專(zhuān)利名稱(chēng)：非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池激光刻劃設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池激光刻劃設(shè)備
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及激光切割技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及對(duì)非晶硅薄膜太陽(yáng)
能電池的非晶硅(a-Si)和/或后電極進(jìn)行刻劃的激光刻劃設(shè)備。背景技術(shù)：
隨著現(xiàn)代工業(yè)的高速發(fā)展，技術(shù)快速的更新?lián)Q代以及對(duì)能源的需 求，現(xiàn)在能源結(jié)構(gòu)正在發(fā)生著根本性的變革，傳統(tǒng)的能源煤炭、石 油、天然氣使用量將在2020年一2040年到達(dá)高峰，而在2050年后 將會(huì)逐漸枯竭，替代能源，可再生能源(主要是太陽(yáng)能)從2000年 開(kāi)始迅猛發(fā)展，到2050年使用量將達(dá)到高峰。傳統(tǒng)太陽(yáng)能電池是4吏 用單晶硅或多晶硅薄片，其硅用料較多，浪費(fèi)嚴(yán)重，硅元素提純工藝 復(fù)雜且成本太高。非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池使用硅元素量很少所以無(wú)原 料瓶頸，成本低，且工藝成熟，所以發(fā)展很快，成為目前薄膜太陽(yáng)能 電池最成熟的產(chǎn) 品o
如圖1所示，這種非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池在基板1(玻璃)上共
有三層前電極2、非晶硅(a-Si ) 3和后電極4。非晶硅薄膜太陽(yáng) 能電池的激光刻劃是根據(jù)這種非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池的制作工藝過(guò) 程，分別在不同的工藝時(shí)段選用不同波長(zhǎng)的激光設(shè)備進(jìn)行刻劃，非晶 硅薄膜太陽(yáng)能電池共有三層，所以需要進(jìn)行三次刻劃才能完成整個(gè)制作過(guò)程。按刻劃非晶硅薄膜電池的工藝要求，刻劃非晶硅電池薄膜， 要求精確重復(fù)定位的機(jī)床、能量均勻的激光器，刻劃線寬U、 L2、
L3要細(xì)，且刻線直線性好、光滑清晰，刻線膜層兩側(cè)無(wú)粘連短路， 為了使單片電池板上能發(fā)出較高的功率，L的距離需要盡可能的短。
的工藝要求，且化學(xué)溶劑蝕刻方式要增加污水處理設(shè)備，占用廠房面 積大，成本高，對(duì)環(huán)境造成污染，不利環(huán)保。

實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供能夠滿足工藝要求且刻劃 精度高的非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池激光刻劃設(shè)備。
本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案是
非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池激光刻劃設(shè)備，包括X軸運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)、X軸 基座、Y軸運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)、Y軸基座、工裝、立柱和光路系統(tǒng)，工裝安裝 在Y軸運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)上，Y軸運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)安裝在Y軸基座上，光路系統(tǒng)安裝 在X軸運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)上，X軸運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)安裝在X軸才幾座上，X軸機(jī)座通過(guò) 安裝于Y軸機(jī)座的立柱橫跨安裝于Y軸機(jī)座上方，還包括左CCD定位 系統(tǒng)、右CCD定位系統(tǒng)、左切割頭和右切割頭，左切割頭和右切割頭 都位于工裝上方且都平行安裝在X軸運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)上，左CCD定位系統(tǒng)和 右CCD定位系統(tǒng)分別固定安裝在左切割頭和右切割頭上。
所述光路系統(tǒng)包括激光器和將激光器發(fā)出的激光束分別引導(dǎo)到 所述左切割頭和右切割頭的雙路引導(dǎo)單元。
所述工裝包括工裝基板、至少三個(gè)分布安裝在工裝基板表面的不在同一直線上的點(diǎn)支撐柱，以及安裝于基板上的用于定位非晶硅薄膜 太陽(yáng)能電池板的二維定位機(jī)構(gòu)。
所述二維定位^幾構(gòu)包括兩個(gè)固定定位點(diǎn)、三個(gè)氣缸定位點(diǎn)以及一 個(gè)糾偏調(diào)節(jié)定位點(diǎn)，其中第 一 固定定位點(diǎn)和第 一氣缸定位點(diǎn)同線定位 第--維方向，第一固定定位點(diǎn)固定在工裝基板上，第一氣缸定位點(diǎn)對(duì) 應(yīng)第 一 固定定位點(diǎn)沿第 一維方向設(shè)置在工裝基板上，余下一個(gè)固定定 位點(diǎn)、糾偏調(diào)節(jié)定位點(diǎn)和兩個(gè)氣缸定位點(diǎn)定位第二維方向，第二固定 定位點(diǎn)和糾偏調(diào)節(jié)定位點(diǎn)都固定在工裝基板上，第二氣缸定位點(diǎn)和第 三氣缸定位點(diǎn)分別對(duì)應(yīng)第二固定定位點(diǎn)和糾偏調(diào)節(jié)定位點(diǎn)沿第二維 方向設(shè)置在工裝基板上。
所述激光器為波長(zhǎng)是532mn的固體激光器。 所述X軸運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)包括用于調(diào)節(jié)左切割頭和右切割頭間距的雙 頭間距調(diào)節(jié)裝置，所述右切割頭安裝在雙頭間距調(diào)節(jié)裝置上。 本實(shí)用新型的有益效果是
本實(shí)用新型工作臺(tái)采用天然大理石進(jìn)行加工，變形量較小，確保 工作臺(tái)的穩(wěn)定性；所有的工作軸均采用高精度絲杠和導(dǎo)軌傳動(dòng)，其中 X軸運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)還采用了光柵尺反饋補(bǔ)償，從而保證了非晶硅薄膜大陽(yáng) 能電池激光刻劃的精度；該設(shè)備還采用雙切割頭刻劃，且兩個(gè)切割頭 的距離可以通過(guò)雙頭間距調(diào)節(jié)裝置的小絲桿進(jìn)行調(diào)節(jié)；由激光器發(fā)出 的光經(jīng)過(guò)分光鏡分成兩束光到達(dá)左切割頭和右切割頭，柏對(duì)單個(gè)切割 頭的效率提高了一倍；在刻劃非晶硅(a-Si )及后電極時(shí)，用固定在 切割頭上的CCD定位系統(tǒng)對(duì)上道工序激光刻劃的線條Ll進(jìn)行檢測(cè)， 進(jìn)而通過(guò)第三氣缸定位點(diǎn)和糾偏調(diào)節(jié)定位點(diǎn)相配合對(duì)非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池板進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，以實(shí)現(xiàn)糾偏功能，并且根據(jù)捕獲的線條L1的
數(shù)據(jù)自動(dòng)偏移后再刻劃第二道L2、第三道L3，且由于兩個(gè)CCD定位 系統(tǒng)固定在兩個(gè)切割頭上，可以在線時(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)刻劃效果，/人而保i正了 在刻劃非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池板非晶硅(a-Si)、后電極時(shí)的平行度 及L1、 L2、 L3間距的一致性、穩(wěn)定性，增加了有效面積的利用，提 高了單片太陽(yáng)能電池板的輸出功率。且激光刻劃是干刻方式，無(wú)需化
學(xué)溶劑，所以無(wú)需水處理設(shè)備，占用廠房面積小，成本較低，對(duì)環(huán)境 無(wú)污染，有利環(huán)保；通過(guò)利用激光進(jìn)行精密刻劃，提高了產(chǎn)品的穩(wěn)定 性，節(jié)約了成本，增加了效益。


下面參照附圖結(jié)合實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的描述。 圖l是非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池的結(jié)構(gòu)示意圖。 圖2是本實(shí)用新型的非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池激光刻劃設(shè)備的正 面視圖。
圖3是本實(shí)用新型的非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池激光刻劃設(shè)備的側(cè) 截面視圖。 .
圖4是本實(shí)用新型中工裝的結(jié)構(gòu)示意圖(一)。 圖5是本實(shí)用新型中工裝的結(jié)構(gòu)示意圖(二)。 圖6是本實(shí)用新型的光路平面圖。
圖7是本實(shí)用新型的非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池激光刻劃設(shè)備的控
制柜視圖'.具體實(shí)施方式
本實(shí)用新型的刻劃設(shè)備用于對(duì)非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池的非晶硅
(a-S'i )和/或后電極進(jìn)行刻劃，如圖1所示的L2、 L3部分，即在完 成第一道刻劃Ll之后再使用本實(shí)用新型的刻劃設(shè)備。
如圖2至圖7所示，本實(shí)用新型的非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池激光刻 劃設(shè)備，包括X軸運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)15、 X軸基座IO、 Y軸運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)7、 Y軸 基座5、工裝8、立柱14和光路系統(tǒng)16,工裝8安裝在Y軸運(yùn)動(dòng)系 統(tǒng)7上，Y軸運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)7安裝在Y軸基座5上，光路系統(tǒng)16安裝在X 軸運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)15上，X軸運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)15安裝在X軸才幾座10上，X軸才幾座 10通過(guò)安裝于Y軸機(jī)座5的立柱14橫跨安裝于Y軸機(jī)座5上方，還 包括左CCD定位系統(tǒng)11、右CCD定位系統(tǒng)11'、左切割頭9和右切割 頭9，，左切割頭9和右切割頭9，都位于工裝8上方且都平行安裝在 X軸運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)15上，左CCD定位系統(tǒng)11和右CCD定位系統(tǒng)11，分別 固定安裝在左切割頭9和右切割頭9，上。其中，光路系統(tǒng)16包括 激光器1 和將激光器17發(fā)出的激光束分別引導(dǎo)到所述左切割頭9和 右切割頭9'的雙路引導(dǎo)單元，光路系統(tǒng)16采用分光結(jié)構(gòu)，激光器 17發(fā)出的光通過(guò)偏振鏡片2 9,由分光鏡3 0分出兩束能量均勻的激光， 其中 一束激光經(jīng)第 一光束模式整形器32后，進(jìn)入第 一擴(kuò)束鏡33擴(kuò)束， 再經(jīng)過(guò)第一45度全反射鏡片40反射，導(dǎo)引到另一片相對(duì)反射鏡片間 距可調(diào)的45度全反射鏡片34后，到達(dá)右切割頭9，，并由右切割 頭9，聚焦到非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池板的膜層表面，另一束激光經(jīng)過(guò) 第二 45度全反射鏡片37反射90度后，經(jīng)第二光束模式整形器38整 形后，進(jìn)入第二擴(kuò)束鏡39擴(kuò)束，再由第三45度全反射鏡片41反射90度后，導(dǎo)引到左切割頭9，并由左切割頭9聚焦到非晶硅薄膜太陽(yáng) 能電池板的膜層表面，實(shí)現(xiàn)雙頭切割，效率提高一倍。整個(gè)激光器由
Q-開(kāi)關(guān)控制，當(dāng)刻劃X方向線條時(shí)，振鏡31遮擋掉通往右切割頭9' 的光路，只用左切割頭刻劃；其中左切割頭9固定在X軸運(yùn)動(dòng)系統(tǒng) 15的光路底板13上，成為固定不動(dòng)的切割頭9，所述X軸運(yùn)動(dòng)系統(tǒng) 15包括用于調(diào)節(jié)左切割頭9和右切割頭9，間距的雙頭間距調(diào)節(jié)裝置 18，所述右切割頭9，安裝在雙頭間距調(diào)節(jié)裝置18上，右切割頭9' 相對(duì)左切割頭9通過(guò)雙頭間距調(diào)節(jié)裝置18進(jìn)行自動(dòng)調(diào)節(jié)，雙頭間距 調(diào)節(jié)裝置18由伺服電機(jī)帶動(dòng)，使用精密絲桿傳動(dòng)，加光柵尺全閉環(huán) 控制系統(tǒng)實(shí)時(shí)反^t貴補(bǔ)償，調(diào)節(jié)方便。
本實(shí)用新型中的激光器為波長(zhǎng)是5 3 2nm的固體激光器。 本實(shí)用新型的刻劃?rùn)C(jī)采用龍門(mén)式結(jié)構(gòu)，Y軸機(jī)座5、立柱14、 X 軸機(jī)座10,都是采用優(yōu)質(zhì)天然大理石。Y軸運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)7沿Y方向運(yùn)動(dòng)， 即為劃線方向，X軸運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)帶動(dòng)左切割頭9和右切割頭9'沿X軸 方向運(yùn)動(dòng)，即為進(jìn)給運(yùn)動(dòng)；在本實(shí)施例中，Y軸運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)7采用伺服 電機(jī)帶動(dòng)，由大導(dǎo)程、高扭矩絲桿傳動(dòng)；X軸運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)15由伺服電 機(jī)帶動(dòng)，使用高精密絲桿副傳動(dòng)，加光柵尺全閉環(huán)控制系統(tǒng)實(shí)時(shí)反饋 補(bǔ)償。
本實(shí)用新型中的工裝8包括工裝基板、至少三個(gè)分布安裝在工裝 基板表面的不在同一直線上的點(diǎn)支撐柱20,以及安裝于基板8上的 用于定位非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池板的二維定位機(jī)構(gòu)。
所述二維定位機(jī)構(gòu)包括兩個(gè)固定定位點(diǎn)、三個(gè)氣缸定位點(diǎn)以及一 個(gè)糾偏調(diào)節(jié)定位點(diǎn)，其中第一固定定位點(diǎn)2201和第一氣缸定位點(diǎn)1901同線定位第一維方向，第一固定定位點(diǎn)2201固定在工裝基板上, 第 一氣缸定位點(diǎn)19 01對(duì)應(yīng)第 一 固定定位點(diǎn)2 2 01沿第 一維方向設(shè)置在 工裝基板上，余下一個(gè)固定定位點(diǎn)、糾偏調(diào)節(jié)定位點(diǎn)和兩個(gè)氣缸定位 點(diǎn)定位第二維方向，，第二固定定位點(diǎn)2202和糾偏調(diào)節(jié)定位點(diǎn)2203 都固定在工裝基板上，第二氣缸定位點(diǎn)1902和第三氣缸定位點(diǎn)1903 分別對(duì)應(yīng)第二固定定位點(diǎn)2202和糾偏調(diào)節(jié)定位點(diǎn)2203沿第二維方向 設(shè)置在工裝基板上。其中，兩個(gè)固定定位點(diǎn)為兩個(gè)定位輪。
在本實(shí)用新型中，非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池基板采用點(diǎn)支撐，點(diǎn)支 撐柱20與非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池板點(diǎn)接觸，避免了刻劃的線出現(xiàn)短 路，且點(diǎn)支撐柱20高度可調(diào)。
為了消除非晶石圭薄膜太陽(yáng)能電池板的定位誤差，該工裝中的糾偏 調(diào)節(jié)定位點(diǎn)2203和第三氣缸定位點(diǎn)1903相配合實(shí)現(xiàn)自動(dòng)糾偏功能， 糾偏調(diào)節(jié)定位點(diǎn)2203由伺服電機(jī)帶動(dòng)，使用精密絲桿傳動(dòng)，當(dāng)CCD定 位系統(tǒng)監(jiān)視出非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池板上道工序已經(jīng)刻劃好的線與 Y軸運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)不平行，就可以將非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池板旋轉(zhuǎn)一定角 度自動(dòng)進(jìn)行糾正，提高了刻劃精度及工作效率。
在刻劃?rùn)C(jī)中，左CCD定位系統(tǒng)11和右CCD定位系統(tǒng)11，分別固 定在左切割頭9和右切割頭9'上，CCD定位系統(tǒng)通過(guò)圖象數(shù)據(jù)采集卡 把捕獲的信息反映在顯示器25上，來(lái)精確定位使用532nm激光劃線 的第二道和第三道膜層線路，確保與使用1064nm激光劃線的第一道 膜層線路偏移的距離，保證了第二道和第三道膜層刻線的精度。
在本實(shí)用新型中，所有軸的電機(jī)驅(qū)動(dòng)器、控制卡、其他電器元件、 氣路元件安裝在電氣拒6中，布局緊湊合理；鍵盤(pán)鼠標(biāo)抽屜26、顯示器25、運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng)27,激光發(fā)生器控制箱28安裝在控制拒24 中，通過(guò)線纜波紋套管與電氣柜6控制器件連接。
該非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池成套設(shè)備，控制部分采用電腦工控系統(tǒng) 控制，該系統(tǒng)能對(duì)激光發(fā)生器控制箱28、激光器17、 X軸運(yùn)動(dòng)系統(tǒng) 15、 Y軸運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)7、雙頭間距調(diào)節(jié)裝置18的工作速度、圖形刻線長(zhǎng) 度、調(diào)節(jié)位置進(jìn)行有效協(xié)調(diào)及聯(lián)動(dòng)控制。
另外，在工裝8上安裝有非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池參數(shù)檢測(cè)組件 36,可隨時(shí)檢測(cè)產(chǎn)品參數(shù)的變化，以監(jiān)測(cè)非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池參數(shù)， 保證產(chǎn)品質(zhì)量的一致性。
在上述實(shí)施例中，僅對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行了示范性描述，但是本領(lǐng) 域技術(shù)人員在不脫離本實(shí)用新型所保護(hù)的范圍和精神的情況下，可根 據(jù)不同的實(shí)際需要設(shè)計(jì)出各種實(shí)施方式。
權(quán)利要求1.非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池激光刻劃設(shè)備，包括X軸運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)、X軸基座、Y軸運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)、Y軸基座、工裝、立柱和光路系統(tǒng)，工裝安裝在Y軸運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)上，Y軸運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)安裝在Y軸基座上，光路系統(tǒng)安裝在X軸運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)上，X軸運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)安裝在X軸機(jī)座上，X軸機(jī)座通過(guò)安裝于Y軸機(jī)座的立柱橫跨安裝于Y軸機(jī)座上方，其特征在于還包括左CCD定位系統(tǒng)、右CCD定位系統(tǒng)、左切割頭和右切割頭，左切割頭和右切割頭都位于工裝上方且都平行安裝在X軸運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)上，左CCD定位系統(tǒng)和右CCD定位系統(tǒng)分別固定安裝在左切割頭和右切割頭上。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池激光刻劃設(shè)備， 其特征在于所述光路系統(tǒng)包括激光器和將激光器發(fā)出的激光束分別 引導(dǎo)到所述左切割頭和右切割頭的雙路引導(dǎo)單元。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池激光刻劃 設(shè)備，其特征在于所述工裝包括工裝基板、至少三個(gè)分布安裝在工 裝基板表面的不在同 一直線上的點(diǎn)支撐柱，以及安裝于基板上的用于 定位非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池板的二維定位機(jī)構(gòu)。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池激光刻劃設(shè)備， 其特征在于所述二維定位機(jī)構(gòu)包括兩個(gè)固定定位點(diǎn)、三個(gè)氣缸定位 點(diǎn)以及一個(gè)糾偏調(diào)節(jié)定位點(diǎn)，其中第一固定定位點(diǎn)和第一氣缸定位點(diǎn) 同線定位第一維方向，第一固定定位點(diǎn)固定在工裝基板上，第一氣缸定位點(diǎn)對(duì)應(yīng)第 一 固定定位點(diǎn)沿第 一維方向設(shè)置在工裝基ii上，余下一 個(gè)固定定位點(diǎn)、糾偏調(diào)節(jié)定位點(diǎn)和兩個(gè)氣缸定位點(diǎn)定位第二維方向， 第二固定定位點(diǎn)和糾偏調(diào)節(jié)定位點(diǎn)都固定在工裝基板上，第二氣缸定 位點(diǎn)和第三氣缸定位點(diǎn)分別對(duì)應(yīng)第二固定定位點(diǎn)和糾偏調(diào)節(jié)定位點(diǎn) 沿第二維方向設(shè)置在工裝基板上。
5、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池激光刻劃設(shè)備， 其特征在于所述激光器為波長(zhǎng)是532nm的固體激光器。
6、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池激光刻劃設(shè)備， 其特征在于所述X軸運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)包括用于調(diào)節(jié)左切割頭和右切割頭間 距的雙頭間距調(diào)節(jié)裝置，所述右切割頭安裝在雙頭間距調(diào)節(jié)裝置上。
專(zhuān)利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池激光刻劃設(shè)備，涉及激光切割技術(shù)領(lǐng)域。所述刻劃設(shè)備包括X軸運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)、X軸基座、Y軸運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)、Y軸基座、工裝、立柱和光路系統(tǒng)，工裝安裝在Y軸運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)上，Y軸運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)安裝在Y軸基座上，光路系統(tǒng)安裝在X軸運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)上，X軸運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)安裝在X軸機(jī)座上，X軸機(jī)座通過(guò)安裝于Y軸機(jī)座的立柱橫跨安裝于Y軸機(jī)座上方，還包括左CCD定位系統(tǒng)、右CCD定位系統(tǒng)、左切割頭和右切割頭，左切割頭和右切割頭都位于工裝上方且都平行安裝在X軸運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)上，左CCD定位系統(tǒng)和右CCD定位系統(tǒng)分別固定安裝在左切割頭和右切割頭上。本實(shí)用新型能夠滿足工藝要求且刻劃精度高，提高了產(chǎn)品的穩(wěn)定性，節(jié)約了成本。
文檔編號(hào)B23K26/00GK201130670SQ20072017100
公開(kāi)日2008年10月8日 申請(qǐng)日期2007年11月19日 優(yōu)先權(quán)日2007年11月19日
發(fā)明者倪鵬玉, 劉義軍, 吳志宏, 李世印, 文 王, 程文勝, 陳明金, 高云峰 申請(qǐng)人:深圳市大族激光科技股份有限公司