中引弧非高頻等離子割槍的制作方法
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型涉及一種中引弧非高頻等離子割槍?zhuān)浒ㄊ直?、槍頭主體、中引弧電極、中引弧噴嘴、保護(hù)套以及驅(qū)動(dòng)中引弧電極與中引弧噴嘴分離的驅(qū)動(dòng)部件，所述的槍頭主體與手柄固定連接，所述的中引弧電極的頂端設(shè)置有與所述的驅(qū)動(dòng)部件連接的柱形連接頭，在中引弧電極的中部設(shè)置有凸起部，凸起部為圓柱形的凸起狀，凸起部的下方設(shè)置有直徑逐漸縮小的錐形面的引弧部，中引弧噴嘴內(nèi)部的空腔中部設(shè)置有錐形壁面，該錐形壁面與引弧部的錐形面尺寸相對(duì)應(yīng)。本實(shí)用新型的中引弧非高頻等離子割槍采用非高頻的引弧方式，不會(huì)對(duì)周邊的設(shè)備造成干擾，引弧位置設(shè)置在中引弧電極中部，延長(zhǎng)了中引弧電極和中引弧噴嘴的使用壽命，同時(shí)，優(yōu)化了冷卻系統(tǒng)，增強(qiáng)了割槍的整體冷卻性能，延長(zhǎng)了使用壽命。
【專(zhuān)利說(shuō)明】中引弧非高頻等離子割槍

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實(shí)用新型涉焊槍領(lǐng)域，特別是一種中引弧非高頻等離子割槍。

【背景技術(shù)】
[0002] 等離子割槍切割是利用高溫等離子電弧的熱量使工件切口處的金屬局部熔化，并 借高速等離子的棟梁排出熔融金屬以形成切口的一種加工方法。等離子切割的優(yōu)點(diǎn)在于切 割厚度不大的金屬的時(shí)候，等離子切割速度開(kāi)，切割面光潔，熱變形小，幾乎沒(méi)有熱影響區(qū)。 由于傳統(tǒng)的高頻引弧技術(shù)會(huì)產(chǎn)生嚴(yán)重的電磁干擾，影響周邊設(shè)施的正常運(yùn)行，因此研發(fā)了 非高頻的等離子割槍?，F(xiàn)有的等離子割槍的電極與噴嘴的接觸引弧部位位于電極的下端， 在等離子割槍使用時(shí)，引弧部位局部高溫，電極和噴嘴上的引弧部位很容易損毀，導(dǎo)致電極 和噴嘴使用壽命短，更換頻率高。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003] 本實(shí)用新型的目的在于針對(duì)【背景技術(shù)】中所指出現(xiàn)有的等離子割槍的電極和噴嘴 容易損毀的問(wèn)題，提供一種能夠解決前述問(wèn)題的中引弧非高頻等離子割槍。
[0004] 實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型的發(fā)明目的的技術(shù)方案如下：
[0005] -種中引弧非高頻等離子割槍?zhuān)浒ㄊ直?、槍頭主體、中引弧電極、中引弧噴嘴、 保護(hù)套以及驅(qū)動(dòng)中引弧電極與中引弧噴嘴分離的驅(qū)動(dòng)部件，所述的槍頭主體與手柄固定連 接，所述的中引弧電極的頂端設(shè)置有與所述的驅(qū)動(dòng)部件連接的柱形連接頭，在中引弧電極 的中部設(shè)置有凸起部，凸起部為圓柱形的凸起狀，凸起部的下方設(shè)置有直徑逐漸縮小的錐 形面的引弧部，中引弧電極的中部和下部延伸至中引弧噴嘴內(nèi)部的空腔中，中引弧噴嘴的 下端設(shè)置有出弧孔，中引弧噴嘴內(nèi)部的空腔中部設(shè)置有錐形壁面，該錐形壁面與引弧部的 錐形面尺寸相對(duì)應(yīng)，在中引弧噴嘴的頂部連接有渦流環(huán)，渦流環(huán)的上部與槍頭主體連接，所 述的保護(hù)套設(shè)置在中引弧噴嘴和槍頭主體的的外部，保護(hù)套頂端與槍頭主體連接，在保護(hù) 套的下端位于中引弧噴嘴的下部的位置設(shè)置有保護(hù)套瓷罩。
[0006] 為了便于控制中引弧電極和中引弧噴嘴的分離和閉合，所述的驅(qū)動(dòng)部件包括活塞 和活塞桿，活塞桿的下端與中引弧電極固定連接，活塞固定在活塞桿上并位于中引弧電極 的上方，在活塞桿上位于活塞的上方設(shè)置有復(fù)位彈簧，在槍頭主體內(nèi)部位于復(fù)位彈簧的頂 部設(shè)置有限位部，活塞桿內(nèi)部設(shè)置有氣體通道，活塞桿的上部與通氣導(dǎo)管連接，在活塞桿壁 上位于活塞與中引弧電極之間設(shè)置有氣孔，在槍頭主體壁上與該氣孔位置相對(duì)應(yīng)的位置設(shè) 置有通氣孔。
[0007] 為了增強(qiáng)槍頭主體的產(chǎn)品精度，增強(qiáng)冷卻效果，延長(zhǎng)產(chǎn)品壽命，所述的槍頭主體包 括活塞管、連接管及連接在連接管下端開(kāi)口處的連接套，連接管連接在活塞管的中下部，連 接套連接在連接管的下部。
[0008] 為了確保連接套與活塞桿之間的密封性，所述的連接套內(nèi)壁中部設(shè)置有密封槽， 密封槽內(nèi)設(shè)置密封圈，活塞桿從該密封圈中穿過(guò)，使得連接套與活塞桿之間保持氣密性。
[0009] 上述方案中所述的限位部為設(shè)置在活塞管的下部的臺(tái)階面。
[0010] 上述方案中所述的通氣孔設(shè)置在所述的連接管的管壁上。
[0011] 為了減小活塞上行的阻力，便于活塞帶動(dòng)中引弧電極與中引弧噴嘴分離，在所述 的槍頭主體的壁上位于活塞的上方設(shè)置有漏氣孔，所述的漏氣孔設(shè)置在連接管的管壁上， 并位于所述的保護(hù)套的上方。
[0012] 為了增強(qiáng)保護(hù)套與槍頭主體連接部位的氣密性，在所述的保護(hù)套與槍頭主體的連 接部位的下方，在保護(hù)套與槍頭主體之間設(shè)置有密封圈，為了便于對(duì)中引弧噴嘴進(jìn)行降溫 冷卻，保護(hù)套內(nèi)部設(shè)置有支撐中引弧噴嘴的凸圈，該凸圈上設(shè)置有冷卻氣體通道，保護(hù)套的 下方設(shè)置有冷卻氣體排出口。
[0013] 為了便于割槍的放置，所述的保護(hù)套的下方設(shè)置有滾輪架，滾輪架上設(shè)置有與保 護(hù)套形狀相對(duì)應(yīng)的支撐件。
[0014] 本實(shí)用新型的中引弧非高頻等離子割槍的優(yōu)點(diǎn)在于：1)采用非高頻的引弧方式， 不會(huì)對(duì)周邊的設(shè)備造成干擾，可以確保周?chē)O(shè)施的正常運(yùn)行；2)中引弧電極和中引弧噴嘴 之間引弧位置位于中引弧電極的中部，接觸面積大，可以避免局部高溫導(dǎo)致中引弧電極和 中引弧噴嘴的損毀，延長(zhǎng)中引弧電極和中引弧噴嘴的使用壽命；3)槍頭主體結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)化，生 產(chǎn)裝配都比較簡(jiǎn)單，能夠有效提高產(chǎn)品的精度；4)本實(shí)用新型的割槍的冷卻系統(tǒng)經(jīng)過(guò)優(yōu)化 設(shè)計(jì)，增強(qiáng)了冷卻效果，延長(zhǎng)了中引弧噴嘴的使用壽命；5)保護(hù)套接近等離子弧的部位設(shè) 置了保護(hù)套瓷罩，能夠延長(zhǎng)保護(hù)套的使用壽命，降低使用成本。

【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0015] 圖1為本實(shí)用新型的中引弧非高頻等離子割槍的拆分示意圖；
[0016] 圖2為本實(shí)用新型的中引弧非高頻等離子割槍的裝配示意圖；
[0017] 圖3為本實(shí)用新型的中引弧非高頻等離子割槍的剖視圖；
[0018] 圖中，1為手柄，2為槍頭主體，3為中引弧電極，4為中引弧噴嘴，5為保護(hù)套，6為 柱形連接頭，7為引弧部,8為出弧孔,9為錐形壁面，10為渦流環(huán)，11為保護(hù)套瓷罩，12為活 塞，13為活塞桿，14為復(fù)位彈簧，15為限位部，16為氣體通道，17為通氣導(dǎo)管，18為氣孔，19 為通氣孔，20為活塞管，21為連接管，22為連接套，23為密封圈，24為漏氣孔，25為冷卻氣 體通道，26為冷卻氣體排出口，27為滾輪架。

【具體實(shí)施方式】
[0019] 參照?qǐng)D1至圖3所示的一種中引弧非高頻等離子割槍?zhuān)浒ㄊ直?、槍頭主體2、 中引弧電極3、中引弧噴嘴4、保護(hù)套5以及驅(qū)動(dòng)中引弧電極3與中引弧噴嘴4分離的驅(qū)動(dòng) 部件，所述的槍頭主體2與手柄1固定連接，所述的中引弧電極3的頂端設(shè)置有與所述的驅(qū) 動(dòng)部件連接的柱形連接頭6，在中引弧電極3的中部設(shè)置有凸起部，凸起部為圓柱形的凸起 狀，凸起部的下方設(shè)置有直徑逐漸縮小的錐形面的引弧部7,中引弧電極3的中部和下部延 伸至中引弧噴嘴4內(nèi)部的空腔中，中引弧噴嘴4的下端設(shè)置有出弧孔8,中引弧噴嘴4內(nèi)部 的空腔中部設(shè)置有錐形壁面9,該錐形壁面9與引弧部7的錐形面尺寸相對(duì)應(yīng)，在中引弧噴 嘴4的頂部連接有渦流環(huán)10,渦流環(huán)10的上部與槍頭主體2連接，所述的保護(hù)套5設(shè)置在 中引弧噴嘴4和槍頭主體2的的外部，保護(hù)套5頂端與槍頭主體2連接，在保護(hù)套5的下端 位于中引弧噴嘴4的下部的位置設(shè)置有保護(hù)套瓷罩11。
[0020] 為了便于控制中引弧電極3和中引弧噴嘴4的分離和閉合，所述的驅(qū)動(dòng)部件包括 活塞12和活塞桿13,活塞桿13的下端設(shè)置有內(nèi)螺紋的連接孔，中引弧電極3頂端的柱形連 接頭6設(shè)置有與該連接孔的內(nèi)螺紋配合外螺紋，活塞12固定在活塞桿13上并位于中引弧 電極3的上方，在活塞桿13上位于活塞12的上方設(shè)置有復(fù)位彈簧14,在槍頭主體2內(nèi)部位 于復(fù)位彈簧14的頂部設(shè)置有限位部15,復(fù)位彈簧14的上端頂在限位部15上，復(fù)位彈簧14 的下端頂在活塞12上，活塞桿13內(nèi)部設(shè)置有氣體通道16,桿的上部與通氣導(dǎo)管17連接，在 活塞桿13壁上位于活塞12與中引弧電極3之間設(shè)置有氣孔18,在槍頭主體2壁上與該氣 孔18位置相對(duì)應(yīng)的位置設(shè)置有通氣孔19。
[0021] 為了增強(qiáng)槍頭主體2的產(chǎn)品精度，增強(qiáng)冷卻效果，延長(zhǎng)產(chǎn)品壽命，所述的槍頭主體 2包括活塞管20、連接管21及連接在連接管21下端開(kāi)口處的連接套22,連接管21連接在 活塞管20的中下部，連接套22連接在連接管21的下部。
[0022] 為了確保連接套22與活塞桿13之間的密封性，所述的連接套22內(nèi)壁中部設(shè)置有 密封槽，密封槽內(nèi)設(shè)置密封圈23,活塞桿13從該密封圈23中穿過(guò)，使得連接套22與活塞桿 13之間保持氣密性。
[0023] 上述方案中所述的限位部15為設(shè)置在活塞管20的下部的臺(tái)階面。
[0024] 上述方案中所述的通氣孔19設(shè)置在所述的連接管21的管壁上。
[0025] 為了減小活塞12上行的阻力，便于活塞12帶動(dòng)中引弧電極3與中引弧噴嘴4分 離，在所述的槍頭主體2的壁上位于活塞12的上方設(shè)置有漏氣孔24,所述的漏氣孔24設(shè)置 在連接管21的管壁上，并位于所述的保護(hù)套5的上方。
[0026] 為了增強(qiáng)保護(hù)套5與槍頭主體2連接部位的氣密性，在所述的保護(hù)套5與槍頭主 體2的連接部位的下方，在保護(hù)套5與槍頭主體2之間設(shè)置有密封圈23,為了便于對(duì)中引弧 噴嘴4進(jìn)行降溫冷卻，保護(hù)套5內(nèi)部設(shè)置有支撐中引弧噴嘴4的凸圈，該凸圈上設(shè)置有冷卻 氣體通道25,保護(hù)套5的下方設(shè)置有冷卻氣體排出口 26。為了增強(qiáng)對(duì)中引弧噴嘴4的冷卻 效果，冷卻氣體通道25向著中引弧噴嘴4的方向傾斜設(shè)置，使冷卻氣體通過(guò)冷卻氣體通道 25后直接到達(dá)中引弧噴嘴4的外壁面上。
[0027] 為了便于割槍的放置，所述的保護(hù)套5的下方設(shè)置有滾輪架27,滾輪架27上設(shè)置 有與保護(hù)套5形狀相對(duì)應(yīng)的支撐件。
[0028] 本實(shí)用新型的中引弧非高頻等離子割槍在非工作狀態(tài)下，中引弧電極3的引弧部 7與中引弧噴嘴4內(nèi)部的錐形壁面9是接觸的，中引弧非高頻等離子割槍在使用時(shí)，將槍頭 主體2上的通氣導(dǎo)管17與高壓等離子氣體罐連接，然后打開(kāi)氣閥，等離子氣通過(guò)通氣導(dǎo)管 17進(jìn)入到活塞桿13內(nèi)的氣體通道16,然后從活塞12與中引弧電極3之間的氣孔18導(dǎo)出， 然后，高壓等離子氣體的推動(dòng)活塞12向上運(yùn)動(dòng)，活塞12帶動(dòng)活塞桿13以及中引弧電極3 向上運(yùn)動(dòng)，使中引弧電極3與中引弧噴嘴4分開(kāi)，部分高壓等離子氣體從槍頭主體2上的通 氣孔19導(dǎo)出，進(jìn)入到保護(hù)套5內(nèi)部的空腔內(nèi)，這部分高壓等離子氣體通過(guò)渦流環(huán)10上的 氣孔18進(jìn)入到渦流環(huán)10內(nèi)，通過(guò)渦流環(huán)10內(nèi)的氣體通道16,進(jìn)入到中引弧噴嘴4內(nèi)部的 空腔內(nèi)，然后向下通過(guò)中引弧電極3的引弧部7與中引弧噴嘴4內(nèi)部的錐形面，在該引弧部 7位激發(fā)等離子電弧，電弧通過(guò)中引弧噴嘴4下方的通孔噴出，另一部分高壓等離子氣體穿 過(guò)外護(hù)套上的冷卻氣體通道25,到達(dá)中引弧噴嘴4與外護(hù)套之間的空隙中，對(duì)中引弧噴嘴4 進(jìn)行冷卻，并通過(guò)外護(hù)套下方的冷卻氣體排出口 26排出。中引弧非高頻等離子割槍工作結(jié) 束后，關(guān)閉電源，等到中引弧噴嘴4和中引弧電極3冷卻后，關(guān)閉高壓等離子氣體閥門(mén)，活塞 12在復(fù)位彈簧14的作用下向下運(yùn)動(dòng)，活塞12帶動(dòng)活塞桿13進(jìn)而帶動(dòng)中引弧電極3向下運(yùn) 動(dòng)，使中引弧電極3的引弧部7與中引弧噴嘴4內(nèi)部的錐形避免恢復(fù)到開(kāi)始狀態(tài)下的閉合 狀態(tài)，最后放置在滾輪架27上，以備下次使用。
【權(quán)利要求】
1. 一種中引弧非高頻等離子割槍?zhuān)涮卣髟谟冢浩浒ㄊ直岊^主體、中引弧電極、 中引弧噴嘴、保護(hù)套以及驅(qū)動(dòng)中引弧電極與中引弧噴嘴分離的驅(qū)動(dòng)部件，所述的槍頭主體 與手柄固定連接，所述的中引弧電極的頂端設(shè)置有與所述的驅(qū)動(dòng)部件連接的柱形連接頭， 在中引弧電極的中部設(shè)置有凸起部，凸起部為圓柱形的凸起狀，凸起部的下方設(shè)置有直徑 逐漸縮小的錐形面的引弧部，中引弧電極的中部和下部延伸至中引弧噴嘴內(nèi)部的空腔中， 中引弧噴嘴的下端設(shè)置有出弧孔，中引弧噴嘴內(nèi)部的空腔中部設(shè)置有錐形壁面，該錐形壁 面與引弧部的錐形面尺寸相對(duì)應(yīng)，在中引弧噴嘴的頂部連接有渦流環(huán)，渦流環(huán)的上部與槍 頭主體連接，所述的保護(hù)套設(shè)置在中引弧噴嘴和槍頭主體的的外部，保護(hù)套頂端與槍頭主 體連接，在保護(hù)套的下端位于中引弧噴嘴的下部的位置設(shè)置有保護(hù)套瓷罩。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的中引弧非高頻等離子割槍?zhuān)涮卣髟谟冢核龅尿?qū)動(dòng)部件包 括活塞和活塞桿，活塞桿的下端與中引弧電極固定連接，活塞固定在活塞桿上并位于中引 弧電極的上方，在活塞桿上位于活塞的上方設(shè)置有復(fù)位彈簧，在槍頭主體內(nèi)部位于復(fù)位彈 簧的頂部設(shè)置有限位部，活塞桿內(nèi)部設(shè)置有氣體通道，活塞桿的上部與通氣導(dǎo)管連接，在活 塞桿壁上位于活塞與中引弧電極之間設(shè)置有氣孔，在槍頭主體壁上與該氣孔位置相對(duì)應(yīng)的 位置設(shè)置有通氣孔。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的中引弧非高頻等離子割槍?zhuān)涮卣髟谟冢核龅臉岊^主體包 括活塞管、連接管及連接在連接管下端開(kāi)口處的連接套，連接管連接在活塞管的中下部，連 接套連接在連接管的下部。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的中引弧非高頻等離子割槍?zhuān)涮卣髟谟冢核龅倪B接套內(nèi)壁 中部設(shè)置有密封槽，密封槽內(nèi)設(shè)置密封圈，活塞桿從該密封圈中穿過(guò)，使得連接套與活塞桿 之間保持氣密性。
5. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的中引弧非高頻等離子割槍?zhuān)涮卣髟谟冢核龅南尬徊繛樵O(shè) 置在活塞管的下部的臺(tái)階面。
6. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的中引弧非高頻等離子割槍?zhuān)涮卣髟谟冢核龅耐饪自O(shè)置 在所述的連接管的管壁上。
7. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的中引弧非高頻等離子割槍?zhuān)涮卣髟谟冢涸谒龅臉岊^主體 的壁上位于活塞的上方設(shè)置有漏氣孔，所述的漏氣孔設(shè)置在連接管的管壁上，并位于所述 的保護(hù)套的上方。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的中引弧非高頻等離子割槍?zhuān)涮卣髟谟冢涸谒龅谋Ｗo(hù)套與 槍頭主體的連接部位的下方，在保護(hù)套與槍頭主體之間設(shè)置有密封圈，保護(hù)套內(nèi)部設(shè)置有 支撐中引弧噴嘴的凸圈，該凸圈上設(shè)置有冷卻氣體通道，保護(hù)套的下方設(shè)置有冷卻氣體排 出口。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的中引弧非高頻等離子割槍?zhuān)涮卣髟谟冢核龅谋Ｗo(hù)套的下 方設(shè)置有滾輪架，滾輪架上設(shè)置有與保護(hù)套形狀相對(duì)應(yīng)的支撐件。
【文檔編號(hào)】B23K10/00GK203875466SQ201420254915
【公開(kāi)日】2014年10月15日 申請(qǐng)日期:2014年5月19日 優(yōu)先權(quán)日:2014年5月19日
【發(fā)明者】倪文榮, 何建鋒 申請(qǐng)人:常州市華瑞焊割機(jī)械有限公司