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表面包覆切削工具的制作方法

文檔序號:3054918閱讀:190來源:國知局
專利名稱:表面包覆切削工具的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種表面包覆切削工具(以下,稱為包覆工具),硬質(zhì)包覆層由具有優(yōu)異的耐熔敷性和優(yōu)異的硬度的表面層構(gòu)成,因此尤其在伴有高熱發(fā)生的高速切削條件下進(jìn)行各種Ti類合金或含有高Si的Al-Si類合金等硬質(zhì)難切削材料的切削加工時,也可以抑制通過發(fā)生熔敷而產(chǎn)生的硬質(zhì)包覆層的剝離,經(jīng)長期使用而發(fā)揮優(yōu)異的耐剝離性和耐磨性。
背景技術(shù)
包覆工具一般有在各種鋼或鑄鐵等被切削材料的車削加工或平面銑削加工中裝卸自如地安裝于車刀的前端部上而使用的可轉(zhuǎn)位刀片、使用于所述被切削材料的鉆孔切削加工等的鉆頭或小型鉆頭、以及使用于所述被切削材料的面削加工或槽加工、臺階面加工等的實心式立銑刀等,并且,已知有裝卸自如地安裝所述可轉(zhuǎn)位刀片且與所述實心式立銑刀相同地進(jìn)行切削加工的一次性立銑刀工具等。并且,作為包覆工具,已知有在由碳化鎢(以下,用WC表示)基硬質(zhì)合金或碳氮化鈦(以下,用TiCN表示)基金屬陶瓷構(gòu)成的工具基體的表面形成由下述(a) (c)構(gòu)成的硬質(zhì)包覆層的包覆工具(以下,稱為以往包覆工具),(a)由具有0. 8 5 μ m的平均層厚且滿足結(jié)構(gòu)式(Al1-Jix) N(其中以原子比計, X表示0.25 0.60)的(Al,Ti)N層構(gòu)成的下部層;(b)由具有0. 1 0. 5 μ m的平均層厚的&BN (硼氮化鋯)層構(gòu)成的粘附接合層;(c)由具有0. 8 5 μ m的平均層厚的(硼化鋯)層構(gòu)成的上部層,并且,已知有該以往包覆工具在合金工具鋼或軸承鋼的淬火材料等高硬度鋼的高速切削加工中發(fā)揮優(yōu)異的耐磨性。而且,還已知有上述以往包覆工具通過如下制造在并設(shè)電弧離子鍍裝置和直流濺射裝置的物理蒸鍍裝置中裝入上述工具基體,首先,在由加熱器加熱裝置內(nèi)的狀態(tài)下,在裝置內(nèi)導(dǎo)入氮氣體作為反應(yīng)氣體,在電弧離子鍍裝置的陽極電極與設(shè)置具有規(guī)定組成的 Ti-Al合金的陰極電極(蒸發(fā)源)之間發(fā)生電弧放電,從而對由上述(a)的(Al,Ti)N層構(gòu)成的下部層進(jìn)行成膜,其次,開始作為直流濺射裝置的陰極電極(蒸發(fā)源)配置的燒結(jié)體的濺射;將裝置內(nèi)的氣氛從氮氣氛逐漸取代為Ar氣氛,由此首先成膜&BN層作為上述 (b)的粘附接合層;其次,對重疊于上述 ·BN層上且由上述(c)的層構(gòu)成的上部層進(jìn)行成膜。并且,作為成膜硬質(zhì)包覆層的手段,不僅有利用電弧離子鍍、直流濺射的成膜,而且還提出有利用高輸出脈沖濺射的成膜,例如,如專利文獻(xiàn)2、3所示,還已知有通過在脈沖的瞬間外加電力在200W/cm2以上、脈沖的一個波長長度設(shè)為100μ sec以下的條件下進(jìn)行高輸出脈沖濺射,從而能夠以高成膜速度成膜仏1,11)203 (其中^為1%、211^11、?6等)或 α -Al2O3。專利文獻(xiàn)1 日本專利公開平2006-1004號公報
專利文獻(xiàn)2 國際公開第2008/148673號專利文獻(xiàn)3 國際公開第2009/010330號近年來的切削加工裝置的高性能化及自動化顯著,一方面對切削加工的節(jié)省勞力化及節(jié)能化以及低成本化的要求強(qiáng)烈,隨此,切削加工有高速化并且強(qiáng)烈要求不限定于被切削材料的種類的具有通用性的包覆工具的傾向,但是上述的以往包覆工具中,現(xiàn)狀如下 將此用于合金工具鋼或軸承鋼的淬火材料等高硬度鋼的高速切削加工時,發(fā)揮優(yōu)異的耐磨性,但是將此尤其為了在高速切削條件下進(jìn)行各種Ti類合金或含有高Si的Al-Si類合金等硬質(zhì)難切削材料的切削加工而使用時,因切削時發(fā)生的極高的發(fā)熱而容易產(chǎn)生熔敷,因此原因引起硬質(zhì)包覆層的剝離,在較短的時間內(nèi)達(dá)到使用壽命。因此,本發(fā)明人等從如上述的觀點出發(fā),為了開發(fā)在上述的硬質(zhì)難切削材料的高速切削加工中硬質(zhì)層發(fā)揮優(yōu)異的耐熔敷性、耐剝離性的包覆工具,進(jìn)行深入研究的結(jié)果,得到如下見解。首先,查明了如下內(nèi)容以往包覆工具(專利文獻(xiàn)1)中,以直流濺射成膜層, 將此用于淬火材料等高硬度鋼的高速切削加工時不會產(chǎn)生特別的問題,但是,將此尤其為了在高速切削條件下進(jìn)行各種Ti類合金或含有高Si的Al-Si類合金等硬質(zhì)難切削材料的切削加工而使用時,由于表面組織緊密,因此與被切削材料的接觸面積較大,因極其高的發(fā)熱而產(chǎn)生熔敷,并且,因為層的晶粒間的結(jié)合也較弱,所以引起因其熔敷而產(chǎn)生的硬質(zhì)包覆層的剝離。因此,本發(fā)明人等著眼于不易引起熔敷的發(fā)生、且晶粒之間的結(jié)合強(qiáng)度較高的 ZrB2層組織并進(jìn)行研究的結(jié)果,發(fā)現(xiàn)了如下內(nèi)容當(dāng)成膜^B2層時,不采用專利文獻(xiàn)1所示的直流濺射,而是通過采用特定條件的高輸出脈沖濺射,即使在各種Ti類合金或含有高 Si的Al-Si類合金等硬質(zhì)難切削材料的高速切削條件下的切削加工中,也因為表面組織疏松,所以與被切削材料的接觸面積較小,所以不易發(fā)熱,熔敷也不易產(chǎn)生,除此之外因為 &艮層的晶粒之間的結(jié)合強(qiáng)度較強(qiáng),所以能夠?qū)Σ灰桩a(chǎn)生硬質(zhì)包覆層剝離的層進(jìn)行成膜。具體而言,圖1示出高輸出脈沖濺射裝置的概要俯視圖,但是發(fā)現(xiàn)如果在高輸出脈沖濺射裝置上配置ττ硼化物(以下,用表示)粉末的燒結(jié)體(以下,稱為^B2燒結(jié)體)靴,使裝置內(nèi)氣氛為Ar氣氛,用SkW以上的較高平均投入電力進(jìn)行高輸出脈沖濺射,并在工具基體的表面蒸鍍成膜層,則由于不易產(chǎn)生熔敷,所以可以對具有優(yōu)異的耐熔敷性,并且晶粒之間的結(jié)合強(qiáng)度較強(qiáng),膜硬度較高(例如,以荷重200mg測定時的納米壓痕硬度在3600kgf/mm2以上)的層進(jìn)行成膜。由此,發(fā)現(xiàn)該結(jié)果的包覆工具尤其在伴有顯著的高熱發(fā)生的各種Ti類合金或含有高Si的Al-Si類合金等硬質(zhì)難切削材料的高速切削中,通過由具有優(yōu)異的耐熔敷性、晶粒之間的結(jié)合強(qiáng)度以及硬度的層構(gòu)成的表面層,尤其可以抑制以熔敷為起因的硬質(zhì)包覆層的剝離,經(jīng)長期使用而發(fā)揮優(yōu)異的耐剝離性和耐磨性。

發(fā)明內(nèi)容
該發(fā)明是基于上述見解而完成的,一種表面包覆切削工具,其特征在于,在由碳化鎢基硬質(zhì)合金或碳氮化鈦基金屬CN 102371385 A
說明書
3/14 頁
陶瓷構(gòu)成的工具基體的最表面至少包覆具有平均層厚為0. 5 5 μ m的&硼化物層而成,上述^ 硼化物層作為具有多個平均粒徑的晶粒組織的復(fù)合組織而構(gòu)成,該復(fù)合組織由平均粒徑為50 IOOnm的二次晶粒和平均粒徑為200 IOOOnm的三次晶粒構(gòu)成, 該二次晶粒由具有平均粒徑為5 30nm的一次晶粒的集合體構(gòu)成,該三次晶粒由該二次晶粒的集合體構(gòu)成。接著,詳細(xì)說明該發(fā)明的包覆工具。硬質(zhì)包覆層的平均層厚形成于由碳化鎢基硬質(zhì)合金或碳氮化鈦基金屬陶瓷構(gòu)成的工具基體的最表面的 Zr硼化物層,當(dāng)其平均層厚不到0. 5 μ m時,在經(jīng)長期使用而發(fā)揮本身所具有的優(yōu)異的耐磨性方面不是很充分,另一方面若其平均層厚超過5 μ m,則能夠抑制Ti類合金、含有高Si的 Al-Si類合金等硬質(zhì)難切削材料的高速切削中以熔敷為起因的剝離,但是通過以高輸出脈沖濺射所具有的向鍍膜的高打入(打6込& )效果為起因的較大的壓縮殘余應(yīng)力,在切削刃部上容易發(fā)生碎屑,因此將其平均層厚規(guī)定為0. 5 5 μ m。復(fù)合組織的效果及晶粒的平均粒徑該復(fù)合組織的效果如下,S卩,通過形成晶粒的集合體,不用說該一次晶粒彼此的結(jié)合力,還能夠利用該二次晶粒彼此的結(jié)合力。構(gòu)成該復(fù)合組織的一次晶粒的平均粒徑很難形成具有不到5nm的晶粒的被膜,另一方面若其平均粒徑超過30nm,則因為阻礙位錯運動的晶界減少,所以不能維持高硬度。并且,若由該一次晶粒的集合體構(gòu)成的二次晶粒的平均粒徑不到50nm,則構(gòu)成用于得到復(fù)合組織的優(yōu)點、即晶粒彼此的較強(qiáng)結(jié)合力的二次晶粒的一次晶粒數(shù)不充分,若超過lOOnm,則構(gòu)成三次晶粒的二次晶粒數(shù)不充分。進(jìn)而,若由該二次晶粒的集合體構(gòu)成的三次晶粒的平均粒徑不到200nm,則因為切削時與被切削材料接觸的面積變大,所以容易引起熔敷,導(dǎo)致連該復(fù)合組織一起剝離,另一方面若超過lOOOnm,則無法耐于切削時的負(fù)荷。接著,說明該發(fā)明的包覆工具的制造方法。圖1表示高輸出脈沖濺射裝置,作為用于制造該發(fā)明的包覆工具、例如在工具基體表面以規(guī)定厚度成膜(Ti,Al)N層,其次,在最表面蒸鍍成膜灶艮層的包覆工具的裝置的一個例子。S卩,可以通過如下來制造圖1所示的高輸出脈沖濺射裝置中,在該高輸出脈沖濺射裝置的中央部設(shè)置工具基體安裝用旋轉(zhuǎn)臺,在夾著所述旋轉(zhuǎn)臺而對置的2個部位,例如配置具有規(guī)定組成的Ti-Al合金靶,并且在與Ti-Al合金靶偏離90度的位置中,在夾著旋轉(zhuǎn)臺而對置的2個部位配置粉末的燒結(jié)體( 燒結(jié)體)靶,在從所述旋轉(zhuǎn)臺上的中心軸向半徑方向遠(yuǎn)離規(guī)定距離的位置,沿著外周部將多個工具基體安裝為環(huán)狀,在該狀態(tài)下將裝置內(nèi)氣氛設(shè)為氮氣氛旋轉(zhuǎn)所述旋轉(zhuǎn)臺,并且以謀求蒸鍍形成的耐磨硬質(zhì)層的層厚均勻化的目的也使工具基體本身自轉(zhuǎn)的同時,首先,進(jìn)行相對于所述Ti-Al合金靶的6kW以上的較高平均投入電力的高輸出脈沖濺射,在所述工具基體的表面以0. 8 5 μ m的平均層厚蒸鍍成膜(Ti,A1)N層作為耐磨硬質(zhì)層,接著,將裝置內(nèi)的氣氛實質(zhì)上變?yōu)锳r氣氛,并且對
燒結(jié)體靶用8kW以上的較高平均投入電力進(jìn)行高輸出脈沖濺射,在所述(Ti,Al)N層上以0. 5 5 μ m的平均層厚蒸鍍成膜層作為最表面層。尤其是通過上述特定條件下的高輸出脈沖濺射成膜的層即使如以往包覆工具那樣不介入粘附接合層(&BN層),也相對于(Ti,A1)N層具有優(yōu)異的粘附強(qiáng)度,進(jìn)而提
高膜硬度。另外,上述的高輸出脈沖濺射中,作為其濺射條件,優(yōu)選使脈沖外加時的發(fā)生等離子體密度成為1018m3以上,并且,脈沖的一個波長的長度為200 μ sec以上且每一周期的脈沖的非外加時間成為10 μ sec以上的濺射條件下進(jìn)行濺射為優(yōu)選。通過上述的基于提高能量等級的矩形脈沖的高輸出脈沖濺射,因為能夠減少相對于靶的熱負(fù)荷,所以能夠抑制靶的沒必要的溫度上升。并且,通過上述高輸出脈沖濺射成膜的(Ti,A1)N層、^B2層的粘附強(qiáng)度均較大, 且具有高硬度。該發(fā)明的包覆工具為如下工具由于作為硬質(zhì)包覆層是具有與被切削材料的接觸面積變小的疏松的表面組織且晶粒之間的結(jié)合強(qiáng)度較強(qiáng)的晶粒組織的復(fù)合組織,并且具備由具有高硬度的層構(gòu)成的表面層,因此在進(jìn)行硬質(zhì)難切削材料的伴有高熱發(fā)生的高速切削條件加工時,能夠抑制以熔敷為起因的硬質(zhì)包覆層的剝離,所以經(jīng)長期使用而發(fā)揮優(yōu)異的耐磨性。


圖1是為了對本發(fā)明包覆工具的表面包覆層進(jìn)行成膜而使用的高輸出脈沖濺射裝置的概要俯視圖。圖2表示本發(fā)明包覆刀片9的ττ硼化物層的水平截面的掃描型電子顯微鏡照片 (倍率10萬倍)。圖3表示以往包覆刀片9的^ 硼化物層的水平截面的掃描型電子顯微鏡照片(倍率10萬倍)。圖4表示本發(fā)明包覆刀片的由復(fù)合組織構(gòu)成的ττ硼化物層的水平截面示意圖。
具體實施例方式接著,根據(jù)實施例具體說明基于該發(fā)明的包覆工具及其制造方法。[實施例1] 準(zhǔn)備均具有1 3 μ m的平均粒徑的WC粉末、TiC粉末、ZrC粉末、VC粉末、TaC粉末、NbC粉末、Cr3C2粉末、TiN粉末、TaN粉末及Co粉末作為原料粉末,將這些原料粉末配合成表1所示的配合組成,用球磨機(jī)濕式混合72小時并干燥后,以IOOMPa的壓力沖壓成型為壓坯,將該壓坯在6 的真空中,在以溫度1400°C保持1小時的條件下燒結(jié),燒結(jié)后,在切削刃部分實施R 0. 03的珩磨加工,形成具有ISO標(biāo)準(zhǔn)· CNMG120408的刀片形狀的WC基硬質(zhì)合金制工具基體A-I A-IO。 另外,準(zhǔn)備均具有0. 5 2μπι的平均粒徑的TiCN (以重量比計為TiC/TiN = 50/50)粉末、Mo2C粉末、粉末、NbC粉末、TaC粉末、WC粉末、Co粉末及Ni粉末作為原料粉末,將這些原料粉末配合成表2所示的配合組成,用球磨機(jī)濕式混合M小時并干燥后,以IOOMPa的壓力沖壓成型為壓坯,將該壓坯在2kPa的氮氣氛中,在以溫度1500°C保持1小時的條件下燒結(jié),燒結(jié)后,在切削刃部分實施R 0. 03的珩磨加工,形成具有ISO標(biāo)準(zhǔn)· CNMG120408的刀片形狀的TiCN基金屬陶瓷制工具基體B-I B-6。
6
(a)其次,將各個上述的工具基體A-I A_10及B_1 B_6在丙酮中進(jìn)行超聲波清洗,在干燥的狀態(tài)下,在從圖1所示的高輸出脈沖濺射裝置內(nèi)的旋轉(zhuǎn)臺上的中心軸向半徑方向遠(yuǎn)離規(guī)定距離的位置,沿著外周部進(jìn)行安裝,另一方面,在高輸出脈沖濺射裝置內(nèi), 在夾著旋轉(zhuǎn)臺而對置的4個部位配置Ti-Al合金靶和^B2燒結(jié)體靶;(b)首先,對裝置內(nèi)進(jìn)行排氣并保持0. IPa以下的真空的同時,用加熱器加熱裝置內(nèi)至400°C后,對在所述旋轉(zhuǎn)臺上邊自轉(zhuǎn)邊旋轉(zhuǎn)的工具基體外加-200V的直流偏壓,從而對所述工具基體進(jìn)行1小時Ar轟擊處理;(c)向裝置內(nèi)導(dǎo)入氮氣體作為反應(yīng)氣體,并設(shè)為0. 6Pa的反應(yīng)氣氛,并且在表3條件記號a所示的規(guī)定脈沖濺射條件下,對所述Ti-Al合金靶進(jìn)行高輸出脈沖濺射,從而在所述工具基體的表面對表4所示的目標(biāo)組成及目標(biāo)層厚的(Ti,Al)N層進(jìn)行成膜作為硬質(zhì)包覆層的耐磨硬質(zhì)層;(d)繼而,在表3所示的規(guī)定的脈沖濺射條件下,對燒結(jié)體靶進(jìn)行高輸出脈沖濺射,將導(dǎo)入裝置內(nèi)的氣體從氮氣體切換成Ar氣體,并且將裝置內(nèi)氣氛設(shè)為0. 5Pa,該條件下以對應(yīng)于層厚的時間進(jìn)行濺射,同樣地對表4所示的目標(biāo)層厚的層進(jìn)行成膜作為硬質(zhì)包覆層的表面層,由此分別制造出作為本發(fā)明包覆工具的本發(fā)明表面包覆刀片(以下, 稱為本發(fā)明包覆刀片)1 16。另外,作為比較的目的,將這些工具基體A-I A-IO及B-I B_6在丙酮中進(jìn)行超聲波清洗,在干燥的狀態(tài)下,分別裝入并設(shè)電弧離子鍍裝置和直流濺射裝置的物理蒸鍍裝置中,在裝置內(nèi)安裝具有各種成分組成的Ti-Al合金靶、Zi^2燒結(jié)體靶,首先,對裝置內(nèi)進(jìn)行排氣并保持0. IPa以下的真空的同時,用加熱器加熱裝置內(nèi)至500°C后,在所述Ti-Al合金靶與陽極電極之間發(fā)生電弧放電,在所述工具基體的表面對作為硬質(zhì)包覆層的耐磨硬質(zhì)層的目標(biāo)組成及目標(biāo)層厚的(Ti,A1)N層進(jìn)行成膜作為下部層,其次,停止所述Al-Ti合金的陰極電極(蒸發(fā)源)與陽極電極之間的電弧放電,開始作為所述直流濺射裝置的陰極電極(蒸發(fā)源)配置的燒結(jié)體的直流濺射,將所述蒸鍍裝置內(nèi)的氣氛代替氮氣氛設(shè)為Ar和氮的混合氣體氣氛,隨著時間變化逐漸增加Ar的導(dǎo)入比例而另一方面氮的導(dǎo)入比例逐漸減少的氣氛的條件下,以表6所示的平均層厚蒸鍍&BN層作為粘附接合層,接著,使所述蒸鍍裝置內(nèi)的氣氛最終成為Ar氣氛,繼續(xù)進(jìn)行作為所述直流濺射裝置的陰極電極(蒸發(fā)源)配置的^B2燒結(jié)體的直流濺射,從而重疊于所述 ·BN 層,在表5所示的規(guī)定的直流濺射條件下,蒸鍍表6所示的平均層厚的層作為上部層, 由此分別制造出作為以往包覆工具的以往表面包覆刀片(以下,稱為以往包覆刀片)1 16。另外,為了參考,用與圖1所示的制造本發(fā)明包覆刀片1 16的裝置相同的裝置 (即,裝置內(nèi)安裝有Ti-Al合金靶和燒結(jié)體靶),在與本發(fā)明包覆刀片1 16不同的組成、膜厚、濺射條件下成膜,由此分別制造出表6所示的作為參考包覆工具的參考表面包覆刀片(以下,稱為參考包覆刀片)1 4。通過掃描型電子顯微鏡(Carl zeiss公司制造,ultra55),以10萬倍的視野對上述的本發(fā)明包覆刀片1 16、以往包覆刀片1 16及參考包覆刀片1 4的層的其晶粒組織進(jìn)行觀察,對一次晶粒、二次晶粒及三次晶粒的平均粒徑,測定10處以晶粒的粒子截面的面積作為圓的面積取代時的直徑,并取其平均值。
表4、表6中示出其測定值。另外,圖2中表示本發(fā)明包覆刀片9的層的水平截面的掃描型電子顯微鏡照片(倍率10萬倍),圖3中表示以往包覆刀片9的層的水平截面的掃描型電子顯微鏡照片(倍率10萬倍),圖4中表示本發(fā)明包覆刀片的由復(fù)合組織構(gòu)成的ττ硼化物層的水平截面示意圖。通過超顯微壓痕硬度試驗機(jī)(ELIONIX INC.公司制造,ENT_1100a)對上述的本發(fā)明包覆刀片1 16、以往包覆刀片1 16及參考包覆刀片1 4的層測定其表面硬度。表4、表6中示出其測定值。另外,通過使用透射型電子顯微鏡的能量分散X射線分析法測定上述的本發(fā)明包覆刀片1 16、以往包覆刀片1 16及參考包覆刀片1 4的構(gòu)成硬質(zhì)包覆層的耐磨硬質(zhì)層的組成,結(jié)果分別示出實質(zhì)上與目標(biāo)組成相同的組成。此外,使用掃描型電子顯微鏡對上述的硬質(zhì)包覆層的層及耐磨硬質(zhì)層的平均層厚進(jìn)行截面測定,結(jié)果均示出實質(zhì)上與目標(biāo)層厚相同的平均值(5個部位的平均值)。其次,在將上述的各種包覆刀片均用固定夾具緊固于工具鋼制車刀的前端部的狀態(tài)下,對本發(fā)明包覆刀片1 16、以往包覆刀片1 16及參考包覆刀片1 4,進(jìn)行被切削材料以質(zhì)量%計為Ti-6% Al-4% V合金的圓棒;切削速度100m/min.;切深1.5mm;進(jìn)給量0. 2mm/rev.;切削時間5分鐘的條件(稱為切削條件A)下的Ti類合金的干式連續(xù)高速切削加工試驗(通常的切削速度為60m/min.),測定刀刃的后刀面磨損寬度。該測定結(jié)果示于表7。[表 1]
權(quán)利要求
1. 一種表面包覆切削工具,其特征在于,在由碳化鎢基硬質(zhì)合金或碳氮化鈦基金屬陶瓷構(gòu)成的工具基體的最表面至少包覆具有平均層厚為0. 5 5 μ m的&硼化物層而成,上述^ 硼化物層作為具有多個平均粒徑的晶粒組織的復(fù)合組織而構(gòu)成,該復(fù)合組織由平均粒徑為50 IOOnm的二次晶粒和平均粒徑為200 IOOOnm的三次晶粒構(gòu)成,該二次晶粒由具有平均粒徑為5 30nm的一次晶粒的集合體構(gòu)成,該三次晶粒由該二次晶粒的集合體構(gòu)成。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種在硬質(zhì)難切削材料的高速切削加工中硬質(zhì)包覆層發(fā)揮優(yōu)異的耐剝離性和優(yōu)異的耐磨性的表面包覆切削工具。本發(fā)明的切削工具,在由碳化鎢基硬質(zhì)合金或碳氮化鈦基金屬陶瓷構(gòu)成的工具基體的最表面至少包覆具有平均層厚為0.5~5μm的Zr硼化物層而成,其中,上述Zr硼化物層作為具有多個平均粒徑的晶粒組織的復(fù)合組織而構(gòu)成,該復(fù)合組織由平均粒徑為50~100nm的二次晶粒和平均粒徑為200~1000nm的三次晶粒構(gòu)成,該二次晶粒由具有平均粒徑為5~30nm的一次晶粒的集合體構(gòu)成,該三次晶粒由該二次晶粒的集合體構(gòu)成。
文檔編號B23C5/00GK102371385SQ20111023001
公開日2012年3月14日 申請日期2011年8月8日 優(yōu)先權(quán)日2010年8月12日
發(fā)明者柿沼宏彰, 田中裕介 申請人:三菱綜合材料株式會社
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