專利名稱：錳合金濺射靶及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及低氧、低硫、大直徑(形)的錳合金濺射靶及其制造方法，特別涉及結(jié)節(jié)(nodule)和粒子的產(chǎn)生少、可以形成高特性、高耐蝕性的薄膜的錳合金濺射靶。
背景技術(shù)：
磁記錄裝置如計(jì)算機(jī)硬盤(pán)驅(qū)動(dòng)器近年來(lái)急速地小型化，并且記錄密度接近達(dá)到數(shù)10Gb/in2。因此，作為再生磁頭，常規(guī)的感應(yīng)型磁頭已達(dá)到其極限，現(xiàn)正在使用各向異性磁阻(AMR)磁頭。
隨計(jì)算機(jī)市場(chǎng)等的擴(kuò)大，各向異性磁阻(AMR)磁頭以世界規(guī)模急速成長(zhǎng)，現(xiàn)在高密度巨磁阻(GMR)磁頭正被實(shí)用化。
考慮到上面這些情況，錳與鉑族等的元素的錳合金近來(lái)被用作GMR磁頭中使用的旋閥(spin valve)膜的反鐵磁性膜，并且為進(jìn)一步提高效率正在進(jìn)行急速的研究和開(kāi)發(fā)。另外，該反鐵磁性膜不僅用在GMR中，而且用在TMR中，并且也可以用在MRAM等中。
例如，制造這樣的巨磁阻(GMR)磁頭時(shí)，通過(guò)濺射法沉積構(gòu)成磁頭的各層。
一般而言，濺射使用的靶通過(guò)燒結(jié)粉末的熱壓法、粉末冶金法如HIP法、或熔煉法來(lái)制造。當(dāng)通過(guò)前述的粉末冶金法制造由錳與鉑族等的元素構(gòu)成的錳合金靶時(shí)，優(yōu)點(diǎn)是形狀成品率良好且斷裂強(qiáng)度高。
然而，在粉末冶金法時(shí)，存在下列問(wèn)題原料粉末的比表面積大，吸附的氧量顯著高，并且由于在靶制造過(guò)程中混入的氧和其它雜質(zhì)元素的量增加，密度低。上述氧的存在使膜的磁特性劣化，顯然這是不希望的。
通過(guò)濺射法形成膜是通過(guò)用正離子如Ar離子物理碰撞設(shè)置在陰極上的靶，用這樣的碰撞能放出構(gòu)成靶的材料，及在相對(duì)的陽(yáng)極側(cè)襯底上層壓組成與靶材料大致相同的膜來(lái)進(jìn)行的。
通過(guò)濺射法進(jìn)行被覆的特征是，通過(guò)調(diào)整處理時(shí)間和電力供應(yīng)等，可以以穩(wěn)定的沉積速度形成埃水平的薄膜至數(shù)十μm的厚膜。
但是，形成上述膜時(shí)存在的一個(gè)特殊問(wèn)題是濺射靶的密度和在濺射操作中產(chǎn)生的結(jié)節(jié)。
錳合金靶是通過(guò)燒結(jié)將錳粉末與鉑族等的元素粉末以特定比例混合而成的粉末而制造的，但由于粉末最初具有不同的元素組成，所以粉末粒徑存在變動(dòng)，并存在難以得到致密的燒結(jié)體的問(wèn)題。
另外，由于膜層變得更小型化和致密，膜本身也被薄薄地微細(xì)化，并且如果形成的膜不均勻，品質(zhì)傾向于變差。因此，將靶成分均勻化的同時(shí)減少空孔是重要的。
另外，當(dāng)靶的腐蝕面上的結(jié)節(jié)增加時(shí)，這將誘發(fā)不規(guī)則的濺射，并且有時(shí)候存在異常放電或集簇(成群)膜的形成引起短路的問(wèn)題。同時(shí)，粗大化的粒子開(kāi)始在濺射室內(nèi)浮游，并且產(chǎn)生這些粒子同樣地再附著到襯底上，引起薄膜上產(chǎn)生突起物的問(wèn)題。
考慮到以上各方面，盡管需要得到成分均勻的高密度燒結(jié)體靶，但通過(guò)粉末冶金法得到的那些靶存在密度不可避免地劣化，結(jié)節(jié)和粒子的產(chǎn)生不能避免的問(wèn)題。
同時(shí)，在熔煉法中，粉末冶金法中產(chǎn)生的氧等的吸附不會(huì)產(chǎn)生，具有靶的密度比燒結(jié)體高的特征。但是，盡管通過(guò)熔煉法得到的Mn合金靶具有優(yōu)良的特性，但存在其易于開(kāi)裂并且斷裂強(qiáng)度比燒結(jié)體低的問(wèn)題。
因此，提出通過(guò)在保持脆性的同時(shí)使用可溶的鑄件或?qū)㈣T造結(jié)構(gòu)作成樹(shù)狀結(jié)構(gòu)來(lái)增加斷裂強(qiáng)度的方案(日本專利公開(kāi)2001-26861號(hào)公報(bào))。然而，鑄造結(jié)構(gòu)具有各向異性，并且，即使通過(guò)將其作成樹(shù)狀結(jié)構(gòu)可以提高斷裂強(qiáng)度，這樣的各向異性將反映在濺射沉積膜中并因此在均勻性上產(chǎn)生缺陷的可能性也很高。
另外，盡管從制造成本和原料成品率的角度考慮優(yōu)選燒結(jié)法，但也提出了將通過(guò)熔煉法得到的材料進(jìn)行塑性加工后使用的方案(日本專利公開(kāi)2000-160332號(hào)公報(bào))。然而，此時(shí)，使用何種塑性加工，或進(jìn)行這樣的塑性加工的程度是不確定的，并且也有不過(guò)是椅子上的空論的方案。
事實(shí)上，如果提不出解決脆性的具體方案，前述的易于開(kāi)裂、斷裂強(qiáng)度低的錳合金靶不能克服上述的問(wèn)題。
本發(fā)明的公開(kāi)本發(fā)明的目的是克服上述的各種問(wèn)題，即，消除易于開(kāi)裂、斷裂強(qiáng)度低的錳合金的缺陷，提供鍛造錳合金靶的穩(wěn)定制造方法，以及提供結(jié)節(jié)或粒子的產(chǎn)生少、可以形成具有高特性、高耐蝕性的薄膜的錳合金靶。
通過(guò)改良作為解決上述問(wèn)題的技術(shù)手段的加工方法，發(fā)現(xiàn)可以制造鍛造錳合金濺射靶。基于上面的發(fā)現(xiàn)，本發(fā)明提供1.一種錳合金濺射靶，其特征在于，氧含量為1000ppm以下，硫含量為200ppm以下，并且具有鍛造組織；2.根據(jù)上面的1所述的錳合金濺射靶，其特征在于，每單位面積(100μm×100μm)的粒徑為5μm以上的氧化物粒子的數(shù)目為1以下；3.根據(jù)上面的1或2所述的錳合金濺射靶，其特征在于，具有單相等軸晶粒結(jié)構(gòu)；4.根據(jù)上面的1-3各項(xiàng)所述的錳合金濺射靶，其特征在于，結(jié)晶粒徑為500μm以下；5.根據(jù)上面的1-4各項(xiàng)所述的錳合金濺射靶，其特征在于，由選自Ni、Pd、Pt、Rh、Ir、Au、Ru、Os、Cr和Re的至少一種與其余的Mn 10-98at％構(gòu)成；6.一種錳合金濺射靶制造方法，其特征在于，將通過(guò)感應(yīng)熔煉法、電弧熔煉法、或電子束熔煉法等的熔煉得到的錳合金錠以平均實(shí)際應(yīng)變速率1×10-2～2×10-5(l/s)進(jìn)行鍛造；7.根據(jù)上面的6所述的錳合金濺射靶制造方法，其特征在于，鍛造在0.75Tm(K)≤T(K)≤0.98Tm(K)的鍛造溫度下進(jìn)行(其中T(K)為鍛造溫度，Tm(K)為錳合金的熔點(diǎn))；8.根據(jù)上面的6所述的錳合金濺射靶制造方法，其特征在于，鍛造在0.80Tm(K)≤T(K)≤0.90Tm(K)的鍛造溫度下進(jìn)行(其中T(K)為鍛造溫度，Tm(K)為錳合金的熔點(diǎn))；9.根據(jù)上面的6-8各項(xiàng)所述的錳合金濺射靶制造方法，其特征在于，鍛造以30％≤壓下率≤99％的壓下率進(jìn)行；10.根據(jù)上面的6-9各項(xiàng)所述的錳合金濺射靶制造方法，其特征在于，進(jìn)行鐓鍛或型鍛；11.根據(jù)上面的6-10各項(xiàng)所述的錳合金濺射靶制造方法，其特征在于，鍛造在真空中或在惰性氣氛下進(jìn)行；12.根據(jù)上面的6-11各項(xiàng)所述的錳合金濺射靶制造方法，其特征在于，氧含量為1000ppm以下，硫含量為200ppm以下；13.根據(jù)上面的6-12各項(xiàng)所述的錳合金濺射靶制造方法，其特征在于，每單位面積(100μm×100μm)的粒徑為5μm以上的氧化物粒子的數(shù)目為1以下；
14.根據(jù)上面的6-13各項(xiàng)所述的錳合金濺射靶制造方法，其特征在于，具有單相等軸晶粒結(jié)構(gòu)；15.根據(jù)上面的6-14各項(xiàng)所述的錳合金濺射靶制造方法，其特征在于，結(jié)晶粒徑為500μm以下；16.根據(jù)上面的6-15各項(xiàng)所述的錳合金濺射靶制造方法，其特征在于，由選自Ni、Pd、Pt、Rh、Ir、Au、Ru、Os、Cr和Re的至少一種與其余的Mn 10-98at％構(gòu)成。
附圖簡(jiǎn)述

圖1是實(shí)施例2的錳鉑合金的顯微鏡組織照片的模仿圖。
實(shí)施發(fā)明的方式本發(fā)明的錳合金濺射靶適用主要由選自Ni、Pd、Pt、Rh、Ir、Au、Ru、Os、Cr和Re的至少一種與其余的Mn 10-98at％構(gòu)成的錳合金。
這些錳合金作為可用于巨磁阻磁頭，即GMR磁頭或TMR磁頭，并最終用于MRAM等中的旋閥膜的反鐵磁性膜是有用的。
由這樣的錳合金構(gòu)成的高純度原料通過(guò)電子束熔煉法、電弧熔煉法、或感應(yīng)熔煉法進(jìn)行熔煉。為避免氧的污染，需要熔煉在真空中或在惰性氣氛下進(jìn)行。這樣，將消除揮發(fā)性物質(zhì)，并且純度將變得更高。將其鑄造，得到高純度錳合金錠。
優(yōu)選錠在真空中或在惰性氣氛下進(jìn)行鐓鍛或型鍛。鍛造以平均實(shí)際應(yīng)變速率1×10-2～2×10-5(l/s)進(jìn)行。如果平均實(shí)際應(yīng)變速率超過(guò)1×10-2(l/s)，容易發(fā)生開(kāi)裂，并且如果低于2×10-5(l/s)，鍛造所需的時(shí)間過(guò)多，效率低。
希望鍛造在0.75Tm(K)≤T(K)≤0.98Tm(K)的鍛造溫度下進(jìn)行。式中，Tm(K)為錳合金的熔點(diǎn)。如果低于0.75Tm(K)，容易發(fā)生開(kāi)裂，并且當(dāng)超過(guò)0.98Tm(K)時(shí)，因高溫而不易進(jìn)行加工，效率低。特別優(yōu)選的鍛造溫度范圍為0.80Tm(K)≤T(K)≤0.90Tm(K)。希望壓下率為30％以上，99％以下。
通過(guò)以上的鍛造，可以制造氧含量1000ppm以下、硫含量200ppm以下的錳合金濺射靶。
另外，也可以制造每單位面積(100μm×100μm)的粒徑為5μm以上的氧化物粒子數(shù)目為1以下的錳合金濺射靶，該靶具有單相等軸晶粒結(jié)構(gòu)，并且結(jié)晶粒徑為500μm以下。
實(shí)施例和比較例以下，說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施例和比較例。這些實(shí)施例僅是本發(fā)明的例子，無(wú)論如何不應(yīng)限制本發(fā)明。即，基于本發(fā)明的技術(shù)思想的變形或其它方式也包括在本發(fā)明范圍內(nèi)。
(實(shí)施例1～實(shí)施例5)使用真空感應(yīng)熔煉爐，在氬氣氛下熔煉由具有表1所示組成的錳合金構(gòu)成的原料，制作了錠。
然后，通過(guò)在惰性氣氛下鐓鍛這些錠，得到了錳鉑合金濺射靶。鍛造條件如各錳鉑合金的熔點(diǎn)、鍛造溫度、壓下率、實(shí)際應(yīng)變速率等同樣在表1中列出。
另外，通過(guò)上面的鍛造得到的錳鉑合金的氧含量、硫含量、每單位面積(100μm×100μm)的粒徑5μm以上的氧化物粒子數(shù)目和平均粒徑(μm)如表2所示。
關(guān)于實(shí)施例2，錳鉑合金的顯微鏡組織照片如圖1(A、B)所示。
表1

表2

氧化物粒子數(shù)目每單位面積(100μm×100μm)的粒徑5μm以上的氧化物粒子數(shù)目(比較例1～比較例3)比較例1表示的情形是將表1所示的錳粉末與鉑粉末混合，然后在溫度1200℃、150kg/cm2壓力下進(jìn)行熱壓，以得到濺射靶；比較例2表示的情形是合成錳和鉑粉末，然后在溫度1200℃、150kg/cm2壓力下進(jìn)行熱壓，以得到濺射靶；比較例3表示的情形是與實(shí)施例一樣，使用真空感應(yīng)熔煉爐在氬氣氛下將由錳-鉑構(gòu)成的原料熔煉，以制作錳鉑錠。并通過(guò)切削該錠得到了錳鉑靶。
所得靶的組成、氧含量、硫含量、每單位面積(100μm×100μm)的粒徑5μm以上的氧化物粒子數(shù)目和平均粒徑(μm)與實(shí)施例對(duì)比，列在表1和表2中。
(實(shí)施例6)使用真空感應(yīng)熔煉爐，在氬氣氛下，將由具有表3所示組成的錳-銥構(gòu)成的原料進(jìn)行熔煉制作了錠。
然后，通過(guò)在惰性氣氛下鐓鍛這些錠，得到了錳銥合金濺射靶。鍛造條件如各錳銥合金的熔點(diǎn)、鍛造溫度、壓下率、實(shí)際應(yīng)變速率等同樣在表3中列出。
另外，通過(guò)上面的鍛造得到的錳合金的氧含量、硫含量、每單位面積(100μm×100μm)的粒徑5μm以上的氧化物粒子數(shù)目和平均粒徑(μm)如表4所示。
表3

表4

氧化物粒子數(shù)目每單位面積(100μm×100μm)的粒徑5μm以上的氧化物粒子數(shù)目(比較例4～比較例5)比較例4表示的情形是將表3所示的錳粉末和銥粉末混合，然后在溫度1050℃、150kg/cm2壓力下進(jìn)行熱壓，以得到濺射靶；比較例5表示的情形是與實(shí)施例一樣，使用真空感應(yīng)熔煉爐，在氬氣氛下，將由錳-銥構(gòu)成的原料進(jìn)行熔煉，以制作錳銥合金錠。
然后，通過(guò)切削該錠得到了錳銥合金靶。所得靶的組成、氧含量、硫含量、每單位面積(100μm×100μm)的粒徑5μm以上的氧化物粒子數(shù)目和平均粒徑(μm)與實(shí)施例對(duì)比，列在表3和表4中。
(實(shí)施例7)使用真空感應(yīng)熔煉爐，在氬氣氛下，將由具有表5所示組成的錳-鎳構(gòu)成的原料進(jìn)行熔煉制作了錠。
然后，通過(guò)在惰性氣氛下鐓鍛這些錠，得到了錳鎳合金濺射靶。鍛造條件如各錳鎳合金的熔點(diǎn)、鍛造溫度、壓下率、實(shí)際應(yīng)變速率等同樣在表3中列出。
另外，通過(guò)上面的鍛造得到的錳鎳合金的氧含量、硫含量、每單位面積(100μm×100μm)的粒徑5μm以上的氧化物粒子數(shù)目和平均粒徑(μm)如表6所示。
表5

表6

氧化物粒子數(shù)目每單位面積(100μm×100μm)的粒徑5μm以上的氧化物粒子數(shù)目(比較例6)如表5所示，比較例6表示的情形是與實(shí)施例7一樣，使用真空感應(yīng)熔煉爐，在氬氣氛下，將由錳-鎳構(gòu)成的原料進(jìn)行熔煉，以制作錠。并通過(guò)切削該錠得到了錳鎳靶。
所得靶的組成、氧含量、硫含量、每單位面積(100μm×100μm)的粒徑5μm以上的氧化物粒子數(shù)目和平均粒徑(μm)與實(shí)施例7對(duì)比，列在表5和表6中。
接下來(lái)，使用上述實(shí)施例及比較例得到的濺射靶(φ76.2mm)進(jìn)行濺射，測(cè)定結(jié)節(jié)的產(chǎn)生量(個(gè)數(shù))。另外，此時(shí)產(chǎn)生的結(jié)節(jié)的個(gè)數(shù)表示可通過(guò)目視識(shí)別的個(gè)數(shù)。濺射條件如下所示。
濺射氣Ar濺射氣壓0.5Pa
濺射氣流量100SCCM投入的電力1W/cm2濺射時(shí)間一直到40小時(shí)結(jié)節(jié)產(chǎn)生量(個(gè)數(shù))的測(cè)定結(jié)果如表7所示。
從表7明顯可以看出，本發(fā)明的實(shí)施例的靶表面上產(chǎn)生的結(jié)節(jié)數(shù)在20小時(shí)內(nèi)最多22個(gè)，即使40小時(shí)后也僅31個(gè)。
與此相對(duì)，使用比較例的靶時(shí)，結(jié)節(jié)數(shù)在20小時(shí)內(nèi)為35-191個(gè)，并在40小時(shí)后迅速增至144-587個(gè)。特別是燒結(jié)體靶中結(jié)節(jié)數(shù)異常多。從這些對(duì)比明顯可以確認(rèn)本發(fā)明產(chǎn)生了顯著的效果。
表7

結(jié)節(jié)數(shù)(個(gè)/φ76.2mm)
如表1～表6所示，各錳合金中，盡管是比較例的平均粒徑小，但就雜質(zhì)氧含量、硫含量而言，比較例的燒結(jié)體靶比本發(fā)明顯著增大。另外，這些結(jié)果顯示每單位面積(100μm×100μm)的粒徑5μm以上的氧化物粒子數(shù)目也增加。
在比較例中，進(jìn)行熔煉但未鍛造、并直接切削成靶的那些與本發(fā)明的實(shí)施例在雜質(zhì)氧含量和硫含量、和結(jié)節(jié)數(shù)方面相當(dāng)接近。然而，平均粒徑異常大，另外如上所述，存在易于開(kāi)裂、斷裂強(qiáng)度低的問(wèn)題，不耐用。
通過(guò)本發(fā)明的實(shí)施例得到的靶如圖1A、1B所示，可以得到致密且晶粒尺寸小(500μm以下)的鍛造組織。圖1表示平均晶粒接近100μm的靶。如上所述，本發(fā)明的靶產(chǎn)生了斷裂強(qiáng)度高、不開(kāi)裂的顯著效果。
發(fā)明效果本發(fā)明產(chǎn)生了消除了易于開(kāi)裂、斷裂強(qiáng)度低的錳合金的缺陷，通過(guò)鍛造可以穩(wěn)定制造錳合金靶，從而得到了結(jié)節(jié)和粒子的產(chǎn)生少、可以形成具有高特性、高耐蝕性的薄膜的錳合金靶。
權(quán)利要求書(shū)(按照條約第19條的修改)1.一種錳合金濺射靶，其特征在于，氧含量為1000ppm以下，硫含量為200ppm以下，具有單相等軸晶粒結(jié)構(gòu)，結(jié)晶徑為500μm以下，并且具有鍛造組織。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的錳合金濺射靶，其特征在于，每單位面積(100μm×100μm)的粒徑為5μm以上的氧化物粒子的數(shù)目為1以下。
3.(刪除)4.(刪除)5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的錳合金濺射靶，其特征在于，由選自Ni、Pd、Pt、Rh、Ir、Au、Ru、Os、Cr和Re的至少一種與其余的Mn 10-98at％構(gòu)成。
6.一種錳合金濺射靶制造方法，其特征在于，將通過(guò)感應(yīng)熔煉法、電弧熔煉法、或電子束熔煉法等的熔煉得到的錳合金錠以平均實(shí)際應(yīng)變速率1×10-2～2×10-5(l/s)進(jìn)行鍛造。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的錳合金濺射靶制造方法，其特征在于，鍛造在0.75Tm(K)≤T(K)≤0.98Tm(K)的鍛造溫度下進(jìn)行(其中T(K)為鍛造溫度，Tm(K)為錳合金的熔點(diǎn))。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的錳合金濺射靶制造方法，其特征在于，鍛造在0.80Tm(K)≤T(K)≤0.90Tm(K)的鍛造溫度下進(jìn)行(其中T(K)為鍛造溫度，Tm(K)為錳合金的熔點(diǎn))。
9.根據(jù)權(quán)利要求6-8各項(xiàng)所述的錳合金濺射靶制造方法，其特征在于，鍛造以30％≤壓下率≤99％的壓下率進(jìn)行。
10.根據(jù)權(quán)利要求6-9各項(xiàng)所述的錳合金濺射靶制造方法，其特征在于，進(jìn)行鐓鍛或型鍛。
11.根據(jù)權(quán)利要求6-10各項(xiàng)所述的錳合金濺射靶制造方法，其特征在于，鍛造在真空中或在惰性氣氛下進(jìn)行。
12.根據(jù)權(quán)利要求6-11各項(xiàng)所述的錳合金濺射靶制造方法，其特征在于，氧含量為1000ppm以下，硫含量為200ppm以下。
13.根據(jù)權(quán)利要求6-12各項(xiàng)所述的錳合金濺射靶制造方法，其特征在于，每單位面積(100μm×100μm)的粒徑為5μm以上的氧化物粒子的數(shù)目為1以下。
14.根據(jù)權(quán)利要求6-13各項(xiàng)所述的錳合金濺射靶制造方法，其特征在于，具有單相等軸晶粒結(jié)構(gòu)。
15.根據(jù)權(quán)利要求6-14各項(xiàng)所述的錳合金濺射靶制造方法，其特征在于，結(jié)晶粒徑為500μm以下。
16.根據(jù)權(quán)利要求6-15各項(xiàng)所述的錳合金濺射靶制造方法，其特征在于，由選自Ni、Pd、Pt、Rh、Ir、Au、Ru、Os、Cr和Re的至少一種與其余的Mn 10-98at％構(gòu)成。
權(quán)利要求
1.一種錳合金濺射靶，其特征在于，氧含量為1000ppm以下，硫含量為200ppm以下，并且具有鍛造組織。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的錳合金濺射靶，其特征在于，每單位面積(100μm×100μm)的粒徑為5μm以上的氧化物粒子的數(shù)目為1以下。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的錳合金濺射靶，其特征在于，具有單相等軸晶粒結(jié)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3各項(xiàng)所述的錳合金濺射靶，其特征在于，結(jié)晶粒徑為500μm以下。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4各項(xiàng)所述的錳合金濺射靶，其特征在于，由選自Ni、Pd、Pt、Rh、Ir、Au、Ru、Os、Cr和Re的至少一種與其余的Mn 10-98at％構(gòu)成。
6.一種錳合金濺射靶制造方法，其特征在于，將通過(guò)感應(yīng)熔煉法、電弧熔煉法、或電子束熔煉法等的熔煉得到的錳合金錠以平均實(shí)際應(yīng)變速率1×10-2～2×10-5(l/s)進(jìn)行鍛造。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的錳合金濺射靶制造方法，其特征在于，鍛造在0.75Tm(K)≤T(K)≤0.98Tm(K)的鍛造溫度下進(jìn)行(其中T(K)為鍛造溫度，Tm(K)為錳合金的熔點(diǎn))。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的錳合金濺射靶制造方法，其特征在于，鍛造在0.80Tm(K)≤T(K)≤0.90Tm(K)的鍛造溫度下進(jìn)行(其中T(K)為鍛造溫度，Tm(K)為錳合金的熔點(diǎn))。
9.根據(jù)權(quán)利要求6-8各項(xiàng)所述的錳合金濺射靶制造方法，其特征在于，鍛造以30％≤壓下率≤99％的壓下率進(jìn)行。
10.根據(jù)權(quán)利要求6-9各項(xiàng)所述的錳合金濺射靶制造方法，其特征在于，進(jìn)行鐓鍛或型鍛。
11.根據(jù)權(quán)利要求6-10各項(xiàng)所述的錳合金濺射靶制造方法，其特征在于，鍛造在真空中或在惰性氣氛下進(jìn)行。
12.根據(jù)權(quán)利要求6-11各項(xiàng)所述的錳合金濺射靶制造方法，其特征在于，氧含量為1000ppm以下，硫含量為200ppm以下。
13.根據(jù)權(quán)利要求6-12各項(xiàng)所述的錳合金濺射靶制造方法，其特征在于，每單位面積(100μm×100μm)的粒徑為5μm以上的氧化物粒子的數(shù)目為1以下。
14.根據(jù)權(quán)利要求6-13各項(xiàng)所述的錳合金濺射靶制造方法，其特征在于，具有單相等軸晶粒結(jié)構(gòu)。
15.根據(jù)權(quán)利要求6-14各項(xiàng)所述的錳合金濺射靶制造方法，其特征在于，結(jié)晶粒徑為500μm以下。
16.根據(jù)權(quán)利要求6-15各項(xiàng)所述的錳合金濺射靶制造方法，其特征在于，由選自Ni、Pd、Pt、Rh、Ir、Au、Ru、Os、Cr和Re的至少一種與其余的Mn 10-98at％構(gòu)成。
全文摘要
本發(fā)明提供特征在于氧含量1000ppm以下、硫含量200ppm以下、具有鍛造組織的錳合金濺射靶，和通過(guò)消除易于開(kāi)裂、斷裂強(qiáng)度低的錳合金的缺陷，穩(wěn)定制造鍛造錳合金靶的方法。得到了結(jié)節(jié)和粒子的產(chǎn)生少、并且可以形成具有高特性、高耐蝕性的薄膜的錳合金濺射靶。
文檔編號(hào)B21J5/02GK1503855SQ02808289
公開(kāi)日2004年6月9日 申請(qǐng)日期2002年2月18日 優(yōu)先權(quán)日2001年4月16日
發(fā)明者中村祐一郎, 中村一郎 申請(qǐng)人:株式會(huì)社日礦材料