專利名稱:一種真空離子鍍膜設(shè)備的新型磁場結(jié)構(gòu)的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種真空離子鍍膜設(shè)備的新型磁場結(jié)構(gòu)，包括靶座、磁鐵座和內(nèi)設(shè)的冷卻裝置，所述靶座頂端設(shè)有用于容納固定靶材的靶材凹槽，靶材兩端均設(shè)有突出輔助陽極，靶材底部安裝于陰極體凹槽內(nèi)；所述陰極體與鋁板之間設(shè)有永磁體，且永磁體緊貼于鋁板頂部表面；靶座底部通過螺紋與支架旋接；所述鋁板下方設(shè)置一帶有線圈護罩并由線圈骨架支撐的電磁線圈；靶座底部通過螺紋與支架旋接；所述冷卻裝置為固定與弧離子鍍膜裝置中心的水道，其中設(shè)置了電磁線圈和永磁體或碳素鋼共同對弧靶表面磁場產(chǎn)生作用，調(diào)整極為方便，產(chǎn)生的磁場形狀較好，可以有效提高靶材燒蝕效率，改善成膜質(zhì)量。
【專利說明】一種真空離子鍍膜設(shè)備的新型磁場結(jié)構(gòu)

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種磁場結(jié)構(gòu)，具體為一種真空離子鍍膜設(shè)備的新型磁場結(jié)構(gòu)，屬于真空設(shè)備【技術(shù)領(lǐng)域】。

【背景技術(shù)】
[0002]如今，真空鍍膜在機械、電子、能源、信息等領(lǐng)域已經(jīng)得到廣泛應用。而在真空鍍膜領(lǐng)域中，電弧離子鍍膜技術(shù)近些年得到迅速發(fā)展，在這個方面，磁場的設(shè)計對離子鍍的成膜質(zhì)量具有極大的影響作用，現(xiàn)有技術(shù)中，真空離子鍍膜設(shè)備的磁場一般單獨使用電磁線圈或者永磁體在靶材表面產(chǎn)生磁場，磁場的形式較為單一，對靶材表面的燒蝕控制比較簡單，不能達到一個最佳狀態(tài)，制約了靶材的燒蝕效率和成膜質(zhì)量。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實用新型的目的在于提供一種真空離子鍍膜設(shè)備的新型磁場結(jié)構(gòu)，采用電磁線圈和永磁體或碳素鋼共同對弧靶表面磁場產(chǎn)生作用，以解決上述【背景技術(shù)】中提出的問題。
[0004]為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供如下技術(shù)方案:一種真空離子鍍膜設(shè)備的新型磁場結(jié)構(gòu)，包括靶座、磁鐵座和內(nèi)設(shè)的冷卻裝置，所述靶座頂端設(shè)有用于容納固定靶材的靶材凹槽，靶材兩端均設(shè)有突出輔助陽極，靶材底部安裝于陰極體凹槽內(nèi)；所述陰極體與鋁板之間設(shè)有永磁體，且永磁體緊貼于鋁板頂部表面；靶座底部通過螺紋與支架旋接；所述鋁板下方設(shè)置一帶有線圈護罩并由線圈骨架支撐的電磁線圈；靶座底部通過螺紋與支架旋接；所述冷卻裝置為固定與弧離子鍍膜裝置中心的水道。
[0005]進一步的，永磁體安裝在背部設(shè)置有鋁板的磁鐵座上。
[0006]進一步的，安裝在背部設(shè)置有鋁板的磁鐵座上的為永磁體或碳素鋼，所述的碳素鋼靠近靶材一側(cè)表面為圓弧形且碳素鋼中心設(shè)置有配合固定中心水道的螺孔。
[0007]進一步的，所述電磁線圈為一重線圈或三重線圈。
[0008]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型的有益效果是:該種真空離子鍍膜設(shè)備的新型磁場結(jié)構(gòu)設(shè)置了電磁線圈和永磁體或碳素鋼共同對弧靶表面磁場產(chǎn)生作用，調(diào)整極為方便，產(chǎn)生的磁場形狀較好，可以有效提高靶材燒蝕效率，改善成膜質(zhì)量。

【附圖說明】

[0009]附圖用來提供對本實用新型的進一步理解，并且構(gòu)成說明書的一部分，與本實用新型的實施例一起用于解釋本實用新型，并不構(gòu)成對本實用新型的限制。
[0010]附圖中:
[0011]圖1為本實用新型所述一種真空離子鍍膜設(shè)備的新型磁場結(jié)構(gòu)示意圖；
[0012]圖2為本實用新型所述一種真空離子鍍膜設(shè)備的新型磁場結(jié)構(gòu)示意圖；
[0013]圖3為本實用新型所述一種真空離子鍍膜設(shè)備的新型磁場結(jié)構(gòu)示意圖；
[0014]圖中:1、靶材；2、輔助陽極；3、陰極體；4、永磁體；5、磁鐵座；6、鋁板；7、電磁線圈；8、線圈骨架；9、線圈護罩；10、靶座；11、支架；12碳素鋼。

【具體實施方式】
[0015]下面將結(jié)合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例，基于本實用新型中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。
[0016]請參閱圖1-3，本實用新型提供一種技術(shù)方案:一種真空離子鍍膜設(shè)備的新型磁場結(jié)構(gòu)，包括靶座10、磁鐵座5和內(nèi)設(shè)的冷卻裝置，所述靶座10頂端設(shè)有用于容納固定靶材I的靶材I凹槽，靶材I兩端均設(shè)有突出輔助陽極2，靶材I底部安裝于陰極體3凹槽內(nèi)；所述陰極體3與鋁板6之間設(shè)有永磁體4，且永磁體4緊貼于鋁板6頂部表面；靶座10底部通過螺紋與支架11旋接；所述鋁板6下方設(shè)置一帶有線圈護罩9并由線圈骨架8支撐的電磁線圈7 ;靶座10底部通過螺紋與支架11旋接；所述冷卻裝置為固定與弧離子鍍膜裝置中心的水道。
[0017]永磁體4安裝在背部設(shè)置有銷板6的磁鐵座5上；安裝在背部設(shè)置有銷板6的磁鐵座5上的為永磁體4或碳素鋼12，所述的碳素鋼12靠近靶材一側(cè)表面為圓弧形且碳素鋼12中心設(shè)置有配合固定中心水道的螺孔；所述電磁線圈7為一重線圈或三重線圈。
[0018]具體原理:其中垂直磁場影響靶面弧斑的運動區(qū)域，而弧斑的運動范圍直接影響靶材I的燒蝕效率，通過調(diào)整垂直磁場的大小與分布，從而對弧斑的運動狀態(tài)施加影響，可以有效提高靶材I的燒蝕效率；水平磁場則直接影響靶面弧斑運動的快慢，靶面弧斑運動的越快，從靶面飛濺出的液滴與大顆粒越少，從而成膜質(zhì)量越好其中永磁體4也可以替換成碳素鋼12，碳素鋼12可以與電磁線圈7構(gòu)成極靴，從而改變磁場線的分布。該碳素鋼12靠近革El材I 一側(cè)可以將表面改變?yōu)閳A弧形，從而可以有效改變弧革G表面磁場的分布，尤其對于水平磁場的增強尤其明顯，對于成膜質(zhì)量提高較為明顯。該碳素鋼12中心有螺紋，以配合固定在中心水道，以保證碳素鋼12相對于靶材表面是平行的。電磁線圈7也可以改變成為多重線圈，其位置不變，在此多弧靶采用三組線圈結(jié)構(gòu)，其三組線圈的電流可以進行單獨控制，通過三組線圈的電流調(diào)節(jié)，可以改變弧靶表面垂直磁場的大小與分布，進而改變護板的運動范圍，可以大幅度提高靶材I的燒蝕效率。該矩形平面多弧靶還包括以一線圈護罩，該護罩圍設(shè)于最外層電磁線圈外并與該組電磁線圈形成極靴。該線圈護罩9圍設(shè)于最外層電磁線圈7外并位于靶材I和碳素鋼12下方。極靴是電磁體、永磁體4和電機磁極的一種結(jié)構(gòu)，在通過采用兩個結(jié)構(gòu)相同的磁路在磁極端面形成極靴，通過這樣的設(shè)置能夠獲得較好線性分布的磁場、并屏蔽多余的磁場。該圓形平面多弧靶還包括一線圈骨架8，該電磁線圈骨架8設(shè)于該靶座10下方并位于該線圈護罩9內(nèi)側(cè)，與該線圈護罩9形成用于容納改組電磁線圈7的空間，該空間的形狀與改組電磁線圈7的形狀相適配
[0019]本實用新型為一種真空離子鍍膜設(shè)備的新型磁場結(jié)構(gòu)設(shè)置了電磁線圈7和永磁體4或碳素鋼12共同對弧靶表面磁場產(chǎn)生作用，調(diào)整極為方便，產(chǎn)生的磁場形狀較好，可以有效提高靶材I燒蝕效率，改善成膜質(zhì)量。
[0020]最后應說明的是:以上所述僅為本實用新型的優(yōu)選實施例而已，并不用于限制本實用新型，盡管參照前述實施例對本實用新型進行了詳細的說明，對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，其依然可以對前述各實施例所記載的技術(shù)方案進行修改，或者對其中部分技術(shù)特征進行等同替換，凡在本實用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種真空離子鍍膜設(shè)備的新型磁場結(jié)構(gòu)，包括靶座(10)、磁鐵座(5)和內(nèi)設(shè)的冷卻裝置，其特征在于:所述靶座(10)頂端設(shè)有用于容納固定靶材(I)的靶材(I)凹槽，靶材(I)兩端均設(shè)有突出輔助陽極(2)，靶材(I)底部安裝于陰極體(3)凹槽內(nèi)；所述陰極體(3)與鋁板(6)之間設(shè)有永磁體(4)，且永磁體(4)緊貼于鋁板(6)頂部表面；靶座(10)底部通過螺紋與支架(11)旋接；所述鋁板(6)下方設(shè)置一帶有線圈護罩(9)并由線圈骨架(8)支撐的電磁線圈(7);靶座(10)底部通過螺紋與支架(11)旋接；所述冷卻裝置為固定與弧離子鍍膜裝置中心的水道。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空離子鍍膜設(shè)備的新型磁場結(jié)構(gòu)，其特征在于:永磁體(4)安裝在背部設(shè)置有鋁板(6)的磁鐵座(5)上。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空離子鍍膜設(shè)備的新型磁場結(jié)構(gòu)，其特征在于:安裝在背部設(shè)置有鋁板(6)的磁鐵座(5)上的為永磁體(4)或碳素鋼(12)，所述的碳素鋼(12)靠近靶材一側(cè)表面為圓弧形且碳素鋼(12)中心設(shè)置有配合固定中心水道的螺孔。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空離子鍍膜設(shè)備的新型磁場結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述電磁線圈(7)為一重線圈或三重線圈。
【文檔編號】C23C14-32GK204281846SQ201420755162
【發(fā)明者】劉野, 張緒躍, 劉曉華 [申請人]大連維鈦克科技股份有限公司