專利名稱：雙盤連接基片裝置及使用方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種高性能鍍膜機，特別是涉及如何提高鍍膜機設(shè)備的利用率，擴大基片的鍍膜面積，使設(shè)備具有更大的實用性的雙盤連接基片裝置及使用方法。
背景技術(shù)：
Veeco射頻離子束濺射鍍膜機是美國Veeco公司為滿足光通訊薄膜的需要而專門開發(fā)的，具有非常強的針對性。該設(shè)備具有自動化程度高、制備的薄膜結(jié)構(gòu)緊密、無波長漂移和損耗低等優(yōu)越性能，可以鍍制特殊要求薄膜(如非規(guī)則膜系薄膜、超低損耗薄膜、超厚薄膜)。但由于其特殊的設(shè)計，導(dǎo)致應(yīng)用范圍非常狹窄，不僅制備的薄膜尺寸小，而且對安裝位置也有特殊要求。該設(shè)備的基片裝置為一圓形套桶，內(nèi)徑為12英寸(305mm)，中心處有1英寸(24.5mm)的旋轉(zhuǎn)軸，由驅(qū)動電機驅(qū)動(轉(zhuǎn)速最高可以達(dá)到每分鐘2000轉(zhuǎn)，基片必須滿足動平衡及靜平衡的要求)?；某叽缰挥袧M足外徑12英寸、內(nèi)徑1英寸的要求，方可放置在該圓形套桶內(nèi)。然后，緊貼基片，再用直徑為105mm的固定板卡住。鍍膜的有效部位位于半徑116mm至125mm的圓環(huán)內(nèi)，面積僅為68cm2，只占基片總面積730cm2的9％，利用率非常低，而且通用性比較差，同時對基片也造成非常大的浪費。為擴大鍍膜面積，提高設(shè)備的通用性及運行效率，有必要對基片的安裝裝置進(jìn)行重新設(shè)計。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是在Veeco射頻離子束濺射鍍膜機的基礎(chǔ)上，提供一種雙盤連接基片裝置及使用方法，實現(xiàn)鍍膜面積的大幅度增加，提高設(shè)備的通用性及效率，降低運行成本。
本發(fā)明的技術(shù)解決方案如下一種用于Veeco射頻離子束濺射鍍膜機的雙盤連接基片裝置，其特點是它由一個固定盤、外接盤和基片蓋板構(gòu)成，該固定盤的中心開有一軸套孔，該固定盤的邊緣設(shè)有N個不穿透的螺孔；該外接盤的邊緣與固定盤的螺孔相對應(yīng)處也開設(shè)N個尺寸相同的通孔，其中N為大于2的正整數(shù)；該外接盤依據(jù)基片的大小和形狀開設(shè)一基片槽；基片蓋板與基片槽相對應(yīng)配套，該基片槽和基片蓋板的相同部位分別開設(shè)有螺孔和通孔。
所述的基片槽的形狀可為圓、橢圓、或長方形，相應(yīng)的基片蓋板內(nèi)孔的形狀亦為圓、橢圓、長方形。
所述的雙盤連接裝置的使用方法，包括下列步驟1、安裝定盤使鍍膜機的旋轉(zhuǎn)軸穿過固定盤的圓孔，并用螺帽緊固；2、在固定盤邊緣的N個螺孔處安裝連接螺桿；
3、將鍍膜基片裝進(jìn)外接盤的基片槽中，蓋上基片蓋板，并用螺釘穿過螺孔固定緊；4、將步驟二中的連接螺桿裝穿過裝好基片的外接盤中的通孔，利用墊片和螺帽將固定盤和連接盤連接起來。
本發(fā)明的優(yōu)點在于1.采用本發(fā)明使設(shè)備的鍍膜面積由原來的68cm2擴大到660cm2，乃至更高，大幅度增加了設(shè)備的利用效率；2.避免了對原有基片特殊形狀的苛刻加工要求，減少了對基片的浪費，節(jié)約了成本；3.本夾具裝卸方便，使用靈活；尤其是外接盤，可以根據(jù)樣品的不同尺寸和形狀，進(jìn)行有針對性的設(shè)計。


圖1是本發(fā)明雙盤連接基片裝置的固定盤的結(jié)構(gòu)示意2本發(fā)明雙盤連接基片裝置實施例1適用于圓形基片的外接盤的結(jié)構(gòu)示意3是適用于圓形基片的基片蓋板結(jié)構(gòu)示意4適用于橢圓形基片的外接盤的結(jié)構(gòu)示意5適用于長方形基片的外接盤的結(jié)構(gòu)示意中1——固定盤11——軸套圓孔 12——螺孔2——外接盤21——通孔 22——基片槽23——螺孔3——基片蓋板 31——圓孔 41——通孔 42——基片槽
具體實施例方式下面結(jié)合實施例和附圖對本發(fā)明作進(jìn)一步說明。
先請參閱圖1、圖2和圖3。本發(fā)明雙盤連接基片裝置包括固定盤1、外接盤2和基片蓋板3構(gòu)成，該固定盤1如圖1所示，其中心開有一軸套孔11，用以與鍍膜機的旋轉(zhuǎn)軸連接，該固定盤1的邊緣設(shè)有N個不穿透的螺孔12；該外接盤2如圖2所示，其邊緣與固定盤1的螺孔12相對應(yīng)處也開設(shè)N個尺寸相同的通孔21，其中N為4；該外接盤2依據(jù)基片的大小和形狀開設(shè)一基片槽22；基片蓋板3如圖3所示，與基片槽22相對應(yīng)配套，該基片槽22和基片蓋板3的相同部位分別開設(shè)有螺孔23和通孔31。
所述的基片槽22的形狀可為圓、橢圓、或長方形，相應(yīng)的基片蓋板3內(nèi)孔的形狀亦為圓、橢圓、長方形。
本發(fā)明雙盤連接裝置的使用方法包括下列步驟①裝固定盤(1)使鍍膜機的旋轉(zhuǎn)軸穿過固定盤(1)的圓孔(11)，并用螺帽緊固；②在固定盤(1)邊緣的N個螺孔(12)處安裝連接螺桿；③將鍍膜基片裝進(jìn)外接盤(2)的基片槽(22)中，蓋上基片蓋板(3)，并用螺釘穿過螺孔(31)固定緊；④將步驟二中的連接螺桿裝穿過裝好基片的外接盤(2)中的通孔(21)，利用墊片和螺帽將固定盤(1)和連接盤(2)連接起來。
實例1 利用雙盤連接實現(xiàn)圓形基片的安裝根據(jù)基片的形狀，設(shè)計的外接盤如圖2所示。圖3為基片蓋板，大小和基片形狀相同，內(nèi)徑略小，外徑略大，中空。圓環(huán)內(nèi)開兩個以上的圓孔31和外接盤2的螺孔23相對應(yīng)，用于螺釘?shù)墓潭?。其目的是防止基片從外接盤里脫出。然后，就可以按照前述的步驟完成安裝。
實例2 利用雙盤連接實現(xiàn)橢圓形基片的安裝根據(jù)基片的形狀，設(shè)計的外接盤如圖4所示。由于蓋板非常簡單，此處從略。其目的是防止基片從外接盤里脫出。把基片放進(jìn)圖4所示的基片槽42中，就可以按照前述的步驟完成安裝。
實例3 利用雙盤連接實現(xiàn)長方形基片的安裝根據(jù)基片的形狀，設(shè)計的外接盤如圖5所示。由于對應(yīng)的蓋板非常簡單，此處從略。其目的是防止基片從外接盤里脫出。把基片放進(jìn)圖5所示的基片槽52中，就可以按照前述的步驟完成安裝。
權(quán)利要求
1.一種用于Veeco射頻離子束濺射鍍膜機的雙盤連接基片裝置，其特征在于它由一個固定盤(1)、外接盤(2)和基片蓋板(3)構(gòu)成，該固定盤(1)的中心開有一軸套孔(11)，該固定盤(1)的邊緣設(shè)有N個不穿透的螺孔(12)；該外接盤(2)的邊緣與固定盤(1)的螺孔(12)相對應(yīng)處也開設(shè)N個尺寸相同的通孔(21)，其中N為大于2的正整數(shù)；該外接盤(2)依據(jù)基片的大小和形狀開設(shè)一基片槽(22)；基片蓋板(3)與基片槽(22)相對應(yīng)配套，該基片槽(22)和基片蓋板(3)的相同部位分別開設(shè)有螺孔(23)和通孔(31)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙盤連接裝置，其特征在于所述的基片槽(22)的形狀可為圓、橢圓、或長方形，相應(yīng)的基片蓋板(3)內(nèi)孔的形狀亦為圓、橢圓、長方形。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙盤連接裝置的使用方法，其特征在于包括下列步驟①裝固定盤(1)使鍍膜機的旋轉(zhuǎn)軸穿過固定盤(1)的圓孔(11)，并用螺帽緊固；②在固定盤(1)邊緣的N個螺孔(12)處安裝連接螺桿；③將鍍膜基片裝進(jìn)外接盤(2)的基片槽(22)中，蓋上基片蓋板(3)，并用螺釘穿過螺孔(31)固定緊；④將步驟二中的連接螺桿裝穿過裝好基片的外接盤(2)中的通孔(21)，利用墊片和螺帽將固定盤(1)和連接盤(2)連接起來。
全文摘要
一種用于Veeco射頻離子束濺射鍍膜機的雙盤連接基片裝置及使用方法，該裝置由固定盤、外接盤和基片蓋板構(gòu)成，該固定盤的中心開有一軸套孔，該固定盤的邊緣設(shè)有N個不穿透的螺孔；該外接盤的邊緣與固定盤的螺孔相對應(yīng)處也開設(shè)N個尺寸相同的通孔，其中N為大于2的正整數(shù)；該外接盤依據(jù)基片的大小和形狀開設(shè)一基片槽；基片蓋板與基片槽相對應(yīng)配套，該基片槽和基片蓋板的相同部位分別開設(shè)有螺孔和通孔。采用本發(fā)明使Veeco射頻離子束濺射鍍膜機的鍍膜面積由原來的68cm
文檔編號C23C14/50GK1446942SQ03115810
公開日2003年10月8日 申請日期2003年3月14日 優(yōu)先權(quán)日2003年3月14日
發(fā)明者王英劍, 葛建忠, 賀洪波, 范正修 申請人:中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機械研究所