1.一種屏蔽罩框架，包括本體，其特征在于，所述本體的表面設(shè)有若干印記點，所述印記點為凹陷或凸起，所述表面的拉伸及折彎邊緣開設(shè)有沖孔。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的屏蔽罩框架，其特征在于，若干所述印記點為陣列排布在本體的表面上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的屏蔽罩框架，其特征在于，所述印記點的形狀為方形、圓形或橢圓形。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項所述的屏蔽罩框架，其特征在于，所述印記點的大小為0.1-0.6毫米。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項所述的屏蔽罩框架，其特征在于，所述印記點的間距為0.3-0.6毫米。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項所述的屏蔽罩框架，其特征在于，所述印記點的深度為0.03-0.1毫米。