸為10cm X10cm，極間距5cm，向陰極2的電解液加入200目石墨粉，固液比1: 2000，控制陽極3的電流密度2100?300A/m2，當銅離子脫除90%，電流效率達82%以上，電解槽I的電壓在6.6?7.9V之間變化。
[0024]綜上所述，本實用新型中的HDI板刻蝕液電解再生裝置具有以下優(yōu)點:采用三維電極電解處理刻蝕廢液，既能高效處理廢液中低濃度銅離子，又能電解產(chǎn)生H+，恢復(fù)刻蝕廢液刻蝕過程中消耗的酸；陰、陽極均采用不銹鋼電極，陰陽極用陶瓷隔膜等分隔，陰極設(shè)計增大電極面積的結(jié)構(gòu)，同時向陰極電解液中加入銅粉、石墨粉或其他導(dǎo)電微粉，電解過程中，陰極液中導(dǎo)電微粉與陰極碰撞過程中，銅離子在導(dǎo)電微粉上還原成單質(zhì)銅，實現(xiàn)高效脫銅，尤其是當電解液銅離子濃度逐漸減少，仍有較高電流效率，析氫副反應(yīng)少;采用氣栗鼓入空氣擾動陰極電解液，使電解速度加快。
[0025]本領(lǐng)域技術(shù)人員不難理解，本實用新型的HDI板刻蝕液電解再生裝置包括本說明書中各部分的任意組合。限于篇幅且為了使說明書簡明，在此沒有將這些組合一一詳細介紹，但看過本說明書后，由本說明書構(gòu)成的各部分的任意組合構(gòu)成的本實用新型的范圍已經(jīng)不言自明。
【主權(quán)項】
1.一種HDI板刻蝕液電解再生裝置，包括電解槽(I)，該電解槽內(nèi)設(shè)有陰極(2)和陽極(3)，其特征在于:陰極(2)與陽極(3)均為不銹鋼電極；電解槽(I)由陶瓷隔膜(4)分隔；陰極(2)的電解液中設(shè)有氣栗。2.如權(quán)利要求1所述的HDI板刻蝕液電解再生裝置，其特征在于:陰極(2)部分的電解液中加有150?500目的微粉。3.如權(quán)利要求2所述的HDI板刻蝕液電解再生裝置，其特征在于:所述微粉為銅粉或石墨粉。4.如權(quán)利要求1所述的HDI板刻蝕液電解再生裝置，其特征在于:陰極(2)和陽極(3)之間的極間距為5?15cm。5.如權(quán)利要求1所述的HDI板刻蝕液電解再生裝置，其特征在于:陽極(3)的電流密度為100?300A/m2。
【文檔編號】C25C7/00GK205710923SQ201620357445
【公開日】2016年11月23日
【申請日】2016年4月26日
【發(fā)明人】詹有根, 徐永和, 陸偉福, 高云芳, 潘青
【申請人】浙江振有電子股份有限公司