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用于校正激光脈沖的方法和裝置的制造方法

文檔序號(hào):8421816閱讀:202來源:國(guó)知局
用于校正激光脈沖的方法和裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及用于校正激光脈沖的方法和裝置,且更明確地說,涉及用于在將激光脈沖輻射到襯底時(shí)校正激光脈沖的能量強(qiáng)度的方法和裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]因?yàn)樵诔练e薄膜后執(zhí)行退火時(shí)由于襯底大小的增大而難以確保均勻性,所以存在許多替代方案,其中之一是使用激光脈沖的退火方法。
[0003]三個(gè)主要因素可影響激光退火。三個(gè)因素包含:線束輪廓,其表示所輻射的激光束的線長(zhǎng)度和均勻性;激光能量,其表示激光脈沖的能量強(qiáng)度;以及脈沖形狀,其表示激光束的脈沖形狀。這三個(gè)因素是可隨激光脈沖的次數(shù)增加而變化的值。當(dāng)這些因素具有超過參考范圍的值時(shí),退火工藝中的缺陷增加,大規(guī)模生產(chǎn)的操作時(shí)間減少,且因此存在限制在于,生產(chǎn)效率降低。
[0004]從多個(gè)激光光源射出的激光脈沖經(jīng)由衰減器和光學(xué)系統(tǒng)而輻射到襯底。然而,當(dāng)使用利用兩個(gè)或兩個(gè)以上的激光光源以在所述激光光源之間互補(bǔ)能量的設(shè)施時(shí),隨著時(shí)間過去,在激光光源之間發(fā)生散射的變化,且因此存在限制在于,難以維持由初始激光光源的組合產(chǎn)生的脈沖的形狀。
[0005]為了解決這種限制,將相同的高電壓供應(yīng)到激光光源中的每一個(gè),這具有限制在于,激光光源之間的散射的變化根據(jù)激光光源的特性而發(fā)生,且激光光源之間的輸出能量的散射也取決于所使用的激光脈沖量的增大而變化。
[0006]【專利文獻(xiàn)】
[0007](專利文獻(xiàn)0001)第10-2011-0070265號(hào)韓國(guó)專利公開。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]本發(fā)明提供校正從兩個(gè)或兩個(gè)以上激光光源發(fā)射而輸出的激光脈沖的脈沖波形的變化的裝置和方法。且,本發(fā)明通過控制其它外圍裝置而不是激光光源自身來校正激光脈沖的變化。
[0009]根據(jù)一示范性實(shí)施例,一種校正激光脈沖的方法包含以下過程:測(cè)量個(gè)別激光脈沖,其中測(cè)量從多個(gè)激光光源射出(發(fā)射)且由每一個(gè)別衰減器進(jìn)行強(qiáng)度調(diào)節(jié)的所述個(gè)別激光脈沖的峰值;控制每一衰減器的入射角,其中在所測(cè)量的個(gè)別激光脈沖的所述峰值處于預(yù)先設(shè)置的個(gè)別誤差范圍之外時(shí)調(diào)節(jié)指派給處于誤差范圍之外的激光光源的個(gè)別衰減器的所述入射角;以及重復(fù)所述測(cè)量所述個(gè)別激光脈沖的過程和所述控制個(gè)別衰減器的所述入射角的過程,直到所測(cè)量的個(gè)別激光脈沖的所述峰值處于預(yù)先設(shè)置的個(gè)別誤差范圍內(nèi)為止。
[0010]所述控制所述個(gè)別衰減器的所述入射角的過程可包含:當(dāng)所述所測(cè)量的個(gè)別激光脈沖的所述峰值小于預(yù)先設(shè)置的個(gè)別峰值時(shí),調(diào)節(jié)指派給小于所述預(yù)先設(shè)置的個(gè)別峰值的激光光源的個(gè)別衰減器的所述入射角以致使個(gè)別激光脈沖的所述峰值達(dá)到所述誤差范圍的下限。
[0011]所述控制所述個(gè)別衰減器的所述入射角的過程可包含:當(dāng)所述所測(cè)量的個(gè)別激光脈沖的所述峰值超過預(yù)先設(shè)置的個(gè)別峰值時(shí),調(diào)節(jié)指派給超過所述預(yù)先設(shè)置的個(gè)別峰值的激光光源的所述個(gè)別衰減器的所述入射角以致使個(gè)別激光脈沖的所述峰值達(dá)到所述誤差范圍的上限。
[0012]根據(jù)另一示范性實(shí)施例,一種校正激光脈沖的方法包含以下過程:測(cè)量個(gè)別激光脈沖的同步以檢查在從多個(gè)激光光源射出且由每一個(gè)別衰減器進(jìn)行強(qiáng)度調(diào)節(jié)的激光脈沖之間是否存在同步延遲;以及控制個(gè)別衰減器的入射角,其中當(dāng)存在所述同步延遲時(shí),指派給激光光源的個(gè)別衰減器的所述入射角經(jīng)調(diào)節(jié)以改變激光脈沖的強(qiáng)度。
[0013]在所述測(cè)量所述個(gè)別激光脈沖的所述同步的過程中,可檢查是否同時(shí)檢測(cè)到每一激光脈沖的峰值以檢查所述同步延遲。
[0014]可取決于經(jīng)同步延遲的時(shí)間長(zhǎng)度來確定同步延遲的激光光源的入射角的強(qiáng)度。
[0015]激光光源的激光脈沖的能量強(qiáng)度可隨著經(jīng)同步延遲的所述時(shí)間長(zhǎng)度增大而增大。
[0016]根據(jù)另一示范性實(shí)施例,一種用于校正激光脈沖的裝置包含:多個(gè)個(gè)別激光光源,射出(發(fā)射)激光脈沖;個(gè)別衰減器,指派給每一激光光源以控制激光脈沖的入射角來調(diào)節(jié)激光脈沖的強(qiáng)度;個(gè)別激光脈沖測(cè)量單元,測(cè)量從所述個(gè)別衰減器輸出的個(gè)別激光脈沖的波形;以及反饋校正單元,取決于所測(cè)量的個(gè)別激光脈沖的變化而調(diào)節(jié)指派給每一激光光源的個(gè)別衰減器的入射角,以致使個(gè)別激光脈沖的波形處于誤差范圍內(nèi)。
[0017]所述個(gè)別激光脈沖測(cè)量單元可測(cè)量從所述多個(gè)激光光源射出且穿過每一個(gè)別衰減器的個(gè)別激光脈沖的峰值。
[0018]所述反饋校正單元可逐步調(diào)節(jié)指派給處于誤差范圍之外的激光光源的個(gè)別衰減器的入射角,以致使所測(cè)量的個(gè)別激光脈沖的所述峰值處于預(yù)先設(shè)置的個(gè)別誤差范圍內(nèi)。
[0019]所述個(gè)別激光脈沖測(cè)量單元可檢查從所述多個(gè)激光光源射出且穿過每一個(gè)別衰減器的激光脈沖之間是否存在同步延遲。
[0020]所述反饋校正單元可在存在同步延遲時(shí)調(diào)節(jié)指派給具有所述同步延遲的激光光源的個(gè)別衰減器的入射角以改變激光脈沖的強(qiáng)度。
[0021]根據(jù)本發(fā)明,通過校正從兩個(gè)或兩個(gè)以上的激光光源輸出的激光脈沖的脈沖波形的變化,可恒定地維持輻射到襯底的激光脈沖。因此,通過校正每一激光光源的脈沖波形的變化,可防止工藝中的缺陷。
【附圖說明】
[0022]可結(jié)合附圖從以下描述更詳細(xì)地理解示范性實(shí)施例。
[0023]圖1為根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的激光校正裝置的框圖。
[0024]圖2(a)為取決于在第一激光脈沖與第二激光脈沖之間存在同步的曲線圖。
[0025]圖2(b)為取決于在第一激光脈沖與第二激光脈沖之間不存在同步的曲線圖。
[0026]圖3為根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的通過使用激光脈沖的峰值來校正激光強(qiáng)度的過程的流程圖。
[0027]圖4為根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的通過使用激光脈沖的同步來校正激光強(qiáng)度的過程的流程圖。
[0028]圖5 (a)和圖5 (b)展示通過將第一激光脈沖與第二激光脈沖相加而獲得的波形。
[0029]圖6 (a)、圖6 (b)、圖6 (C)、圖6 (d)展示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的在發(fā)生同步延遲時(shí)增大激光脈沖的強(qiáng)度的過程。
[0030]【主要元件標(biāo)號(hào)說明】
[0031]10:激光脈沖
[0032]11:第一激光脈沖
[0033]12:第二激光脈沖
[0034]100:激光光源
[0035]10a:第一激光光源
[0036]10b:第二激光光源
[0037]10c:激光光源
[0038]10n:激光光源
[0039]200:衰減器
[0040]200a:第一衰減器
[0041]200b:第二衰減器
[0042]200c:衰減器
[0043]200η:衰減器
[0044]300:光學(xué)系統(tǒng)
[0045]400:個(gè)別激光脈沖測(cè)量單元
[0046]500:反饋校正單元
[0047]S310、S320、S330、S410、S420:過程
【具體實(shí)施方式】
[0048]下文參看附圖更詳細(xì)地描述本發(fā)明的示范性實(shí)施例。然而,本發(fā)明按不同形式體現(xiàn)且不應(yīng)視為限于本文所闡述的實(shí)施例。而是,提供這些實(shí)施例以使得本發(fā)明是詳盡且完整的,且向所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員全面地傳達(dá)本發(fā)明的范圍。圖式上的相同符號(hào)表示相同組件。
[0049]在下文中,雖然通過使用激光校正裝置來描述本發(fā)明的實(shí)施例,但顯而易見的是,所述實(shí)施例還可應(yīng)用于應(yīng)用激光校正裝置的所有襯底處理裝置、激光處理裝置、激光退火裝置和激光熱處理裝置。
[0050]圖1為根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的激光校正裝置的框圖。
[0051]根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的激光校正裝置
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